一种显示基板及显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及显示装置。
【背景技术】
[0002]显示装置包括依次设置的彩膜基板、液晶层和阵列基板。图1示出了现有技术中的一种用于显示装置的彩膜基板，该彩膜基板包括显示区I’(也称为亚像素)、设在各显示区I’周围的黑矩阵2’、设在黑矩阵2’上的隔垫物3’和与液晶层接触的取向膜4’。其中，隔垫物3’具有较大的高度，从而支撑彩膜基板和阵列基板，使显示装置形成一定的厚度；取向膜4’的表面经过摩擦辊的摩擦，从而使显示装置中的液晶分子产生一定方向的取向。在摩擦过程中，由于隔垫物3’的高度较大，使得摩擦辊不能到达隔垫物3’的底部两侧，导致该位置处的取向膜4’的表面不能受到摩擦或摩擦不充分，该取向膜4’没有受到摩擦或摩擦不充分的部分41’通常称为取向摩擦阴影。
[0003]当取向摩擦方向与阵列基板的栅线的延伸方向平行时，取向摩擦阴影全部落入黑矩阵的范围内；但是当取向摩擦方向与阵列基板的数据线的延伸方向平行时，取向摩擦阴影41’延伸至黑矩阵2’以外的显示区I’内，光从取向摩擦阴影41’与显示区I’的重叠区域处的紊乱液晶中穿过，导致显示装置的显示区漏光的问题，进而影响显示装置的显示效果O
【发明内容】
[0004]本发明的实施例提供一种显示基板及显示装置，解决了现有的显示装置中显示区处漏光的问题。
[0005]为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案:
[0006]一种显示基板，所述显示基板包括亚像素、设在各亚像素周围的黑矩阵和设在所述黑矩阵上的隔垫物，所述黑矩阵的全部或部分区域包括主区域和辅区域，位于取向摩擦方向上的相邻两个所述亚像素之间设有所述主区域或者所述辅区域，所述隔垫物位于所述主区域上，所述主区域能够遮挡取向摩擦阴影。
[0007]在取向摩擦方向上，所述主区域两侧的两个所述亚像素之间的距离大于所述辅区域两侧的两个所述亚像素之间的距离。
[0008]在取向摩擦方向上，所述主区域和所述辅区域交替间隔设置。
[0009]任意一个所述主区域和与之相邻的一个所述辅区域在取向摩擦方向上的宽度之和保持一致。
[0010]沿与取向摩擦方向垂直的方向排列的相邻两排所述亚像素之间仅设置有所述主区域或者所述辅区域。
[0011]在与取向摩擦方向垂直的方向上，在相邻两排所述亚像素之间所述主区域和所述辅区域交替间隔设置。
[0012]在取向摩擦方向上，所述辅区域两侧的两个所述亚像素之间的距离大于等于10 μ m0
[0013]在取向摩擦方向上，所述辅区域两侧的两个所述亚像素之间的距离为30 μπι，所述辅区域两侧的两个所述亚像素之间的距离为?ο μπι。
[0014]所述隔垫物位于所述主区域的与取向摩擦方向垂直的中心线上。
[0015]所述隔垫物位于所述主区域的与取向摩擦方向垂直的中心线相偏离的位置处，并向与取向摩擦方向相反的方向偏离。
[0016]本发明实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括如上所述的显示基板。
[0017]本发明实施例提供的显示基板中，由于隔垫物位于主区域上，且该主区域能够遮挡取向摩擦阴影，从而使得摩擦阴影不能延伸至显示装置的显示区中，从而解决了显示装置中显示区漏光的问题，提高了显示装置的显示效果。
【附图说明】
[0018]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1为现有技术中一种彩膜基板的截面示意图；
[0020]图2为本发明实施例中第一种显示基板的平面示意图；
[0021]图3a为本发明实施例中第二种显示基板的平面示意图；
[0022]图3b为本发明实施例中第三种显示基板的平面示意图；
[0023]图3c为本发明实施例中第四种显示基板的平面示意图；
[0024]图4为本发明实施例中第五种显示基板的平面示意图；
[0025]图5为本发明实施例中第六种显示基板的平面示意图。
【具体实施方式】
[0026]下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
[0027]本发明实施例提供了一种显示基板，如图2所示，该显示基板包括亚像素1、设在各亚像素I周围的黑矩阵2和设在黑矩阵2上的隔垫物3，黑矩阵2的全部或部分区域包括主区域21和辅区域22，位于取向摩擦方向00’上的相邻两个亚像素I之间设有主区域21或者辅区域22，隔垫物3位于主区域21上，主区域21能够遮挡取向摩擦阴影。
[0028]需要说明的是，本发明实施例提供的显示基板可以是阵列基板或彩膜基板。此处以彩膜基板为例进行说明，此时亚像素对应的设置RGB彩膜，在对显示基板的取向膜进行摩擦时，取向摩擦方向00’与阵列基板的数据线AA’的延伸方向平行。
[0029]需要说明的是，本发明实施例中，黑矩阵2的部分区域可以包括主区域21和辅区域22，优选地，黑矩阵2的全部区域包括主区域21和辅区域22。
[0030]需要说明的是，本发明实施例中，隔垫物3设置于主区域21上，为了使主区域21能够遮挡取向摩擦阴影，可以增大主区域21在取向摩擦方向00’上的覆盖范围，使得主区域21在取向摩擦方向00’上的覆盖范围大于现有技术中位于取向摩擦方向00’上的相邻两个亚像素之间的黑矩阵的覆盖范围。进一步地，为了减小对显示基板的开口率的影响，在使主区域21在取向摩擦方向00’上的覆盖范围增大的同时，缩小辅区域22在取向摩擦方向00’上的覆盖范围，使得辅区域22在取向摩擦方向00’上的覆盖范围小于现有技术中位于取向摩擦方向00’上的相邻两个亚像素之间的黑矩阵的覆盖范围，也就是说，主区域21在取向摩擦方向00’上的覆盖范围大于辅区域22在取向摩擦方向00’上的覆盖范围。此时，亚像素I向主区域21的覆盖范围增大的方向发生移动。
[0031]本发明实施例中，主区域的形状优选为矩形，从而使得显示基板的制造方法简单。当然，主区域也可以是除矩形以外的其它形状，例如，在取向摩擦方向上，主区域的两侧边缘为圆弧段，相对于矩形形状的主区域，该形状的主区域占用面积较小，可以增大亚像素的面积，因此，可以增大显示基板的开口率。
[0032]为了便于本领域技术人员理解本发明实施例中的显示基板，下面本发明实施例具体提供了三种显示基板，这三种显示基板的区别点在于主区域和辅区域在取向摩擦方向上的排布方式不同。
[0033]第一种显示基板，如图3a所示，在取向摩擦方向00’上，每隔至少两个辅区域22设置一个主区域21。在该显示基板中，主区域21的数目少于辅区域22数目，由于只在主区域21上设置隔垫物3，辅区域22上不设置隔垫物3，使得隔垫物3的数目较少，且辅区域22的覆盖范围小于主区域21的覆盖范围，因此，该种排布方式增大了显示基板的开口率。
[0034]第二种显示基板，如图3b所示，在取向摩擦方向00’上，每隔至少两个主区域21设置一个辅区域22。在该显示基板中，主区域21的数目多于辅区域22的数目，隔垫物3的数量较多，该种排布方式对液晶盒厚的支撑力度大于图3a公开的显示基板中隔垫物对液晶盒厚的支撑力度。
[0035]第三种显示基板，如图3c所示，在取向摩擦方向00’上，主区域21和辅区域22交替间隔设置。在该显示基板中，主区域21的数目等于辅区域22的数目，隔垫物3的数量介于图3a的显示基板和图3b的显示基板之间；并且，主区域21的数目等于辅区域22的数目，且主区域21在取向摩擦方向00’上的覆盖范围较大，而辅区域22在取向摩擦方向00’上的覆盖范围较小，二者形成互补，因此，该种排布方式能够获得较大的显示基板开口率和较好的隔垫物支撑力度。因