点可以使得显示装置的色域更广，饱和度更高。另外，每个子像素区域内设置填充腔，量子点是填充在所述填充腔内的，无需在彩膜基板上制作色阻块，从而简化了制作工艺，且量子点的分布更加均匀，色域提高得更明显。
【附图说明】
[0047]附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的【具体实施方式】一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中:
[0048]图1是现有的彩膜基板的结构示意图；
[0049]图2是本发明的实施例中彩膜基板的结构示意图；
[0050]图3是本发明的实施例中彩膜基板的制作方法示意图；
[0051]图4是本发明的实施例中在衬底上形成黑矩阵后的俯视图；
[0052]图5-图8是向每个子像素区域填充量子点的过程示意图；
[0053]图9是形成模板剂和含硅材料形成孔道的示意图。
[0054]其中，附图标记为:1、色阻块；2、黑矩阵；3、量子点；4、封装胶层；5、介孔材料；6、衬底、核体；8、透明壳体。
【具体实施方式】
[0055]以下结合附图对本发明的【具体实施方式】进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的【具体实施方式】仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
[0056]作为本发明的第一个方面，提供一种彩膜基板，包括多个像素单元，每个像素单元包括多个子像素区域，其中，每个子像素区域内均设置有一个填充腔，至少所述填充腔的顶壁是透明的，所述填充腔内填充有量子点3 (如图2所示)，所有的填充腔内所填充的量子点的材料相同，同一个填充腔内的量子点的粒径相同，在任意一个像素单元中不同子像素区域中的填充腔内的量子点3的粒径不同，以使得任意一个像素单元中，不同子像素区域中的填充腔内的量子点被激发后能够发出颜色互不相同的光线。
[0057]由于量子点具有激发光谱宽、发射光谱窄而对称的特性，可以将背光源的光高效地转化为所需要光，并且，量子点具有较大的斯托克斯位移，即，从背光源中吸收的能量大于辐射的能量，从而避免发射光谱和激发光谱的重叠，提高发射光线的纯度。量子点具有尺寸效应，其发射光谱可以通过量子点的尺寸大小来控制。因此，使用在彩膜基板的子像素区域设置量子点可以使得显示装置的色域更广，饱和度更高。另外，现有技术在色阻块中掺杂一定量子点的方式会出现量子点分布不均匀的现象，并影响形成色阻块时的曝光显影工艺，而本发明中，每个子像素区域内设置填充腔，量子点是填充在所述填充腔内的，无需在彩膜基板上制作色阻块，从而简化了制作工艺，且量子点的分布更加均匀，色域提高得更明显O
[0058]用于激发量子点的光为单一波长的光，具体可以使用波长较短、能量较高的蓝光或紫光。
[0059]在本发明中，填充腔可以具有不同的形式，例如，在衬底基板上刻蚀形成凹槽结构，在凹槽内填充量子点3后再形成透明的顶壁。作为本发明的一种【具体实施方式】，如图2所示，所述彩膜基板包括衬底6、设置在该衬底6上的黑矩阵2和透明封装胶层4，每个子像素区域的边界处均设置有黑矩阵2，黑矩阵2、透明封装胶层4和衬底6围成所述填充腔。在显示装置中，彩膜基板和阵列基板相对设置，阵列基板上设置有数据线、栅线以及薄膜晶体管，黑矩阵2可以对数据线、栅线和薄膜晶体管起到遮挡作用，因此，利用黑矩阵2和透明封装胶层4形成所述填充腔的方式无需再利用其它刻蚀等步骤单独制作填充腔，简化了制作工艺。
[0060]具体地，所述量子点的材料包括砸化镉、硫化镉、碲化镉和砸化锌中的任意一种。
[0061]在本发明中，对每个像素单元的多个子像素区域的颜色不作限定，例如每个像素单元可以包括红、绿、蓝三种颜色的子像素区域，或者，每个像素单元可以包括红、绿、蓝、黄四种颜色的子像素区域，也可以为其他的设置方式。
[0062]作为本发明的一种【具体实施方式】，每个像素单元包括红色子像素区域、蓝色子像素区域和绿色子像素区域，所述量子点的材料为砸化镉，位于蓝色子像素区域的填充腔内的量子点的粒径在[1.5nm，2.5nm)之间，位于绿色子像素区域的填充腔内的量子点的粒径在[2.5nm，3.5nm)之间，位于红色子像素区域的填充腔内的量子点的粒径在[3.5nm，4.5nm]之间。例如，位于蓝色子像素区域的填充腔内的量子点的粒径为1.5nm，位于绿色子像素区域的填充腔内的量子点的粒径为2.5nm，位于红色子像素区域的填充腔内的量子点的粒径为3.5nm。或者，位于蓝色子像素区域的填充腔内的量子点的粒径为2.4nm，位于绿色子像素区域的填充腔内的量子点的粒径为3.4nm，位于红色子像素区域的填充腔内的量子点的粒径为4.4nm。优选地，位于蓝色子像素区域的填充腔内的量子点的粒径为2nm，位于绿色子像素区域的填充腔内的量子点的粒径为3nm，位于红色子像素区域的填充腔内的量子点的粒径为4nm。
[0063]可以理解的是，当每个像素单元包括其他颜色的子像素区域时，可以相应地对量子点的粒径进行调节，以使得每个子像素区域的量子点受到背光源的光线激发后发射相应颜色的光线。而由于量子点所发射的光的能量小于激发量子点的光的能量，用于激发量子点的背光源的光线可以为能量较高的蓝光或紫光。
[0064]在制作所述彩膜基板时，为了便于在每个填充腔内填充量子点，可以在所述填充腔内形成介孔材料，将量子点填充至所述介孔材料的孔道中，量子点填充完毕后，可以通过化学方法去除介孔材料，也可以保留所述介孔材料。介孔材料是指，孔径介于2?50nm之间的一类多孔材料，具有极高的比表面积、狭窄的孔径分布、孔径大小可调等特点。
[0065]具体地，至少在所述蓝色子像素区域和所述绿色子像素区域内的填充腔内设置有介孔材料，所述介孔材料具有多个孔道，所述蓝色子像素区域和所述绿色子像素区域的填充腔内的量子点填充在相应的介孔材料的孔道内，同一个填充腔内的介孔材料的孔道内径相同，且绿色子像素区域的填充腔内的介孔材料的孔道内径小于红色子像素区域的填充腔内的量子点的粒径，蓝色子像素区域的填充腔内的介孔材料的孔道内径小于绿色子像素区域的填充腔内的量子点的粒径。
[0066]因此，在制作所述彩膜基板时，可以首先将第一粒径的量子点填充至红色子像素区域的填充腔内，然后将第二粒径的量子点填充至绿色子像素区域的填充腔内的介孔材料的孔道内，再将第三粒径的量子点填充至蓝色子像素区域的填充腔内的介孔材料的孔道内。可以理解的是，第一粒径大于第二粒径，第二粒径大于第三粒径。由于绿色子像素区域的填充腔内的介孔材料的孔道内径小于第一粒径，蓝色子像素区域的填充腔内介孔材料的孔道内径小于第二粒径。因此，向红色子像素区域的填充腔内填充量子点时，第一粒径的量子点不会落入蓝色子像素区域或绿色子像素区域，向绿色子像素区域的填充腔内填充量子点时，第二粒径的量子点不会落如蓝色子像素区域的填充腔，以使得每个子像素区域的填充腔内的量子点粒径相同。
[0067]当然，也可以在红色子像素区域、绿色子像素区域和蓝色子像素区域的填充腔内均设置所述介孔材料，红色子像素区域的填充腔内的量子点填充在红色子像素区域的介孔材料的孔道内。可以理解的是，红色子像素区域对应的介孔材料的孔道内径应大于或等于红色子像素区域的填充腔内的量子点的粒径。
[0068]当所述彩膜基板制作完成后，可以保留所述介孔材料，可以去除所述介孔材料，需要说明的是，制作所述介孔材料的材料是透明的，以防止显示画面是对光线产生遮挡。
[0069]作为本发明的第二个方面，提供一种彩膜基板的制作方法，所述彩膜基板包括多个像素单元，每个像素单元包括多个子像素区域，如图3所示，所述制作方法包括:
[0070]S1、在每个子像素区域形成具有开口的填充腔；
[0071]S2、在每个子像素区域的填充腔内的填充量子点，其中，所有的填充腔内所填充的量子点的材料相同，并且，同一个填充腔内量子点的粒径相同，在任意一个像素单元中，不同子像素区域中的填充腔内的量子点的粒径不同，以使得任意一个像素单元中，不同子像素区域的填充腔内的量子点被激发后能够发出颜色互不相同的光；
[0072]S3、形成所述填充腔的顶壁，至少所述填充腔的顶壁是透明的。
[0073]具体地，步骤SI包括:在衬底6上每个子像素区域的边界处形成黑矩阵2，如图4所示。步骤S3包括:形成透明封装胶层，从而通过步骤S2在每个填充腔内填充量子点后，透明的封装胶层将量子点封装在相