液晶显示面板与液晶显示装置的制造方法

文档序号:9274096阅读:221来源:国知局
液晶显示面板与液晶显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶显示技术领域,特别涉及一种液晶显示面板与液晶显示装置。
【背景技术】
[0002]液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)具备轻薄、节能、无福射等诸多优点,因此已经逐渐取代传统的阴极射线管(CRT)显示器。目前LCD被广泛地应用于高清晰数字电视、台式计算机、个人数字助理(PDA)、笔记本电脑、移动电话、数码相机等电子设备中。
[0003]常见的LCD可分为窄视角的扭曲向列型(Twisted Nematic,TN)LCD、超扭曲向列型(Super Twisted Nematic,STN)LCD、双层超扭曲向列型(Double-layer Super TwistedNematic,DSTN) LCD 以及广视角的边缘场开关技术(Fringe Field Switching,FFS) LCD、平面转换(In-Plane Switching,IPS) LCD 与垂直配向技术(Vertical Alignment,VA) LCD。其中,IPS型LCD由于其可视角度大、色彩真实、画面出色等各种优势而被广泛地应用于显示设备中。
[0004]LCD的工作原理是给液晶施加外部电压,在电场的作用下,液晶分子会发生排列上的变化,从而影响通过其的光线变化,这种光线的变化通过偏光片的作用可以表现为明暗的变化,因此人们通过对电场的控制最终控制了光线的明暗变化,从而达到显示图像的目的。但是,针对相同电极间距和相同电极宽度的正性液晶IPS架构,若要LCD在显示时,实现颜色不失真,满足画质显示需要,需要3条伽马曲线分别控制红、绿、蓝颜色显示。然而,维持3条伽马曲线需要三组对应的电路,使LCD的设计复杂。
[0005]因此,有必要提供改进的技术方案以克服现有技术中存在的以上技术问题。

【发明内容】

[0006]鉴于以上问题,本发明提供一种液晶显示面板,其画质效果好且设计简单。
[0007]本发明的实施例提供一种液晶显示面板,其包括像素电极层、公共电极层、彩色滤光片层以及介电常数调整膜。所述彩色滤光片层包括第一色阻、第二色阻与第三色阻。所述介电常数调整膜包括第一介电常数调整单元、第二介电常数调整单元与第三介电常数调整单元。其中,所述介电常数调整膜位于所述像素电极层与所述公共电极层之间,所述第一介电常数调整单元、所述第二介电常数调整单元以及所述第三介电常数调整单元分别与所述第一色阻、所述第二色阻以及所述第三色阻对应设置。
[0008]本发明的实施例还提供一种液晶显不装置,其包括上述的液晶显不面板。
[0009]本发明的液晶显示面板与液晶显示装置利用介电常数调整膜调整各个像素的介电常数,进而调整各个像素的跨压,使得各个像素可在相同的电压下达到相同的饱和电压,进而只需要一条伽马曲线对应各个像素,实现高显示画质效果,设计简单。
【附图说明】
[0010]图1为本发明第一实施例所提供的一种液晶显示面板的结构示意图。
[0011]图2为本发明第二实施例所提供的一种液晶显示面板的结构示意图。
[0012]图3a为本发明一实施例所提供的液晶显示面板的红色像素的饱和电压与第一介电常数调整单元的介电常数的曲线示意图。
[0013]图3b为本发明一实施例所提供的液晶显示面板的红色像素的穿透率与第一介电常数调整单元的介电常数的曲线示意图。
[0014]图3c为本发明一实施例所提供的液晶显示面板的红色像素的穿透率与饱和电压的曲线示意图。
[0015]图4a为本发明一实施例所提供的液晶显示面板的绿色像素的饱和电压与第二介电常数调整单元的介电常数的曲线示意图。
[0016]图4b为本发明一实施例所提供的液晶显示面板的绿色像素的穿透率与第二介电常数调整单元的介电常数的曲线示意图。
[0017]图4c为本发明一实施例所提供的液晶显示面板的绿色像素的穿透率与饱和电压的曲线示意图。
[0018]图5a为本发明一实施例所提供的液晶显示面板的蓝色像素的饱和电压与第三介电常数调整单元的介电常数的曲线示意图。
[0019]图5b为本发明一实施例所提供的液晶显示面板的蓝色像素的穿透率与第三介电常数调整单元的介电常数的曲线示意图。
[0020]图5c为本发明一实施例所提供的液晶显示面板的蓝色像素的穿透率与饱和电压的曲线示意图。
[0021]图6a为本发明一实施例所提供的液晶显示面板的各像素的跨压与穿透率的归一化曲线示意图。
[0022]图6b为现有技术的液晶显示面板的各像素的跨压与穿透率的归一化曲线示意图。
【具体实施方式】
[0023]为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例,对依据本发明提出的液晶显示面板及液晶显示装置其【具体实施方式】、方法、步骤、结构、特征及功效,详细说明如后。
[0024]有关本发明的前述及其他技术内容、特点与功效,在以下配合参考图式的较佳实施例的详细说明中将可清楚的呈现。通过【具体实施方式】的说明,当可对本发明为达成预定目的所采取的技术手段及功效得以更加深入且具体的了解,然而所附图式仅是提供参考与说明之用,并非用来对本发明加以限制。
[0025]请参考图1,图1为本发明第一实施例所提供的一种液晶显示面板I的剖面结构示意图,如图1所示,液晶显示面板I包括薄膜晶体管阵列基板10、彩色滤光片基板20和液晶层30,薄膜晶体管阵列基板10与彩色滤光片基板20相对设置,液晶层30位于薄膜晶体管阵列基板10与彩色滤光片基板20之间。
[0026]彩色滤光片基板20包括第一基板200以及依次设置在第一基板200上的黑色矩阵201、彩色滤光片层202和平坦层204,平坦层204位于彩色滤光片层202与液晶层30之间。彩色滤光片层202包括第一色阻202a、第二色阻202b与第三色阻202c,优选地,第一色阻202a为红色色阻,第二色阻202b为绿色色阻,第三色阻202c为蓝色色阻。黑色矩阵201位于第一基板200与平坦层204之间,并且分布在第一色阻202a、第二色阻202b以及第三色阻202c的间隔处。
[0027]薄膜晶体管阵列基板10包括第二基板100、绝缘层101、公共电极层102、介电常数调整膜103以及像素电极层104。其中,绝缘层101设置在第二基板100上,公共电极层102设置在绝缘层101上,介电常数调整膜103设置在公共电极层102上,像素电极层104设置在介电常数调整膜103上,也就是说,介电常数调整膜103位于公共电极层102与像素电极层104之间。其中,像素电极层104包括多个像素电极(未标示)。进一步地,介电常数调整膜103包括第一介电常数调整单元103a、第二介电常数调整单元103b与第三介电常数调整单元103c,并且第一介电常数调整单元103a、第二介电常数调整单元103b与第三介电常数调整单元103c在同一层上。其中,第一介电常数调整单元103a、第二介电常数调整单元103b和第三介电常数调整单元103c分别与第一色阻202a、第二色阻202b与第三色阻202c对应设置。
[0028]第一介电常数调整单元103a可为掺杂氟或者碳的氧化硅薄膜,若是掺杂氟的氧化娃薄膜,其可由化学气相沉积(Chemical Vapor Deposit1n,CVD)制成,也可由高密度等离子体化学气相沉积(High Density Plasma Chemical Vapor Deposit1n, HDPCVD)制成,若是掺杂碳的氧化娃薄膜,则可采用等离子体增强化学气相沉积(Plasma EnhancedChemical Vapor Deposit1n,PECVD)0
[0029]第二介电常数调整单元103b为不掺杂的氧化硅薄膜,氧化硅薄膜在550nm时的折射率为I.46,透明域范围在21nm与800nm之间,可见光范围的透过率为95 %至99 %。第二介电常数调整单元103b可采用PECVD制成,也可以采用氢化硅与一氧化二氮在温度从100度到400度的氩气环境下加热生成。
[0030]第三介电常数调整单元103c为氮化硅薄膜,氮化硅薄膜的折射率接近于2.0,其具有相当好的表面和体钝化作
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