中，彩膜基板可以通过以下两种方式制作:
[0067]方式一:
[0068]提供一彩膜基底，在彩膜基底之上形成具有至少一个凹槽结构的黑矩阵膜层，在所述黑矩阵膜层之上形成保护膜层。
[0069]如图6 (b)所示，首先，提供一彩膜基底62，其中，该彩膜基底62可以是玻璃基底或石英基底等。然后，在彩膜基底62上，可以通过PEVCD等沉积工艺形成覆盖整个彩膜基底62的黑矩阵膜层621。接着，利用半透掩膜版63对黑矩阵膜层621进行曝光、显影，形成具有至少一个凹槽结构622的黑矩阵膜层623。最后，在黑矩阵膜层623之上形成覆盖整个彩膜基底62的保护膜层624。
[0070]方式二:
[0071]提供一彩膜基底，在所述彩膜基底之上形成黑矩阵膜膜层，在所述黑矩阵膜层之上形成具有至少一个凹槽结构的保护膜层。
[0072]如图6(c)所示，首先，提供一彩膜基底62 '，其中，该彩膜基底62 '可以是玻璃基底或石英基底等。然后，在彩膜基底62'上，可以通过PEV⑶等沉积工艺形成覆盖整个彩膜基底62 '的黑矩阵膜层621 '。接着，在黑矩阵膜层621 '上形成保护膜层622 '。最后，利用半透掩膜版63对保护膜层622 '进行曝光、显影，形成具有至少一个凹槽结构623丨的保护膜层624丨。
[0073]需要说明的是，在上述利用半透掩膜版63进行曝光、显影时，可通过控制曝光光强得到所需深度的凹槽。其中，半透掩膜版63的半透光区域的图案根据所需凹槽结构在垂直阵列基板方向上的投影的图案决定。
[0074]步骤53:将所述阵列基板与所述彩膜基板对位贴合，形成液晶显示面板。
[0075]如图6(d)所示，将阵列基板61与彩膜基底62形成的彩膜基板对位贴合，通过涂布的封框胶64粘合在一起，形成液晶显示面板A。其中，封框胶64中掺杂有球状的透明衬垫65，阵列基板61的交叉跨接结构611与彩膜基底62形成的彩膜基板的凹槽结构622之间的空隙间距与其他位置的空隙间距一致，保证了透明衬垫65有足够的容纳空间，不致于透明衬垫65对交叉跨接结构611进行严重挤压，避免了交叉跨接结构处的上、下金属线的短路。
[0076]如图6(e)所示，将阵列基板61与彩膜基板62 ’对位贴合，通过涂布的封框胶64粘合在一起，形成液晶显示面板B。其中，封框胶64中掺杂有球状的透明衬垫65，阵列基板61的交叉跨接结构611与彩膜基板62 '的凹槽结构623 '之间的空隙间距与其他位置的空隙间距一致，保证了透明衬垫65有足够的容纳空间，不致于透明衬垫65对交叉跨接结构611进行严重挤压，避免了交叉跨接结构处的上、下金属线的短路。
[0077]此外，在本发明实施例中，还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述实施例所涉及的任意一种液晶显示面板，所述显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
[0078]尽管已描述了本发明的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本发明范围的所有变更和修改。
[0079]显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
【主权项】
1.一种液晶显示面板，包括阵列基板、与所述阵列基板相对设置的彩膜基板，其特征在于， 针对所述液晶显示面板中涂布有封框胶的区域，在所述彩膜基板中靠近阵列基板的一侧设置有至少一个凹槽，每个凹槽对应所述阵列基板中一个由任意两条绝缘交叠的金属线形成的交叉跨接结构，其中，所述每个凹槽在所述阵列基板上的垂直投影覆盖与自身对应的交叉跨接结构，且所述每个凹槽在垂直阵列基板方向上的深度不小于自身对应的交叉跨接结构的高度。
2.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述彩膜基板包括: 彩膜基底； 位于彩膜基底之上的具有至少一个凹槽结构的黑矩阵膜层； 覆盖所述黑矩阵膜层的保护膜层。
3.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述彩膜基板包括: 彩膜基底； 位于彩膜基底之上的黑矩阵膜层； 位于所述黑矩阵膜层之上的具有至少一个凹槽结构的保护膜层。
4.如权利要求1-3任一所述的液晶显示面板，其特征在于，所述凹槽在所述阵列基板上的垂直投影的图案为矩形、圆形或三角形。
5.如权利要求1-3任一所述的液晶显示面板，其特征在于，所述凹槽在垂直阵列基板方向上的深度范围为:380nm?500nm。
6.如权利要求5所述的液晶显示面板，其特征在于，所述凹槽在垂直阵列基板方向上的深度为500nmo
7.如权利要求1-3任一所述的液晶显示面板，其特征在于，所述凹槽在所述阵列基板上的垂直投影的尺寸面积与所述交叉跨接结构的尺寸面积的比例范围为:1.2?2。
8.一种液晶显示面板的制作方法，包括:制作一阵列基板以及一彩膜基板，将所述阵列基板与所述彩膜基板对位贴合，形成液晶显示面板，其特征在于， 所述彩膜基板的制作方法包括:在待涂布封框胶的区域形成至少一个凹槽，每个凹槽对应所述阵列基板中一个由任意两条绝缘交叠的金属线形成的交叉跨接结构，其中，所述每个凹槽在所述阵列基板上的垂直投影覆盖自身对应的交叉跨接结构，且所述每个凹槽在垂直阵列基板方向上的深度不小于所述交叉跨接结构的高度。
9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述彩膜基板的制作方法具体包括: 提供一彩膜基底； 在所述彩膜基底之上形成具有至少一个凹槽结构的黑矩阵膜层； 在所述黑矩阵膜层之上形成保护膜层。
10.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述彩膜基板的制作方法具体包括: 提供一彩膜基底； 在所述彩膜基底之上形成黑矩阵膜膜层； 在所述黑矩阵膜层之上形成具有至少一个凹槽结构的保护膜层。
11.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-7任一所述的液晶显示面板。
【专利摘要】本发明公开了一种液晶显示面板及其制作方法、显示装置，主要内容包括：通过在彩膜基板中靠近阵列基板的一侧设置至少一个凹槽，该凹槽对应阵列基板中一个由任意两条绝缘交叠的金属线形成的交叉跨接结构，每个凹槽在阵列基板上的垂直投影能够覆盖与自身对应的交叉跨接结构，每个凹槽在垂直阵列基板方向上的深度不小于自身对应的交叉跨接结构的高度。从而，使得具有交叉跨接结构处的阵列基板与对侧的彩膜基板之间的空隙间距与不具有交叉跨接结构处的空隙间距一致，保证透明衬垫在该位置处有足够的容纳空间，不致于在对位贴合时对该交叉跨接结构的严重挤压，避免了该交叉跨接结构处的上、下金属线的短路，从而，提高了液晶显示面板的良率。
【IPC分类】G02F1-1333, G02F1-1335
【公开号】CN104765195
【申请号】CN201510230681
【发明人】陈华斌
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方显示技术有限公司
【公开日】2015年7月8日
【申请日】2015年5月7日