在的位于交叉跨接结构处的透明衬垫的严重挤压造成的短路现象，本发明对现有的液晶显示面板作如下方案中的改进。
[0045]本发明实施例提供了一种液晶显不面板，如图2所不，为本发明实施例提供的一种液晶显示面板中涂布有封框胶的边框区域的剖面结构示意图，由图2可知，该液晶显示面板包括:阵列基板1，与阵列基板I相对设置的彩膜基板2，在彩膜基板2中靠近阵列基板I的一侧设置有至少一个凹槽21，每个凹槽21对应所述阵列基板I中一个由任意两条绝缘交叠的金属线形成的交叉跨接结构11，其中，所述每个凹槽21在所述阵列基板I上的垂直投影覆盖与自身对应的交叉跨接结构11，且所述每个凹槽21在垂直阵列基板方向上的深度hi不小于自身对应的交叉跨接结构的高度h2。
[0046]通过上述改进方案，使得液晶显示面板中，具体到边框区域的每个交叉跨接结构处，在彩膜基板一侧均设置有一个凹槽，且凹槽的深度不小于相对应的交叉跨接结构的高度，凹槽在阵列基板上的垂直投影能够完全覆盖相对应的交叉跨接结构，从而，保证了具有交叉跨接结构的阵列基板与对侧的彩膜基板之间的空隙间距与其他不具有交叉跨接结构处的空隙间距一致，在该交叉跨接结构存在透明衬垫的情况下，也可以有足够的空隙间距容纳透明衬垫，不致于透明衬垫由于空隙间距较小而对该交叉跨接结构造成严重挤压，避免了该交叉跨接结构处的上、下金属线的短路，从而，提高了液晶显示面板的良率。
[0047]进一步，在本发明实施例中，彩膜基板中的凹槽结构在平行于彩膜基板方向上的位置已经固定，由上可知，是根据相对应的交叉跨接结构确定的，但是，凹槽结构在垂直于彩膜基板方向上的位置，可以由以下两种结构体现:
[0048]结构一:
[0049]如图3所示，为本发明实施例中凹槽结构设置在彩膜基板的黑矩阵膜层的结构示意图，该彩膜基板3包括:彩膜基底31，位于彩膜基底31之上的具有至少一个凹槽结构32的黑矩阵膜层33，覆盖所述黑矩阵膜层33的保护膜层34。
[0050]在该彩膜基板3中，通过在黑矩阵膜层33设置至少一凹槽结构32，进而，覆盖在黑矩阵膜层33之上的保护膜层34也会相应形成至少一凹槽结构32，这样，相当于黑矩阵膜层33的凹槽结构32间接体现在了保护膜层34上，总之，在彩膜基板3上形成了能够与对侧的阵列基板中的交叉跨接结构(可等同一凸起结构)相对应的凹槽结构32，进而，能够保证该彩膜基板3后续与对侧的阵列基板之间的空隙间距与其他不具有交叉跨接结构处的空隙间距一致，由于该凹槽结构32的存在，使得在交叉跨接结构存在透明衬垫的情况下，也可以有足够的空隙间距容纳透明衬垫，不致于透明衬垫由于空隙间距较小而对该交叉跨接结构造成严重挤压，避免了交叉跨接结构处的上、下金属线的短路，从而，提高了液晶显示面板的良率。
[0051]结构二:
[0052]如图4所示，为本发明实施例中凹槽结构设置在彩膜基板的保护膜层的结构示意图，该彩膜基板4包括:彩膜基底41，位于彩膜基底41之上的黑矩阵膜层43，覆盖所述黑矩阵膜层43的具有至少一凹槽结构42的保护膜层44。
[0053]考虑到在黑矩阵膜层设置凹槽结构时，如果对侧阵列基板上与该凹槽结构相对应的交叉跨接结构的高度较高，以至交叉跨接结构的高度非常接近黑矩阵膜层的厚度，那么，若仍在黑矩阵膜层设置凹槽结构的话，必定会对黑矩阵膜层造成严重损坏，甚至会导致黑矩阵膜层漏光，影响液晶显示面板的显示效果。因此，上述结构一比较适合交叉跨接结构的高度较低的情况，而结构二并不关心交叉跨接结构的高度，而是对所有涉及现有技术中交叉跨接结构的方案都适用，最为关键的是，结构二中的凹槽设置位置，同样可以达到如结构一中凹槽设置位置的效果，即:能够保证该彩膜基板4后续与对侧的阵列基板之间的空隙间距与其他不具有交叉跨接结构处的空隙间距一致，由于该凹槽结构42的存在，使得在交叉跨接结构存在透明衬垫的情况下，也可以有足够的空隙间距容纳透明衬垫，不致于透明衬垫由于空隙间距较小而对该交叉跨接结构造成严重挤压，避免了交叉跨接结构处的上、下金属线的短路，从而，提尚了液晶显不面板的良率。
[0054]此外，需要说明的是，对于凹槽的设置位置在黑矩阵膜层还是在保护膜层，本发明并不进行限定，为了能够达到避免短路的问题，凹槽可以设置在黑矩阵膜层，也可以设置在保护膜层，其实，在不考虑工艺实现要求的情况下，针对同一凹槽结构，也可以部分设置在黑矩阵膜层，部分设置在保护膜层，或者，任意几个凹槽设置在黑矩阵膜层，其他凹槽设置在保护膜层。但是，为了实现本发明的技术效果的同时，不增加制作工艺难度，本发明仍以结构一和结构二的两种结构为主。
[0055]优选地，在本发明实施例中，由于绝缘交叠的金属线形成的交叉跨接结构的图案一般为矩形、圆形、三角形等图案，因此，对侧相应形成的凹槽在所述阵列基板上的垂直投影的图案也可以为矩形、圆形或三角形。
[0056]考虑到在阵列基板中布设的金属线的厚度有限，一般在340nm?460nm之间，因此，在彩膜基板侧设置的凹槽在垂直阵列基板方向上的深度范围为:380nm?500nm。优选地，在彩膜基板侧设置的凹槽在垂直阵列基板方向上的最佳深度为500nm。
[0057]在本发明实施例中，彩膜基板侧设置的凹槽在阵列基板方向上的垂直投影覆盖与自身相对应的交叉跨接结构，然而，在可接受误差允许的情况下，对位贴合会存在一定偏差，因此，为了保证对位贴合偏差存在的情况下，彩膜基板侧设置的凹槽在阵列基板方向上的垂直投影仍能够覆盖与自身相对应的交叉跨接结构，优选地，彩膜基板侧设置的凹槽结构在阵列基板上的垂直投影的尺寸面积与交叉跨接结构的尺寸面积的比例范围为:1.2?2。
[0058]在上述实施例中，任意两条绝缘交叠的金属线形成交叉跨接结构，其中，任意两条绝缘交叠的金属线可以是Vss信号线与时钟信号线，例如:Vss信号线与时钟信号线I形成交叉跨接结构l，Vss信号线与时钟信号线2形成交叉跨接结构2，或者，时钟信号线I与时钟信号线2形成交叉跨接结构3，诸如此类，在此不做赘述。
[0059]与本发明上述实施例提供的一种液晶显示面板属于同一发明构思，本发明实施例还提供了一种液晶显示面板的制作方法。
[0060]如图5所示，为本发明实施例提供的一种液晶显示面板的制作方法的流程示意图，该方法主要包括以下步骤:
[0061]步骤51:制作一阵列基板。
[0062]在本步骤51中，阵列基板的制作方法与现有技术类似，在此不做赘述。需要说明的是，本发明所涉及的液晶显示面板为窄边框设计，因此，如图6(a)所示，阵列基板61侧的布线，尤其是绝缘交叠的金属线形成的交叉跨接结构611会出现在边框区域。
[0063]步骤52:制作一彩膜基板，在所述彩膜基板的待涂布封框胶的区域形成至少一个凹槽结构，每个凹槽对应所述阵列基板中一个由任意两条绝缘交叠的金属线形成的交叉跨接结构。
[0064]其中，所述每个凹槽在所述阵列基板上的垂直投影覆盖自身对应的交叉跨接结构，且所述每个凹槽在垂直阵列基板方向上的深度不小于所述交叉跨接结构的高度。
[0065]首先，需要说明的是，本步骤52与上述步骤51的顺序可调，即可先制作彩膜基板，再制作阵列基板，本发明并不对两个基板制作的先后顺序进行限定。
[0066]其次，在本步骤52