感光性聚硅氧烷组合物、保护膜及具有保护膜的元件的制作方法

文档序号:8519574阅读:334来源:国知局
感光性聚硅氧烷组合物、保护膜及具有保护膜的元件的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种感光性聚硅氧烷组合物、保护膜及具有保护膜的元件。特别涉及 一种用来形成具有良好断面形状及耐热性的保护膜的感光性聚硅氧烷组合物、具有良好断 面形状及耐热性的保护膜及具有所述保护膜的元件。
【背景技术】
[0002] 近年来,为了提升液晶显示器(liquid crystal display, LCD)以及有机电致发光 显示器(organic electro-luminescence display, OELD)的精细度及解析度,习知以提高 开口率的方法来达到上述目的。此方法是藉由将透明的平坦化膜(planarization film) 作为保护膜并设置于薄膜电晶体管(thin-film transistor, TFT)的上部,藉此使资料线与 像素电极可重叠,而实现了比习知技术更高的开口率。
[0003] -般而言,作为平坦化膜的材料需要兼具高耐热性、高透明性以及高介电常数的 材料。日本特开平第7-98502号揭露一种含有酚醛树脂(Novolac resin)与醌二叠氮化 合物(quinone diazide compound)的组合物。日本特开平第10-153854号及日本特开第 2001-281853号揭露一种含有丙烯酸系树脂(Acrylic resins)及醌二叠氮化合物的组合 物。但是,这些材料的耐热性不够,由于基板的高温处理而固化膜着色,而存在透明性降低 的问题。
[0004] 另一方面,习知以硅氧烷聚合物作为高耐热性、高透明性以及高介电常数的材 料。为了赋予硅氧烷聚合物的感光性而组合了醌二叠氮化合物。举例而言,美国专利申 请公开第2003-211407号揭露一种将末端具有酚性羟基的硅氧烷聚合物与醌二叠氮化合 物组合的组合物;日本特开平第3-59667号揭露一种透过环化加成反应(cycloaddition reaction)而加成的酚性羟基或羧基等的硅氧烷聚合物与醌二叠氮化合物组合的组合物。 然而,上述组合物因存在大量的醌二叠氮化合物或者在硅氧烷聚合物中存在酚性羟基而容 易发生涂膜白化或热固化时着色等问题。更值得一提的是,上述习知的组合物皆存在断面 形状不佳的问题,因此不利于应用。
[0005] 于是,亟需发展一种感光性组合物,其所形成的保护膜具有良好的断面形状。

【发明内容】

[0006] 有鉴于此,本发明提供一种用于保护膜的感光性聚硅氧烷组合物,其能够改善上 述保护膜的断面形状不佳的问题。
[0007] 本发明提供一种感光性聚硅氧烷组合物,其包括聚硅氧烷(A)、邻萘醌二叠氮磺酸 酯(B)、含酰胺酸基的硅烷化合物(C)以及溶剂(D)。聚硅氧烷(A)是由式(1)所示的化合 物聚缩合来形成,
[0008] Si(R1)ff(0R2)4_ff
[0009] 式(1)
[0010] 式⑴中,R1各自独立表示氢原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的烯基、 碳数为6至15的芳香基、含有酸酐基的烷基、含有环氧基的烷基或含有环氧基的烷氧基;R2 各自独立表示氢原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酰基或碳数为6至15的芳香 基;w表示选自0、1、2、3的整数。
[0011] 含酰胺酸基的硅烷化合物(C)是由式(2)来表示
【主权项】
1. 一种感光性聚硅氧烷组合物,其特征在于,其包括: 聚硅氧烷(A); 邻蒙酿二叠氮横酸醋炬); 含酷胺酸基的硅烷化合物(C) 及 溶剂值), 其中所述聚硅氧烷(A)是由式(1)所示的化合物聚缩合来形成, Si巧%(0R2)4_w 式(1) 式(1)中,Ri各自独立表示氨原子、碳数为1至10的烷基、碳数为2至10的締基、碳数 为6至15的芳香基、含有酸酢基的烷基、含有环氧基的烷基或含有环氧基的烷氧基;R2各自 独立表示氨原子、碳数为1至6的烷基、碳数为1至6的酷基或碳数为6至15的芳香基;W 表示选自〇、1、2、3的整数。 所述含酷胺酸基的硅烷化合物(C)是由式(2)来表示,
式(2)中,R3及R3'各自独立表示碳数为1至6的烷基、经取代的碳数为1至6的烷基、 碳数为1至6的烷氧基、经取代的碳数为1至6的烷氧基、苯基、经取代的苯基、苯氧基或经 取代的苯氧基;R4及R4'各自独立表示碳数为1至10的二价有机基;R5表示碳数为2至20 的有机基。
2. 权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组合物,其中,于式(1)中,Ri至少一者为含有酸 酢基的烷基、含有环氧基的烷基或含有环氧基的烷氧基。
3. 权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组合物,其中,基于所述聚硅氧烷(A)的使用量为 100重量份,所述邻蒙酿二叠氮横酸醋炬)的使用量为1至30重量份,所述含酷胺酸基的娃 烧化合物(C)的使用量为0. 1至10重量份,并且所述溶剂值)的使用量为100至1200重 量份。
4. 权利要求1所述的感光性聚硅氧烷组合物,更包括含氮的杂环化合物巧),所述含氮 的杂环化合物巧)选自由式(3)、式(4)、式(5)及式(6)表示的化合物所组成的族群,
式(3)、式(4)、式(5)及式(6)中,Xi与X2各自独立表示氨原子、酷基或烷基;R巧R" 各自独立表示氨原子、哲基、駿酸基、横酸基、烷基、氨基、面素原子或琉基;m、n、q、s各自独 立表示选自〇、1、2、3的整数;p、r各自独立表示选自0、1、2的整数;t、u各自独立表示选自 0、1、2、3、4的整数。
5. 权利要求4所述的感光性聚硅氧烷组合物,其中,基于聚硅氧烷(A)的使用量为100 重量份,所述含氮的杂环化合物巧)的使用量为0. 05至2重量份。
6. -种保护膜,其特征在于,其包括权利要求1~5中任一项所述的感光性聚硅氧烷组 合物。
7. -种具有保护膜的元件,其特征在于,其包括元件W及权利要求6所述的保护膜,其 中所述保护膜覆盖在所述元件上。
【专利摘要】本发明提供一种感光性聚硅氧烷组合物、保护膜及具有保护膜的元件。所述感光性聚硅氧烷组合物包括聚硅氧烷(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、含酰胺酸基的硅烷化合物(C)以及溶剂(D)。当将所述感光性聚硅氧烷组合物用于形成保护膜时,保护膜表现出良好的断面形状及耐热性。
【IPC分类】G03F7-075
【公开号】CN104849962
【申请号】CN201510070740
【发明人】黄伟杰, 施俊安
【申请人】奇美实业股份有限公司
【公开日】2015年8月19日
【申请日】2015年2月11日
【公告号】US20150234275
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