等离子显示面板及其制造方法

专利名称：等离子显示面板及其制造方法
技术领域：
在此公开的技术涉及显示设备等所利用的等离子显示面板及其制造方法。
背景技术：
公知在制造等离子显示面板(以下、称为rop)之际会利用光刻法。再有，在基板尺寸较大的情况下，利用的是将曝光区域分为多个区域后进行曝光的分割曝光法(例如参照专利文献I)。在先技术文献专利文献
专利文献IJP特开2007-200879号公报

发明内容
PDP的制造方法包括通过将被设于前面基板上的包含感光性成分的电极膏剂层在前面基板的中央分为第I电极区域与第2电极区域这两个区域进行分割曝光，从而形成总线电极；通过将被设于背面基板上的包含感光性成分的隔壁膏剂层在背面基板的中央分为第I隔壁区域与第2隔壁区域这两个区域进行分割曝光，从而形成隔壁；在第I电极区域与第2电极区域的边界附近求取第I电极区域的开口率及第2电极区域的开口率；在第I隔壁区域与第2隔壁区域的边界附近求取第I隔壁区域的开口率及第2隔壁区域的开口率；在配置为第I电极区域与第I隔壁区域对置的情况下，求取从第I电极区域的开口率与第I隔壁区域的开口率相乘而得到的值减去第2电极区域的开口率与第2隔壁区域的开口率相乘而得到的值后得到的第I差分值；在配置为第I电极区域与第2隔壁区域对置的情况下，求取从第I电极区域的开口率与第2隔壁区域的开口率相乘而得到的值减去第2电极区域的开口率与第I隔壁区域的开口率相乘而得到的值后得到的第2差分值；以及在第I差分值的绝对值小于第2差分值绝对值的情况下，配置为第I电极区域与第I隔壁区域对置，而在第I差分值的绝对值大于第2差分值的绝对值的情况下，配置为第I电极区域与第2隔壁区域对置。PDP是通过制造方法而制造出的，该制造方法包括通过将被设于前面基板上的包含感光性成分的电极膏剂层在前面基板的中央分为第I电极区域与第2电极区域这两个区域进行分割曝光，从而形成总线电极；通过将被设于背面基板上的包含感光性成分的隔壁膏剂层在背面基板的中央分为第I隔壁区域与第2隔壁区域这两个区域进行分割曝光，从而形成隔壁；在第I电极区域与第2电极区域的边界附近求取第I电极区域的开口率及第2电极区域的开口率；在第I隔壁区域与第2隔壁区域的边界附近求取第I隔壁区域的开口率及第2隔壁区域的开口率；在配置为第I电极区域与第I隔壁区域对置的情况下，求取从第I电极区域的开口率与第I隔壁区域的开口率相乘而得到的值减去第2电极区域的开口率与第2隔壁区域的开口率相乘而得到的值后得到的第I差分值；在配置为第I电极区域与第2隔壁区域对置的情况下，求取从第I电极区域的开口率与第2隔壁区域的开口率相乘而得到的值减去第2电极区域的开口率与第I隔壁区域的开口率相乘而得到的值后得到的第2差分值；以及在第I差分值的绝对值小于第2差分值绝对值的情况下，配置为第I电极区域与第I隔壁区域对置，而在第I差分值的绝对值大于第2差分值的绝对值的情况下，配置为第I电极区域与第2隔壁区域对置。


图I是表示PDP的示意结构的立体图。图2是表示I3DP的放电单元结构的示意图。图3是表示在本实施方式涉及的分割曝光中对基板的左区域进行曝光的状态的图。图4是图3中的4-4线剖视图。·图5是表示在本实施方式涉及的分割曝光中对基板的右区域进行曝光的状态的图。图6是图5中的6-6线剖视图。图7是表示本实施方式涉及的I3DP的制造流程的一部分的图。图8是从形成有总线电极的一侧观察本实施方式涉及的前面基板的图。图9是从形成有纵隔壁的一侧观察本实施方式涉及的背面基板的图。图10是表示配置为前面基板的区域A和背面基板的区域A对置的状态的图。图11是将图10中的衔接部附近放大之后的图。图12是表示配置为前面基板的区域A与背面基板的区域B对置的状态的图。图13是将图12中的衔接部附近放大之后的图。图14是表示总线电极与隔壁的线宽度差测量结果的图。图15是表示利用了图14所示的前面板与背面板的情况下的亮度差的计算值和实测值的图。
具体实施例方式[I. FiDPIOO 的构成]如图I所示，PDP100由前面板I与背面板2构成。前面板I和背面板2对置配置。在前面板I与背面板2之间设置放电空间。作为放电气体，向放电空间内封入例如氖(Ne)与氣(Xe)的混合气体。前面板I在玻璃制的前面基板3上具有多个扫描电极4和多个维持电极5。扫描电极4与维持电极5被设置为平行。进而，在前面基板3设置有覆盖扫描电极4及维持电极5的电介质层6。电介质层6上设置有由氧化镁(MgO)等构成的保护层7。扫描电极4具有透明电极4a和层叠于透明电极4a上的总线电极4b。维持电极5具有透明电极5a和层叠于透明电极5a上的总线电极5b。背面板2在玻璃制的背面基板8上设置有多个数据电极10。进而，背面基板8上设置有覆盖数据电极10的基底电介质层9。基底电介质层9上设置有对放电空间进行划分的多个隔壁U。作为一例，隔壁11是具有纵隔壁21以及与纵隔壁21正交的横隔壁22的井沿形状。在多个隔壁11之间设置有荧光体层12。
在从正面观察ropioo的情况下，数据电极10和扫描电极4及维持电极5交叉。在扫描电极4及维持电极5和数据电极10的交叉部分形成多个放电单元。另外，为了提高对比度，扫描电极4与维持电极5之间也可以设置黑色的遮光层13。此外，PDP100并未限于上述构成。例如，也可以是包括带状隔壁11的构成。再有，图I中示出了交替地排列扫描电极4与维持电极5的例子。但是，也可以像扫描电极4、维持电极5、维持电极5、扫描电极4那样排列的电极排列的构成。[2. PDP100 的制造方法][2-1.前面板I的制造方法]通过光刻法，在前面基板3上形成扫描电极4及维持电极5。详细内容后述。接着，形成电介质层6。电介质层6的材料利用的是包含电介质玻璃料、树脂与溶·剂等的电介质膏剂。首先，通过压模涂敷法等，以规定的厚度按照覆盖扫描电极4及维持电极5的方式在前面基板3上涂敷电介质膏剂。接着，通过干燥炉，除去电介质膏剂中的溶剂。最后，通过烧成炉，以规定的温度烧成电介质膏剂。也就是说，除去电介质膏剂中的树脂。再有，电介质玻璃料软化。软化后的电介质玻璃料在烧成后再度固化。通过以上的工序，形成电介质层6。在此，除了对电介质膏剂进行压模涂敷的方法以外，还可以利用丝网印刷法、旋转涂敷法等。再有，也可以不利用电介质膏剂而是通过CVD (Chemical Vapor Deposition)法等来形成成为电介质层6的膜。接着，在电介质层6上形成由氧化镁(MgO)等构成的保护层7。作为一例，藉由EB (Electron Beam)蒸镀装置来形成保护层7。保护层7的材料为单晶体的MgO构成的小球(pellet)。在小球中，也可以进一步添加招(Al)、娃(Si)等作为杂质。首先，对被配置于EB蒸镀装置的成膜室内的小球照射电子束。接受了电子束的能量的小球蒸发。蒸发后的MgO附着于被配置在成膜室内的电介质层6上。根据电子束的强度、成膜室的压力等，将MgO的膜厚调整为收敛在规定的范围内。另外，保护层7除了 MgO以外，还可以利用与氧化钙(CaO)的混合膜、或者包含氧化锶(SrO)、氧化钡(BaO)、氧化铝(Al2O3)等金属氧化物的膜。再有，也可以利用包含多种金属氧化物的膜。通过以上的工序，在前面基板3上具有扫描电极4、维持电极5、电介质层6及保护层7的前面板I完成。[2-2.背面板2的制造方法]如图I所示，通过光刻法在背面基板8上形成数据电极10。数据电极10的材料利用的是包含用于确保导电性的银(Ag)、用于使银粘结的玻璃料、感光性树脂和溶剂等的数据电极膏剂。首先，通过丝网印刷法等，以规定的厚度在背面基板8上涂敷数据电极膏剂。接着，通过干燥炉，除去数据电极膏剂中的溶剂。接着，隔着规定的图案的光掩模来曝光数据电极膏剂。接着，数据电极膏剂被显影而形成数据电极图案。最后，通过烧成炉，以规定的温度烧成数据电极图案。也就是说，除去数据电极图案中的感光性树脂。再有，数据电极图案中的玻璃料软化。软化后的玻璃料在烧成后固化。通过以上的工序，形成数据电极10。在此，除了对数据电极膏剂进行丝网印刷的方法以外，还可以利用溅射法、蒸镀法等。接着，形成基底电介质层9。基底电介质层9的材料利用的是包含玻璃料、树脂与溶剂等的基底电介质膏剂。首先，通过丝网印刷法等，以规定的厚度在已形成数据电极10的背面基板8上按照覆盖数据电极10的方式涂敷基底电介质膏剂。接着，通过干燥炉，除去基底电介质膏剂中的溶剂。最后，通过烧成炉，以规定的温度烧成基底电介质膏剂。也就是说，除去基底电介质膏剂中的树脂。再有，玻璃料软化。软化后的玻璃料在烧成后固化。通过以上的工序,形成基底电介质层9。此外，除了对基底电介质膏剂进行丝网印刷的方法以外，还可以利用压模涂敷法、旋转涂敷法等。再有，也可以不利用基底电介质膏剂而是通过CVD(Chemical VaporDeposition)法等来形成成为基底电介质层9的膜。接着，通过光刻法，形成隔壁11。详细内容后述。接着，形成荧光体层12。荧光体层12的材料利用的是包含荧光体粒子、粘合剂和溶剂等的荧光体膏剂。首先，通过分配法等，以规定的厚度在相邻的隔壁11间的基底电介质层9上及隔壁11的侧面涂敷荧光体膏剂。接着，通过干燥炉，除去荧光体膏剂中的溶剂。最后，通过烧成炉，以规定的温度烧成荧光体膏剂。也就是说，除去荧光体膏剂中的树脂。通
过以上的工序，形成荧光体层12。另外，除了分配法以外还可以利用丝网印刷法等。通过以上的工序，在背面基板8上具有数据电极10、基底电介质层9、隔壁11及荧光体层12的背面板2完成。[2-3.前面板I与背面板2的组装方法]首先，通过分配法，在背面板2的周围设置密封件。密封件的材料利用的是包含玻璃料、粘合剂与溶剂等的密封膏剂。接着，通过干燥炉，除去密封膏剂中的溶剂。接下来将前面板I与背面板2对置配置。然后，利用玻璃料密封前面板I与背面板2的周围。最后，在放电空间内封入包含Ne、Xe等的放电气体。[3.平版印刷法]曝光之际，进行光掩模与被曝光基板的对位(alignment)。在对位产生偏差的情况下，无法如设计的那样来形成图案。由此，PDP100的图像显示区域内显示状态发生变化，或在外观产生不均。由此，对位要求非常高的精度。再有，伴随于I3DPlOO的大画面化的进展，由于对未收敛于一张光掩模的曝光区域内的较宽区域进行曝光，故采用的是利用多个光掩模的分割曝光法。分割曝光法中，存在将一个分割曝光区域与另一个分割曝光区域结合在一起的重复区域(以下称为衔接区域)。由此，也需要进行一个分割曝光区域与另一个分割曝光区域的对位。然而，在利用多个光掩模的情况下，由于每个光掩模的个体差、或曝光装置中的环境温度的差异、光掩模与基板的间隙的差异等原因，有时会产生在一个分割曝光区域与另一个分割曝光区域内图案宽度不同的现象。[3-1.放电单元的开口率]若图案宽度不同，则放电单元中的开口率(Aperture ratio)也发生变化。如图2所示，一个放电单元是被纵隔壁21与横隔壁22围起来的区域。从放电单元产生的可见光透过前面板I。但是，前面板I上设置有可见光并不透过的总线电极4b、5b。若总线电极4b、5b的宽度变粗，则与一个放电单元中的设计值的开口率相比，开口率有所减少。也就是说，可见光线被遮挡的区域增大。因此，光取出效率降低。由此，亮度降低。另外，若总线电极4b、5b的宽度变细，则亮度会提高。
同样地，若隔壁11的宽度变粗，则与一个放电单元中的设计值的开口率相比，开口率有所减少。也就是说，被遮光的区域增大。因此，光取出效率降低。由此，亮度降低。另夕卜，若隔壁11的宽度变细，则亮度会提高。因此,前面板I的开口率和背面板2的开口率相乘而得到的值、与光取出效率之间存在相关。由此，若前面板I的开口率与背面板2的开口率相乘而得到的值大，则亮度具有增大的倾向。另外，若前面板I的开口率与背面板2的开口率相乘而得到的值小，则亮度具有减小的倾向。另外，纵隔壁21的宽度的变化对光取出效率造成的影响要大于横隔壁22的宽度的变化对光取出效率造成的影响。横隔壁22的附近是实质上放电不会产生的区域。也就是说，横隔壁22的附近是从放电单元产生的可见光相对较弱的区域的缘故。若在一个分割曝光区域与另一个分割曝光区域中亮度不 同，则尤其是在衔接区域的附近变得显著。若在衔接区域的附近产生亮度差，则在观赏PDP装置之际，很容易被视听者识别。也就是说，点亮时PDP装置的显示品质降低。[3-2.分割曝光法]如图3 图6所示，在矩形的基板51上设置有感光性材料层52。在与基板51对置的位置上配置着第I光掩模53及第2光掩模54。第I光掩模53及第2光掩模54为矩形。另外，所谓矩形并非指的是几何学上完全的矩形。基于光掩模在设计上的理由等，即便一部分存在突出或凹陷等，通过目视观察也可大致判断为矩形。基板51的面积要比第I光掩模53及第2光掩模54大。由此，感光性材料层52被分割曝光。也就是说，被分割为由第I光掩模53进行曝光的区域和由第2光掩模54进行曝光的区域。本实施方式中，例如第I光掩模53及第2光掩模54被配置在曝光装置中。第I光掩模53及第2光掩模54被曝光装置内的光掩模折叠机(photomask folder)(未图不)吸附。吸附面被设于不会干涉曝光区域的区域内。在每个吸附部位，设置有相对于第I光掩模53及第2光掩模54能够在三维方向上自由移动的机构。由此，可以使第I光掩模53及第2光掩模54分别独立地移动及固定。如图3及图4所示，在基板51的左侧，间隔开曝光间隙而在感光性材料层52的上部配置第I光掩模53。如图3及图5所不,在第I光掩模53及第2光掩模54设置有开口部55。通过开口部55而从被设于第I光掩模53及第2光掩模54上方的曝光光源(未图示)向感光性材料层52照射光。如图6所示，作为衔接区域的衔接部52c的左侧为第I曝光区域52a。衔接部52c的右侧为第2曝光区域52b。另外，在本实施方式中利用显影工序除去感光性材料层52中的未曝光的区域。再有，在基板51的长边侧的上下端部及中央部分别设置有对位标记。通过利用对位标记，从而基板51、和第I光掩模53及第2光掩模54的对位变得容易起来。在将分割曝光法适用于I3DPlOO的制造的情况下，作为一例，可以在前面基板3上形成透明电极4a、5a之际由ITO同时形成前面板I的对位标记。再有，可以在背面基板8上形成数据电极10之际由Ag等导电材料同时形成背面板2的对位标记。[4-1.总线电极4b、5b的形成步骤Sll S14]
如图7所示，形成总线电极4b、5b的工序包括曝光步骤S11、显影步骤S12、烧成步骤S13及形状计测步骤S14。(电极膏剂的涂敷)通过丝网印刷法等，在前面基板3上涂敷电极膏剂。被涂敷的电极膏剂的膜厚可在10 15 左右的范围内适当地设定。除 了丝网印刷法以外，也可以利用压模涂敷法等。再有，除了利用电极膏剂的方法以外，也可以通过利用溅射法、蒸镀法而在形成了导电性膜之后利用光致抗蚀剂进行图案化。(电极膏剂)电极膏剂包含导电性粒子、用于使导电性粒子粘结的玻璃料、感光性单体、光聚合引发剂、树脂及溶剂等。作为导电性粒子，利用银(Ag)、铜(Cu)等。导电性粒子的平均粒径优选Ium以上、3pm以下。原因在于平均粒径若低于lum，则电极膏剂中易于凝集。原因在于平均粒径若超过3 u m,则难以均衡地分散到电极膏剂中去。作为玻璃料，至少包含20 50重量％的三氧化二铋(Bi2O3)、5 35重量％的三氧化二硼(B2O3)、10 20重量％的氧化锌(ZnO)、5 20重量％的氧化钡(BaO)。进而,玻璃料也可以包含三氧化钥(MoO3)、三氧化钨(WO3)等。从含有量若过多、则热膨胀系数增大且软化点降低这一观点来看，Bi2O3优选为20 50重量％。进一步，更优选为30 45重量％。从含有量若过多、则热膨胀系数降低且软化点升高这一观点来看，形成玻璃框架的B2O3优选为5 35重量％。从含有量若过多、则热膨胀系数增大且有损透明性这一观点来看，ZnO优选为
10 20重量％。从含有量若过多、则软化点升高这一观点来看，BaO优选为5 20重量％。作为感光性单体，利用丙烯酸2-羟基乙基酯、丙烯酸2-羟基丙基酯、二甘醇二丙烯酸酯、三甘醇二丙烯酸酯等。其中，可以单独使用一种。或者，可以混合使用其中的两种以上。光聚合引发剂包含在共轭碳环中具有2个分子内环的化合物、即置换或者非置换多核性醌。作为例子，利用9，10-蒽醌、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-t-丁基蒽醌、八甲基蒽醌等。作为树脂利用丙烯酸系聚合物、和纤维素系聚合物等。作为丙烯酸系聚合物，可以包含从聚丙烯酸丁基酯、聚甲基丙烯酸酯等中选择的至少I种。纤维素系聚合物可以包含从乙基纤维素、羟基纤维素、羟基丙基纤维素中选择的至少I种。作为溶剂，利用a-、0-、Y-萜品醇等萜类、乙二醇单烷基醚类、乙二醇二烷基醚类、二甘醇单烷基醚类、二甘醇二烷基醚类等。可以单独使用其中的一种。或者，可以将其中的两种以上混合使用。通过利用三根辊、球磨机或者砂磨机等分散机械使这些材料混合及分散而制作电极膏剂。(电极膏剂的干燥)接着，通过干燥炉，除去电极膏剂中的溶剂。作为干燥炉，例示出加热器加热炉(heater heating oven)、减压干燥炉、红外线干燥炉等。干燥的气体环境可以是大气，也可以是惰性气体。干燥温度为80°C 200°C左右。干燥时间为3分钟 30分钟左右。通过干燥，电极膏剂的膜厚减少。干燥后的电极膏剂的膜厚可以在4 8 ii m左右的范围内适当地设定。干燥温度及干燥时间可以根据电极膏剂所包含的溶剂的种类、量等适当地设定。至IJ以上的工序为止都是图7中的前工序。(曝光)在Sll中进行分割曝光。曝光中利用的是负型光掩模(negative typephotomask)。作为曝光装置,可以利用步进式曝光机、近位式曝光机等。作为发光设备，利用受激准分子灯、低压水银灯、高压水银灯等。隔着形成有规定的图案的第I光掩模，对第I总线电极区域进行曝光。第I光掩模相当于图4中的第I光掩模53。第I总线电极区域相当于图6中的第I曝光区域52a。接着，隔着形成有规定的图案的第2光掩模，对第2总线电极区域进行曝光。第2光掩模相当于图6中的第2光掩模54。第2总线电极区域相当于图6中的第2曝光区域52b。光的波 长是电极膏剂所包含的光聚合引发剂反应的波长。一般而言，为250nm 450nm左右。通过光聚合性单体聚合，由此电极膏剂中的被光照射的区域固化。(显影)S12中电极膏剂被显影。显影液作为一例而利用的是碱显影液。具体而言，利用碳酸钠溶液、氢氧化钾溶液、TMAH(tetramethyl annmonium hydroxide)等。通过向电极膏剂喷射显影液，从而被光照射到的区域残留下来，可除去未被光照射到的区域。最后，进行水冲洗，以除去附着在前面基板3上的污垢等。(烧成)S13中，通过烧成炉，烧成总线电极图案。作为烧成炉，例如利用加热器加热炉等。烧成中的气体环境优选包含氧。这是为了使树脂燃烧。也就是说，气体环境当然也可以是大气。通过烧成炉，以规定的温度烧成总线电极图案。也就是说，总线电极图案中的感光性树脂被除去。再有，总线电极图案中的玻璃料软化。软化后的玻璃料在烧成后固化。烧成一旦结束，就在前面基板3上形成了总线电极4b、5b。(形状计测)S14中，例如利用图像识别装置计测总线电极4b、5b的宽度。图像识别装置由固体摄像元件、包括透镜等在内的照相机、照明装置及计算机等来构成。通过拍摄总线电极4b、5b并进行除噪、二值化等图像处理，从而可计测总线电极的线宽度。在第I总线电极区域与第2总线电极区域这两个区域测量总线电极4b、5b的线宽度。尤其优选在衔接部52c的附近测量。再有，优选在多个部位进行测量。[4-2.隔壁11的形成步骤S21 S24]如图7所示，形成隔壁11的工序包括曝光步骤S21、显影步骤S22、烧成步骤S23及形状计测步骤S24。(隔壁膏剂的涂敷)首先，通过压模涂敷法，以规定的厚度在绝缘体层上涂敷隔壁膏剂。被涂敷的隔壁膏剂的膜厚可在100 300 左右的范围内适当地设定。作为隔壁膏剂的涂敷装置，可以利用丝网印刷机、压模涂敷机、刮刀涂敷机等。涂敷厚度可以根据涂敷次数、丝网印刷版的网眼、膏剂的粘度来调整。
(隔壁膏剂)隔壁的材料中利用的是包含填料、用于使填料粘结的玻璃料、感光性树脂和溶剂
等的隔壁膏剂。感光性树脂利用的是负型。也就是说，针对已被曝光的部分的显影液的溶解性增大。作为一例，作为填料而利用的是三 氧化二铝(Al2O3)、二氧化硅(SiO2)、堇青石等的
氧化物等。作为玻璃料，利用以三氧化二铋(Bi2O3)、三氧化二硼(B2O3)、五氧化二钒(V2O5)等为主成分的玻璃料。例如，利用Bi2O3-B2O3-RO-MO系玻璃。在此R为钡(Ba)、锶(Sr)、钙(Ca)及镁(Mg)的任一个。M为铜(Cu)、铺(Sb)及铁(Fe)的任一个。除此以外，例如可利用 V2O5-BaO-TeO-WO 系的玻璃。作为感光性树脂，优选利用碱可溶性的树脂。原因在于通过感光性树脂具有碱可溶性，作为显影液可以利用碱水溶液而不是对环境而言存在问题的有机溶剂。作为碱可溶性的树脂，作为一例优选丙烯酸系共聚物。丙烯酸系共聚物指的是共聚成分中至少包含丙烯酸系单体的共聚物。再有，在隔壁膏剂中除了光聚合引发剂、有机溶剂以外，根据需要还可以添加非感光性树脂成分、抗氧化剂、有机染料、敏化剂、敏化助剂、增塑剂、增粘剂、分散剂、沉淀防止剂等。作为溶剂，利用a-、P-、Y-萜品醇等萜类、乙二醇单烷基醚类、乙二醇二烷基醚类、二甘醇单烷基醚类、二甘醇二烷基醚类等。可以单独使用其中的一种。或者，可以将其中的两种以上混合使用。作为一例，本实施方式涉及的隔壁膏剂是碱显影性的感光性膏剂。在此，碱显影性指的是在利用负型掩模的曝光的情况下，在曝光前的状态下虽然溶解于pH为9 14的碱性的水系显影液中、但不会溶解于pH为6 8的中性的水系显影液中。另外，指的是具有曝光后在pH为9 14的碱性的水系显影液、pH为6 8的中性的水系显影液的任一个中均不溶解的性质。非感光性树脂成分例如甲基纤维素、乙基纤维素等的纤维素化合物、高分子量聚醚等。再有，感光性单体为含有碳-碳不饱和键(carbon-carbon unsaturated bond)的化合物。(隔壁膏剂的干燥)接着，通过干燥炉，除去隔壁膏剂中的溶剂。作为干燥炉，例示出加热器加热炉、减压干燥炉、红外线干燥炉等。干燥的气体环境既可以是大气，也可以是惰性气体。干燥温度为80°C 200°C左右。干燥时间为3分钟 30分钟左右。通过干燥，隔壁膏剂的膜厚减少。干燥后的隔壁膏剂的膜厚可在50 200 y m左右的范围内适当地设定。干燥温度及干燥时间，可根据隔壁膏剂所包含的溶剂的种类、量等适当地设定。以上的工序就是图7中的前工序。(曝光)S21中进行分割曝光。曝光利用的是负型光掩模。作为曝光装置，可以利用步进式曝光机、近位式曝光机等。作为发光设备，利用受激准分子灯、低压水银灯、高压水银灯等。
隔着已形成了规定的图案的第I光掩模对第I隔壁区域进行曝光。第I光掩模相当于图4中的第I光掩模53。第I隔壁电极区域相当于图6中的第I曝光区域52a。接着，隔着已形成了规定的图案的第2光掩模对第2隔壁区域进行曝光。第2光掩模相当于图6中的第2光掩模54。第2隔壁区域相当于图6中的第2曝光区域52b。光的波长为隔壁膏剂所包含的光聚合引发剂发生反应的波长。一般而言，为250nm 450nm左右。隔壁膏剂中的被光照射到的区域固化。(显影)S22中隔壁膏剂被显影。作为一例，显影液利用的是碱显影液。具体而言，利用碳酸钠溶液、氢氧化钾溶液、TMAH等。通过向隔壁膏剂喷射显影液，从而被光照射到的区域残留下来，而未被光照射到的区域被除去。最后，进行水冲洗，以除去附着在背面基板8上的污垢等。(烧成)·S23中，通过烧成炉，烧成隔壁图案。作为烧成炉，例如利用加热器加热炉等。烧成的气体环境优选包含氧。这是为了使树脂燃烧。也就是说，气体环境当然也可以是大气。通过烧成炉，以规定的温度烧成隔壁图案。也就是说，隔壁图案中的聚合物等被除去。再有，隔壁图案中的玻璃料软化。软化后的玻璃料在烧成后固化。一旦烧成结束，就在背面基板8上形成了隔壁11。(形状计测)S24中，例如利用图像识别装置来计测隔壁的宽度。图像识别装置也可以利用与S14同样的装置。在第I隔壁区域与第2隔壁区域这两个区域测量隔壁11的线宽度。尤其优选在衔接部52c的附近进行测量。再有，优选在多个部位进行测量。[4-3.组装步骤 S3I S32](评价)S31中，对是否使背面基板8或者前面基板3旋转180度进行判断。具体而言，评价衔接部52c中的总线电极4b、5b的宽度和隔壁11的宽度是否超过阈值。其中，对于背面基板8而言优选在形成荧光体层12之前。原因在于隔壁11的形状评价较容易。进而，原因在于后续的工序变得容易。以下针对S31进行更详细的说明。如图8所示，在前面基板3侧的长边中央部的上下端部设置有对位标记(alignment mark) la。作为一例,对位标记Ia是十字形状。另外,对位标记Ia也可以在前面基板3上形成总线电极4b、5b之际同时形成。此外，前面基板基准位置3a被设于前面基板3的右上角。图8的衔接部Ib左侧的区域A为第I总线电极区域。衔接部Ib右侧的区域B为第2总线电极区域。另外，衔接部Ib相当于图6中的衔接部52c。再有，如图9所示，在背面基板8侧的长边中央部的上下端部设置有对位标记2a。作为一例，对位标记2a是十字形状。再有，也可以在背面基板8上形成隔壁11之际同时形成对位标记2a。其中，背面基板基准位置8a被设于背面基板8的左上角。图9中的衔接部2b左侧的区域B为第I隔壁区域。衔接部2b右侧的区域A为第2隔壁区域。另外，衔接部2b相当于图6中的衔接部52c。此外，作为前面基板基准位置3a、背面基板基准位置8a，有将前面基板3及/或背面基板8的区域的一部分切断而得到的构成、附加了标记等的构成等。再有，可适当地设定前面基板基准位置3a、背面基板基准位置8a的位置。(前面基板基准位置3a与背面基板基准位置8a配置在重合的位置)如图10所示，假设按照前面基板基准位置3a与背面基板基准位置8a抵达重合的位置的方式对置配置前面基板3与背面基板8的情况。因此，前面基板3的区域A与背面基板8的区域A被对置配置。也就是说，前面基板3的区域B与背面基板8的区域B被对
置配置。再有，如图11所示，假设总线电极4b、5b及纵隔壁21的线宽度在区域A与区域B内分别不同的情况。前面基板3的区域A中的总线电极4b、5b的宽度要比区域B中的总线电极4b、5b的宽度粗。因此，前面基板3的区域A的开口率变得比区域B的开口率小。·背面基板8的区域A中的纵隔壁21的宽度要比区域B中的纵隔壁21的宽度粗。因此，背面基板8的区域A的开口率变得比区域B的开口率小。由此，在如图10所示被对置配置的情况下，前面基板3的区域A中的开口率与背面基板8的区域A中的开口率相乘而得到的值，要比前面基板3的区域B中的开口率与背面基板8的区域B中的开口率相乘而得到的值更小。因此，将衔接部lb、2b作为分界，左侧变亮、右侧变暗。由此，在衔接部lb、2b及其附近易于识别亮度之差。(前面基板基准位置3a与背面基板基准位置8a配置在对角的位置)如图12所示，按照前面基板基准位置3a与背面基板基准位置8a成为对角位置的方式，使背面基板8旋转180度后与前面基板3对置配置。因此，前面基板3的区域B与背面基板8的区域A被对置配置。也就是说，前面基板3的区域A与背面基板8的区域B被对置配置。由此，如图13所示，前面基板3的区域A中的开口率与背面基板8的区域B中的开口率相乘而得到的值，和前面基板3的区域B中的开口率与背面基板8的区域A中的开口率相乘而得到的值之间，不存在较大的差。由此，在衔接部lb、2b及其附近难以识别亮度之差。也就是说，与将前面基板基准位置3a与背面基板基准位置8a配置到重合的位置的情况相比较，在衔接部lb、2b及其附近，亮度之差变得难以被识别到。如上所述，根据总线电极4b、5b的线宽度及纵隔壁21的线宽度及前面基板3、背面基板8的配置位置，可以降低衔接部lb、2b的亮度差。也就是说，在S31中根据总线电极4b、5b的线宽度及纵隔壁21的线宽度来求取开口率，来决定是配置为第I总线电极区域与第I隔壁区域对置、还是配置为第I总线电极区域与第2隔壁区域对置。另外，也可以在背面基板8上，在对横隔壁22的线宽度进行测量的基础上求取开口率。原因在于开口率的计算精度提高。(旋转)S32中，在S31评价为阈值以上的情况下，使前面基板3或者背面基板8旋转180度。另外，在S31中评价为低于阈值的情况下，不执行S32。再有，若衔接部lb、2b处的亮度差按比例超过约I. 5%，则易于视觉辨认。也就是说，优选按照亮度差成为I. 5%以下的方式来配置前面基板3与背面基板8。一般而言，人眼针对急剧的亮度差，检测能力较高。换言之，即便亮度和缓地变化，也无法检测到差异。由于衔接部lb、2b处的亮度差是急剧的变化，故易于被人眼检测到。另一方面，作为急剧的亮度差而被识别的区域依存于ropioo的大小。也就是说，ropioo越大，则被识别为急剧的亮度差的区域就越增大。根据发明人们的研究可知例如在对角150英寸(图像显示区域为横340cm、纵180cm)的I3DPlOO中，若衔接部lb、2b的左右3. Ocm以内的区域内产生亮度差，则易于被识别。也就是说，在制造对角150英寸的TOPlOO之际，优选在衔接部lb、2b的左右3. Ocm以内的区域中测量总线电极4b、5b的宽度及纵隔壁21的宽度。进而，在制造对角100英寸(图像显示区域为横230cm、纵130cm)的TOPlOO之际，优选在衔接部lb、2b的左右2. Icm以内的区域中测量总线电极4b、5b的宽度及纵隔壁21的宽度。再有，在制造对角85英寸(图像显示区域为横190cm、纵100cm)的TOPlOO之际，优选在衔接部lb、2b的左右1.8cm以内的区域中测量总线电极4b、5b的宽度及纵隔壁21的宽度。还有，在使前面基板3与背面基板8对置时，测量位置优选为大致 面对面的位置。这是为了在S31中可以进行更准确的评价。进而，根据发明人们的研究可知线宽度的阈值依存于像素尺寸。其中，像素尺寸指的是由以下的3个放电单元构成的I个像素的大小发出红色光的放电单元、发出绿色光的放电单元及发出蓝色光的放电单元。I个像素为大致正方形。在一条边为830 ii m的像素的情况下，若衔接部lb、2b中产生3 u m以上的线宽度差，则会产生I. 5%的亮度差。在一条边为980 u m的像素的情况下，若衔接部lb、2b中产生4. 2 m以上的线宽度差，则会产生I. 5%的亮度差。在一条边为IlSOiim的像素的情况下，若衔接部lb、2b中产生以上的线宽度差，则会产生I. 5%的亮度差。因此，优选根据所制造的I3DPlOO的像素尺寸来改变阈值。另外，也可以不设定阈值来制造ropioo。也就是说，求取配置为第I电极区域与第I隔壁区域对置的情况下的、从第I电极区域的开口率与第I隔壁区域的开口率相乘而得到的值减去第2电极区域的开口率与第2隔壁区域的开口率相乘而得到的值后得到的第I差分值。求取配置为第I电极区域与第2隔壁区域对置的情况下的、从第I电极区域的开口率与第2隔壁区域的开口率相乘而得到的值减去第2电极区域的开口率与第I隔壁区域的开口率相乘而得到的值后得到的第2差分值。在第I差分值的绝对值小于第2差分值的绝对值的情况下，配置为第I电极区域与第I隔壁区域对置。在第I差分值的绝对值大于第2差分值的绝对值的情况下，配置为第I电极区域与第2隔壁区域对置。通过以上的方法，可以制造亮度差更小的roioo。[5. PDP装置的亮度差的评价]示出制造对角150英寸的ropioo之际的评价结果。[5-1.线宽度差测量]通过本实施方式涉及的制造方法试做出I枚前面基板3与I枚背面基板8。图14示出的纵隔壁21的线宽度之差(图中以A的记号示出)，是衔接部2b附近的区域B中的线宽度和衔接部2b附近的区域A中的线宽度的差分值。总线电极4b、5b的线宽度之差(图中以 的记号示出)是衔接部Ib附近的区域B中的线宽度和衔接部Ib附近的区域A中的线宽度的差分值。图14中的基板下侧指的是图8中的前面基板3的下侧及图9中的背面基板8的下侧。图14中的基板上侧指的是图8中的前面基板3的上侧及图9中的背面基板8的上侦U。也就是说，图14是在衔接部lb、2b的附近针对多个部位进行测量后的结果。图14中，在纵轴的值为正时，指的是在衔接部lb、2b处区域B中的线宽度要比区域A中的线宽度粗。另外，在为负时，指的是区域A中的线宽度要比区域B中的线宽度细。再有，图14中的线宽度差指的是多个线宽度差的平均值。如图14所示，在基板下部侧及上部侧，总线电极4b、5b的线宽度在区域B要比区域A粗。总线电极4b、5b的线宽度差的最大值约为3. Oii m。纵隔壁21的线宽度也表示出同样的倾向。纵隔壁21的线宽度差的最大值约为3. Oiim。[5-2 亮度评价]图15中的通常对置位置(图中以□的记号示出)为比较例。也就是说，是假设图
15示出的将前面基板3的区域A与背面基板8的区域A配置为对置的情况下的亮度差(计算值)。另一方面，图15中的背面板180度旋转对置配置(图中以 的记号示出)为实施例。也就是说，是按照成为点对称的方式使背面基板8旋转180度后与前面基板3对置配置的情况。是将前面基板3的区域A与背面基板8的区域B配置为对置而制造出的TOPlOO的实测值。再有，图15示出的PDP上侧、PDP下侧为与图14相同的含义。图15示出的纵轴是衔接部lb、2b左侧的区域的亮度除以衔接部lb、2b右侧的区域的亮度之后进一步减去I而得到的值。例如，在衔接部lb、2b左侧的区域与右侧的区域之间没有亮度差的情况下，由于左侧的区域的亮度/右侧的区域的亮度=I，故亮度差为0 %。比较例中的亮度差在ropioo的上部侧被计算为最大2.0%。再有，在ropioo的下部侧被计算为最大2.8%。也就是说，亮度差超过1.5%。由此，在比较例中，在ropioo的下部侧及上部侧，在衔接部lb、2b及其附近亮度差变得易于视觉辨认。也就是说，认为是使亮度差显眼，由此PDP装置的显示品质降低。另一方面，实施例中的亮度差最大能够抑制在I. 2%以下。也就是说，衔接部lb、2b及其附近的亮度差难以被视觉辨认到。由此，抑制了使ropioo点亮时的显示品质的降低。因此，本实施方式涉及的制造方法，作为一例在制造对角150英寸的ropioo的情况下，总线电极4b、5b的线宽度差及隔壁11的线宽度差在衔接部lb、2b及其附近中的区域A与区域B超过3. 0 ii m时，使背面基板8以点对称的方式旋转180度后与前面基板3对置配置。[6.总结]本实施方式涉及的ropioo的制造方法包括以下工序。通过将被设于前面基板3上的包含感光性成分的电极膏剂层在前面基板3的中央分为作为第I电极区域的区域A和作为第2电极区域的区域B这两个区域进行分割曝光，从而形成总线电极4b、5b。通过将被设于背面基板8上的包含感光性成分的隔壁膏剂层在背面基板的中央分为作为第I隔壁区域的区域A和作为第2隔壁区域的区域B这两个区域进行分割曝光，从而形成隔壁11。在第I电极区域与所述第2电极区域的边界附近、即衔接部lb，求取第I电极区域的开口率及第2电极区域的开口率。在第I隔壁区域与第2隔壁区域的边界附近、即衔接部2b，求取第I隔壁区域的开口率及第2隔壁区域的开口率。在配置为第I电极区域与第I隔壁区域对置的情况下，求取从第I电极区域的开口率与第I隔壁区域的开口率相乘而得到的值减去第2电极区域的开口率与第2隔壁区域的开口率相乘而得到的值后得到的第I差分值。在配置为第I电极区域与第2隔壁区域对置的情况下，求取从第I电极区域的开口率与第2隔壁区域的开口率相乘而得到的值减去第2电极区域的开口率与第I隔壁区域的开口率相乘而得到的值后得到的第2差分值。在第I差分值的绝对值小于第2差分值的绝对值的情况下，配置为第I电极区域与第I隔壁区域对置。根据本实施方式涉及的方法，可以制造分割曝光的衔接部lb、2b及其附近的亮度差难以被视觉辨认到的ropioo。由此，可抑制使ropioo点亮时的显示品质的降低。
另外，在第I电极区域与第2电极区域的边界附近求取第I电极区域的开口率及第2电极区域的开口率的工序、及在第I隔壁区域与第2隔壁区域的边界附近求取第I隔壁区域的开口率及第2隔壁区域的开口率的工序，优选按照以下方式执行在将前面基板3与背面基板8对置配置的情况下，在重合的位置上求取第I电极区域的开口率及第2电极区域的开口率且求取第I隔壁区域的开口率及第2隔壁区域的开口率。这是为了更正确地进行TOPlOO的亮度差的计算。其中，本实施方式示出的构成、材料、装置等仅仅只是例示而已。由此，所例示出的构成等并未对本发明进行任何限定。-工业实用性-在此公开的技术可以实现能够抑制显示品质的降低的大画面rop。由此，对于大画面的显示设备等来说是有用的。-符号说明-I 前面板la, 2a 对位标记lb, 2b, 52c 衔接部2 背面板3 前面基板4 扫描电极5 维持电极4a, 5a 透明电极4b, 5b 总线电极6 电介质层7 保护层9 基底电介质层10 数据电极11 隔壁12 荧光体层21 纵隔壁22 横隔壁51 基板
52感光性材料层53第I光掩模54第2光掩模55开口部 100 PDP
权利要求
1.一种等离子显示面板的制造方法，包括 通过将被设于前面基板上的包含感光性成分的电极膏剂层在所述前面基板的中央分为第1电极区域与第2电极区域这两个区域进行分割曝光，从而形成总线电极； 通过将被设于背面基板上的包含感光性成分的隔壁膏剂层在所述背面基板的中央分为第1隔壁区域与第2隔壁区域这两个区域进行分割曝光，从而形成隔壁； 在所述第1电极区域与所述第2电极区域的边界附近求取所述第1电极区域的开ロ率及所述第2电极区域的开ロ率； 在所述第1隔壁区域与所述第2隔壁区域的边界附近求取所述第1隔壁区域的开ロ率及所述第2隔壁区域的开ロ率； 在配置为所述第1电极区域与所述第1隔壁区域对置的情况下，求取从所述第1电极区域的开ロ率与所述第1隔壁区域的开ロ率相乘而得到的值减去所述第2电极区域的开ロ率与所述第2隔壁区域的开ロ率相乘而得到的值后得到的第1差分值； 在配置为所述第1电极区域与所述第2隔壁区域对置的情况下，求取从所述第1电极区域的开ロ率与所述第2隔壁区域的开ロ率相乘而得到的值减去所述第2电极区域的开ロ率与所述第1隔壁区域的开ロ率相乘而得到的值后得到的第2差分值；以及 在所述第1差分值的绝对值小于所述第2差分值绝对值的情况下，配置为所述第1电极区域与所述第1隔壁区域对置，而在所述第1差分值的绝对值大于所述第2差分值的绝对值的情况下，配置为所述第1电极区域与所述第2隔壁区域対置。
2.根据权利要求1所述的等离子显示面板的制造方法，其中， 所述第1电极区域与所述第2电极区域的边界附近求取所述第1电极区域的开ロ率及所述第2电极区域的开ロ率的步骤、及在所述第1隔壁区域与所述第2隔壁区域的边界附近求取所述第1隔壁区域的开ロ率及所述第2隔壁区域的开ロ率的步骤，按照以下方式执行 在所述前面基板与所述背面基板被对置配置的情况下，在重合的位置求取所述第1电极区域的开ロ率及所述第2电极区域的开ロ率，并且求取所述第1隔壁区域的开ロ率及所述第2隔壁区域的开ロ率。
3.根据权利要求2所述的等离子显示面板的制造方法，其中， 在所述第1电极区域与所述第2电极区域的边界附近求取所述第1电极区域的开ロ率及所述第2电极区域的开ロ率的步骤还包括求取多个第1电极区域的开ロ率及多个第2电极区域的开ロ率的步骤， 在所述第1隔壁区域与所述第2隔壁区域的边界附近求取所述第1隔壁区域的开ロ率及所述第2隔壁区域的开ロ率的步骤还包括求取多个第1隔壁区域的开ロ率及多个第2隔壁区域的开ロ率的步骤。
4.根据权利要求1所述的等离子显示面板的制造方法，其中， 在所述第1电极区域与所述第2电极区域的边界附近求取所述第1电极区域的开ロ率及所述第2电极区域的开ロ率的步骤还包括对所述总线电极的宽度进行测量的步骤。
5.根据权利要求1所述的等离子显示面板的制造方法，其中， 在所述第1隔壁区域与所述第2隔壁区域的边界附近求取所述第1隔壁区域的开ロ率及所述第2隔壁区域的开ロ率的步骤还包括对所述隔壁的宽度进行测量的步骤。
6.一种等离子显示面板，其是通过等离子显示面板的制造方法而制造出的，该等离子显示面板的制造方法包括 通过将被设于前面基板上的包含感光性成分的电极膏剂层在所述前面基板的中央分为第1电极区域与第2电极区域这两个区域进行分割曝光，从而形成总线电极； 通过将被设于背面基板上的包含感光性成分的隔壁膏剂层在所述背面基板的中央分为第1隔壁区域与第2隔壁区域这两个区域进行分割曝光，从而形成隔壁； 在所述第1电极区域与所述第2电极区域的边界附近求取所述第1电极区域的开ロ率及所述第2电极区域的开ロ率； 在所述第1隔壁区域与所述第2隔壁区域的边界附近求取所述第1隔壁区域的开ロ率及所述第2隔壁区域的开ロ率； 在配置为所述第1电极区域与所述第1隔壁区域对置的情况下，求取从所述第1电极区域的开ロ率与所述第1隔壁区域的开ロ率相乘而得到的值减去所述第2电极区域的开ロ率与所述第2隔壁区域的开ロ率相乘而得到的值后得到的第1差分值； 在配置为所述第1电极区域与所述第2隔壁区域对置的情况下，求取从所述第1电极区域的开ロ率与所述第2隔壁区域的开ロ率相乘而得到的值减去所述第2电极区域的开ロ率与所述第1隔壁区域的开ロ率相乘而得到的值后得到的第2差分值；以及 在所述第1差分值的绝对值小于所述第2差分值绝对值的情况下，配置为所述第1电极区域与所述第1隔壁区域对置，而在所述第1差分值的绝对值大于所述第2差分值的绝对值的情况下，配置为所述第1电极区域与所述第2隔壁区域対置。
全文摘要
本发明提供一种等离子显示面板及其制造方法。等离子显示面板的制造方法包括通过在前面基板的中央分为第1电极区域与第2电极区域这两个区域进行分割曝光来形成总线电极；通过在背面基板的中央分为第1隔壁区域与第2隔壁区域这两个区域进行分割曝光来形成隔壁；在第1电极区域与第2电极区域的边界附近求取第1电极区域的开口率及第2电极区域的开口率；在第1隔壁区域与第2隔壁区域的边界附近求取第1隔壁区域的开口率及第2隔壁区域的开口率；求取从第1电极区域的开口率与第1隔壁区域的开口率相乘而得到的值减去第2电极区域的开口率与第2隔壁区域的开口率相乘而得到的值后得到的第1差分值；以及根据各差分值的绝对值来对置配置电极区域与隔壁区域。
文档编号H01J11/22GK102959674SQ20128000164
公开日2013年3月6日 申请日期2012年3月5日 优先权日2011年6月15日
发明者中岛彻, 上田健太郎, 小林宏史, 濑户信行 申请人:松下电器产业株式会社