电子照相感光构件及其制造方法、处理盒和电子照相设备以及酞菁晶体及其生产方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及电子照相感光构件及其制造方法、各自包括该电子照相感光构件的处 理盒和电子照相设备以及酞菁晶体及其生产方法。
【背景技术】
[0002] 要求要用于电子照相设备如复印机或激光束打印机中的电子照相感光构件对图 像曝光光具有充分的感光度。已知各自用作电子照相感光构件用电荷产生材料的偶氮颜料 和酞菁颜料对在宽范围内具有波长的光表现出高的感光度。
[0003] 此外，近年来，存在对增加以彩色化（colorization)为代表的图像品质的要求。 由于彩色化，照片中发现的半色调图像和实心图像的数目增加，并且其图像品质从未停止 改进。在彩色打印机和彩色复印机的情况下，相对于所谓的正重影图像等的可接受的范围 与黑白打印机和黑白复印机的可接受的范围相比变得相当窄。正重影图像指其中在下一旋 转中在半色调图像中仅用光照射的一个图像的部分的浓度变高的现象。认为重影图像由如 下所引起。将作为从电子照相感光构件中使用的电荷产生材料产生的一个载流子的空穴注 入电荷输送层，并且之后电子易于残留在电荷产生层中以用作存储器。
[0004] 日本专利申请特开No. H07-331107公开具有含有选自具有酰胺基的化合物、具有 亚砜基的化合物和有机胺的至少一种极性有机溶剂的特征的羟基镓酞菁晶体。
【发明内容】
[0005] 作为由本发明的发明人进行的研究的结果，发现日本专利申请特开 No. H07-331107中公开的羟基镓酞菁晶体并未解决上述问题。
[0006] 本发明的目的在于提供能够输出抑制正重影图像的图像的电子照相感光构件及 其制造方法。此外，本发明的另一目的在于提供包括所述电子照相感光构件的处理盒和电 子照相设备。
[0007] 此外，本发明的另一目的在于提供其中包含特定的酰胺化合物的酞菁晶体及其生 产方法。
[0008] 根据本发明的一个实施方式，提供电子照相感光构件，所述电子照相感光构件包 括支承体和在支承体上形成的感光层。感光层包括在晶体内含有由下式（1)表示的化合物 的酞菁晶体：
[0009]
[0010] 式（1)中，X表示乙烯基或丙基。
[0011] 根据本发明的另一实施方式，提供处理盒，所述处理盒包括：上述电子照相感光构 件；和选自由充电单元、显影单元和清洁单元组成的组的至少一种单元。所述电子照相感光 构件和至少一种单元被一体化地支承，并且所述处理盒可拆卸地安装至电子照相设备的主 体上。
[0012] 根据本发明的另一实施方式，提供电子照相设备，所述电子照相设备包括：上述电 子照相感光构件、充电单元、图像曝光单元、显影单元和转印单元。
[0013] 根据本发明的另一实施方式，提供在晶体内含有由下式（1)表示的化合物的酞菁 晶体。
[0014] 根据本发明的另一实施方式，提供生产其中包含特定的酰胺化合物的酞菁晶体的 方法。所述方法包括通过将由式（1)表示的化合物添加至酞菁中进行研磨处理由此进行酞 菁的晶体变换的步骤。
[0015] 根据本发明的另一实施方式，提供制造电子照相感光构件的方法，所述电子照相 感光构件包括支承体和在支承体上形成的感光层。所述方法包括以下步骤：通过上述生产 酞菁晶体的方法生产酞菁晶体；以及形成包含酞菁晶体的感光层用涂布液的涂膜，随后干 燥所述涂膜以形成感光层。
[0016] 根据本发明的实施方式，可以提供抑制正重影图像的电子照相感光构件及其制造 方法，以及包括该电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
[0017] 还可以提供其中包含特定的酰胺化合物的酞菁晶体及其生产方法。
[0018] 参考附图，本发明的进一步特征将从以下示例性实施方式的描述而变得明显。
【附图说明】
[0019] 图1为示出包括含有本发明的电子照相感光构件的处理盒的电子照相设备的构 造实例的不意图。
[0020] 图2为实施例1-1中获得的羟基镓酞菁晶体的粉末X射线衍射光谱。
[0021] 图3为实施例1-4中获得的羟基镓酞菁晶体的粉末X射线衍射光谱。
[0022] 图4示出用于重影图像评价的重影评价用图像。
[0023] 图5为示出单点桂马跳跃图案的图像的图。
【具体实施方式】
[0024] 现在将根据附图详细描述本发明的优选实施方式。
[0025] 如上所述，本发明的电子照相感光构件包括支承体和在支承体上形成的感光层。 此外，感光层包括在晶体内中含有由下式（1)表示的化合物的酞菁晶体：
[0026]
[0027] 式（1)中，X表示乙烯基或丙基。
[0028] 作为形成其中含有由式（1)表示的化合物的酞菁晶体的酞菁，例如，可以使用如 任何酞菁如无金属酞菁或可以包含轴向配体的金属酞菁，并且那些酞菁可以各自具有取 代基。其中，特别地，氧钛酞菁和镓酞菁具有优异的感光度特性但是具有产生的光载流子 (photocarrier)易于残留在感光层中导致正重影图像等的问题。本发明有效地解决此问 题，因此那些酞菁是优选的。
[0029] 镓酞菁的例子为，在其分子中在镓原子处具有作为轴向配体的卤素原子、羟基或 烷氧基的镓酞菁。在其酞菁环中具有取代基如卤素原子的镓酞菁也是允许的。
[0030] 此类镓酞菁中，各自具有优异的感光度的羟基镓酞菁晶体、氯镓酞菁晶体、溴镓酞 菁晶体和碘镓酞菁晶体是优选的。其中，羟基镓酞菁晶体是特别优选的。羟基镓酞菁晶体 中，镓原子具有羟基作为轴向配体。氯镓酞菁晶体中，镓原子具有氯原子作为轴向配体。溴 镓酞菁晶体中，镓原子具有溴原子作为轴向配体。碘镓酞菁晶体中，镓原子具有碘原子作为 轴向配体。
[0031] 此外，从抑制由于重影现象所导致的图像缺陷的角度，在CuKa X射线衍射中在布 拉格角2 Θ ±0.2°为7. 4°和28. 3°处具有峰的羟基镓酞菁晶体是更优选的。
[0032] 从抑制正重影的角度，酞菁晶体中含有的由式（1)表示的化合物的含量优选为 0. 01质量％以上且20质量％以下，特别优选为0. 1质量％以上且1. 9质量％以下。
[0033] 其中含有由式（1)表示的化合物的酞菁晶体指在晶体中引入由式（1)表示的化合 物。
[0034] 当在酞菁晶体引入由式（1)表示的化合物时，电荷俘获点通过化合物的分子内的 极性而抵消。由此，认为本发明的电子照相感光构件中重影被抑制。
[0035] 描述生产其中含有由式（1)表示的化合物的酞菁晶体的方法。
[0036] 其中含有由式（1)表示的化合物的酞菁晶体为通过将所述由式（1)表示的化合物 添加至酞菁中进行研磨处理而进行酞菁晶体的晶体变换的晶体变换步骤而获得。优选研磨 处理中使用的酞菁为通过酸溶法获得的酞菁。
[0037] 晶体变换步骤中进行的研磨处理指通过使用研磨设备如砂磨机或球磨机与分散 剂如玻璃珠、钢珠和氧化铝球一起进行的处理。研磨处理中要添加的由式（1)表示的化合 物的量基于质量优选为酞菁的量的5~30倍。
[0038] 本发明中，本发明的镓酞菁晶体其中是否含有由式（1)表示的化合物通过对得到 的镓酞菁晶体的 1H-NMR测量分析数据而确定。
[0039] 本发明中，酞菁晶体的X射线衍射和1H-NMR测量在以下条件下进行。
[0040] [粉末X射线衍射测量]
[0041 ] 使用的测量设备：由Rigaku Corporation制造的X射线衍射仪（商品名： RINT-TTRII)
[0042] X射线管球：Cu
[0043] 管电压：50KV
[0044] 管电流：300mA
[0045] 扫描方法：2Θ/Θ扫描
[0046] 扫描速度：4. 0° /分钟
[0047] 取样间隔：0.02°
[0048] 起始角度（2 Θ) :5. 0°
[0049] 终止角度（2 Θ) :40.0。
[0050] 附件：标准试样支架
[0051] 滤光器：未使用
[0052] 入射单色（Incident monochrome):使用
[0053] 计数器单色器：未使用
[0054] 发散狭缝：打开
[0055] 发散纵向限制狭缝：10.0 Omm
[0056] 散射狭缝：打开
[0057] 光接收狭缝：打开
[0058] 平板单色器：使用
[0059] 计数器：闪烁计数器
[0060] [1H-NMR 测量]
[0061] 使用的测量设备：商品名：AVANCE III 500,由BRUKER制造
[0062]