[0053]与现有技术相比，按照本实施例的彩膜基板采用在彩色滤光层上方形成遮光层代替黑色矩阵。由于上述遮光层的制程较为简单并且工艺过程可控性更高，因此可以较低的制造成本将产品良率维持在较高的水平上。
[0054]图2为按照本发明另一个实施例的用于制作彩膜基板的方法的流程图。
[0055]在图2所示的步骤S210中，在衬底基板110的其中一个表面形成ITO薄膜160，如图3所示。在本实施例中，ITO薄膜的制备方法例如包括但不限于低电压溅射工艺、直流磁控溅射工艺、高密度电弧等离子体(HDAP)方法等。
[0056]随后在步骤S220中，在衬底基板的与形成ITO薄膜相对的表面上形成彩色滤光层。图4A-4F示出了彩色滤光层形成步骤的示意图，其中，图4A和4B示出了红色滤光片的形成过程，图4C和4D示出了绿色滤光片的形成过程，而图4E和4F示出了蓝色滤光片的形成过程。
[0057]以红色滤光片为例，如图4A所示，先在衬底基板110的与形成ITO薄膜相对的表面上涂覆红色滤光片材料涂层121’，随后通过掩膜覆盖、曝光和显影等步骤形成如图4B所示的红色滤光片图案121，其中两列红色滤光片之间的区域用于容纳后面将要形成的绿色和蓝色滤光片。对于绿色和蓝色滤光片也应用上述类似的工艺步骤，从而在衬底基板110上最终形成如图4F所示的红色、绿色和蓝色滤光片交错设置的彩色滤光层120。
[0058]需要指出的是，上述三种颜色的滤光片的形成顺序仅仅是示例性的而非限定性的。
[0059]接着在步骤S230中，在图4F所示的彩色滤光层120上形成保护层。图5示例性地示出了形成于彩色滤光层上的保护层。保护层的形成过程为，先在彩色滤光层120上涂覆保护膜材料，随后通过加热该保护膜材料以固化形成如图5所示的保护层130。
[0060]随后进入步骤S240，在图5所示的保护层130上形成取向层。由于液晶材料的光学各向异性，因此优选地，还对所形成的取向层的表面应用摩擦制程，以确保固化液晶层具有所需的初始配向，从而获得更好的遮光效果。
[0061]接着在步骤S250中，在取向层上的对应于滤光片周边区域的位置上形成遮光层。图6A和6B示例性地示出了遮光层的形成步骤。如图6A所示，先在取向层140上涂覆液滴状的遮光材料混合物150 ’，该混合物包含质量比为90:8: 2的液晶主体、单体和光引发剂并且被加热到液晶清亮点温度。优选地，混合物中的液晶主体采用与液晶层相同的材料，单体包含摩尔比为1:1的甲基丙烯酸十六烷基酯和甲基丙烯酸甲酯(MMA)的混合物，并且光引发剂包含偶氮二异丁腈(AIBN)。由于流动性因素，液滴状的混合物将在取向层140上形成一层涂层。随后通过掩膜覆盖、曝光和显影等步骤形成遮光层。
[0062]覆盖在混合物上的掩模板具有与滤光片周边区域相对应的图案。在曝光步骤中，如图6B所示，利用紫外线(图中以箭头表示)照射掩模板151，从而使得在对应于滤光片周边区域的位置上的混合物被固化。优选地，在曝光步骤中，紫外线的照射时间为30分钟，光强为4mw/cm2。在显影步骤中，未固化的混合物被去除。
[0063]随后在步骤S260中，在经上一步骤处理后的彩膜基板上形成隔垫物，以使彩膜基板与薄膜晶体管(TFT)盒更好地对准接合。图7为隔垫物的示意图。可通过在彩膜基板上涂覆垫隔材料涂层并且随后通过掩膜覆盖、曝光和显影等步骤形成如图7B所示的隔垫物170。
[0064]图8为按照本发明另一个实施例的显示面板的示意图。
[0065]如图8所示，显示面板I包括彩膜基板10、液晶层20和阵列基板30。在本实施例中，彩膜基板10采用上面借助附图描述的实施例的结构。液晶层是LCD显示屏的主体，其位于彩膜基板10与阵列基板30之间。阵列基板30的作用是通过调整施加到像素电极上的电压、相位、频率、峰值、有效值、时序、占空比等一系列参数来建立一定的驱动条件，从而实现所需的显示。
[0066]此外，本发明还提供了一种显示装置，包括上述的显示面板。其中，本发明实施方式提供的显示装置可以是笔记本电脑显示器、液晶显示器、液晶电视、手机、平板电脑等任何具备显示功能的产品或组件。
[0067]虽然已经示出并说明了各个示例性实施例，但本领域普通技术人员应当理解的是，可以对这些示例性实施例在形式和细节方面做出各种改变而不背离由所附权利要求书限定的本发明构思的精神和范围。
【主权项】
1.一种彩膜基板，包括: 衬底基板； 形成于所述衬底基板上的彩色滤光层，其包含多个相邻设置的滤光片； 形成于所述彩色滤光层上的保护层； 形成于所述保护层上的取向层， 其特征在于，还包括遮光层，其形成于所述取向层上的对应于所述滤光片周边区域的位置。2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，对应于相邻所述滤光片的周边区域的遮光层是一体化形成的。3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述遮光层的材料包括液晶主体、单体和光引发剂。4.如权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述单体包括摩尔比为1:1的甲基丙烯酸十六烷基酯和甲基丙烯酸甲酯的混合物。5.如权利要求3所述的彩膜基板，其中，所述光引发剂为偶氮二异丁腈。6.一种显示面板，其特征在于，包括: 权利要求1-5中任一项所述的彩膜基板。7.一种显示装置，其特征在于，包含如权利要求6所述的显示面板。8.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包含下列步骤: 在衬底基板上形成包含多个滤光片的彩色滤光层； 在所述彩色滤光层上形成保护层； 在所述保护层上形成取向层； 在所述取向层的对应于所述滤光片周边区域的位置上形成遮光层。9.如权利要求8所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，在形成所述遮光层的步骤中，对应于相邻所述滤光片的周边区域的遮光层一体化形成。10.如权利要求8所述的彩膜基板的制作方法，其中，在所述取向层的对应于所述滤光片周边区域的位置上形成所述遮光层的步骤包括: 在所述取向层上涂覆遮光材料； 在所述遮光材料上覆盖掩模板，该掩模板具有与所述滤光片周边区域相对应的图案；利用紫外线照射所述掩模板，从而使得在对应于所述滤光片周边区域的位置上的所述遮光材料固化；以及 去除未固化的所述遮光材料。11.如权利要求1O所述的彩膜基板的制作方法，其中，所述遮光材料包括液晶主体、单体和光引发剂。12.如权利要求11所述的彩膜基板的制作方法，其中，所述单体包括摩尔比为1:1的甲基丙烯酸十六烷基酯和甲基丙烯酸甲酯的混合物。13.如权利要求11所述的彩膜基板的制作方法，其中，所述光引发剂为偶氮二异丁腈。14.如权利要求10所述的彩膜基板的制作方法，其中，在所述遮光材料涂覆到所述取向层之前，对所述取向层表面作摩擦处理。15.如权利要求10所述的彩膜基板的制作方法，其中，在利用紫外线照射所述掩模板的步骤中，紫外线的照射时间为30分钟，光强为4mW/cm2。
【专利摘要】本发明涉及液晶显示技术，具体而言，涉及一种能够抑制漏光的彩膜基板及其制作方法，以及包含上述彩膜基板的显示面板和包含该显示面板的显示装置。按照本发明一个方面的彩膜基板包括：衬底基板；形成于所述衬底基板上的彩色滤光层，其包含多个相邻设置的滤光片；形成于所述彩色滤光层上的保护层；形成于所述保护层上的取向层，其中，进一步包括遮光层，其形成于所述取向层上的对应于所述滤光片的周边区域的位置。
【IPC分类】G02F1/1335
【公开号】CN105527747
【申请号】CN201610091328
【发明人】李宁, 刘晓那
【申请人】京东方科技集团股份有限公司, 北京京东方显示技术有限公司
【公开日】2016年4月27日
【申请日】2016年2月18日