专利名称：光学镀膜装置的制作方法
技术领域：
本发明是关于一种光学镀膜装置，尤其是关于一种具有旋转挡流板的光学镀膜装置。
背景技术：
目前，光学薄膜广泛应用于光学仪器，如传感器、半导体雷射、干涉仪、眼镜以及光纤通讯组件等很多领域。光学薄膜通常是藉由干涉作用而达到其预期效果，其是指在光学组件或独立基板上镀上一层或多层的介电质膜或金属膜或介电质膜来改变光波传送特性。
目前，光学薄膜制作通常以物理蒸镀法为主(physicsvapor deposition，简称PVD)，该方法为将薄膜材料由固态转化为气态或离子态，气态或离子态的材料，由蒸发源穿越空间，抵达基板表面，材料抵达基板表面后，将沉积而逐渐形成薄膜。通常，为了制作高纯度的薄膜，镀膜的制程须于高真空环境下完成。由此延伸出真空镀膜，一般做法为将基片以超音波洗净机洗净，洗净后排上夹具，送入镀膜机，进行加热及抽真空。达到高真空后，开始镀膜。镀膜时，用电阻加热蒸镀或电子枪的电子轰击，将薄膜材料变成离子态，镀膜时间则视层数及程序不同而有长短。镀膜完毕后，待基板冷却后取出。
然而现有的光学镀膜设备中，为控制镀膜的厚度分布，通常利用特殊几何形状的挡流板隔离离子流，因而适当调整空间离子流的分布，使镀膜厚度得到控制。如公开于2003年12月3日的中国发明专利第CN1459517A号，其揭示一镀膜装置及镀膜方法，请参阅图4，该镀膜装置包括一转盘11、一遮板12以及一镀材源13。其中，转盘11能规律旋转；遮板12是依照镀膜层3的特定厚度而设置，设置于靠近基板2的位置；镀材源13与转盘11相对而设，而使该遮板12设置于两者之间。遮板12的形状是依照不同镀膜需求而设计。在上述方案中遮板12固定不动，而对待镀基板2进行多层不同厚度的重复镀膜时，待第一步镀膜完成后需要更换有不同几何形状的遮板12。更换遮板12时，需先行破真空、再更换遮板12、最后重新抽真空的后才可继续进行镀膜，其不仅操作繁琐，且反复破真空及抽真空不仅费时费力而且会影响该基板2的镀膜质量。
该基板2的膜层3用镀膜装置自带的监控试片进行测定。该基板2的膜层3与监控试片呈一定比值，光学设计中常常需要多种以上的比值，现今常用光学监控系统使用多种以上不同监控波来进行监控。但使用多种不同监控波进行监控会使成本提高，也会因监测范围过大过密，会使误差增加。
发明内容为克服现有技术的光学镀膜装置的缺点，有必要提供一种操作方便、镀膜质量高及成本低廉的光学镀膜装置。
一种光学镀膜装置，包括一镀膜室、一承载架、一旋转马达、一蒸镀源及一挡流板。该承载架该镀膜室内，其用于安装多个待镀组件。该旋转马达经一连接器带动该承载架旋转。该蒸镀源设在该镀膜室底部，并与该承载架相对。该挡流板经一支撑柱设在镀膜源与承载架之间，其包括多个遮板，且该挡流板可以定位旋转。
与现有技术相比，所述光学镀膜装置的挡流板由多个遮板组成，且各遮板的形状各不相同，因此在待镀组件上镀不同厚度的膜时，只需采用不同遮板，不需要破坏镀膜室的真空状态，其会简化操作及降低镀膜成本。而且因采用形状各不相同的多个遮板，所以只需单一波长的监控波即可测定膜厚，其会减少监控成本，而且会提高监控精度，进而提高镀膜质量。
图1是本发明光学镀膜装置较佳实施方式的剖视图。
图2是本发明光学镀膜装置较佳实施方式的的挡流板的放大图。
图3是本发明光学镀膜装置较佳实施方式的的另一形状挡流板的放大图。
图4是现有技术技术光学镀膜装置的结构示意图。
具体实施方式
请参阅图1，图1是本发明较佳实施方式的光学镀膜装置剖视图。本发明较佳实施方式光学镀膜装置10包括一镀膜室20、一承载架30、一旋转马达301、一挡流板40及一蒸镀源50。该光学镀膜装置10还包括在该旋转马达301与该承载架30之间的一连轴器302。该连轴器302的一端与旋转马达301连接，并位于该镀膜室20外，该连轴器302的另一端与承载架30相连，并位于该镀膜室20内。该承载架30外形为一圆盘形，其由旋转马达301带动旋转，该承载架30上设置有多个夹板装置(图未示)，该夹板装置用于安装多个待镀基片。该蒸镀源50设在该镀膜室20的底面，与该承载架30相对。该镀膜室20的底面设有与底面垂直的一支撑柱41，该支撑柱41用于支撑该挡流板40，使该挡流板40在该镀膜源50与该承载架30之间。该档流板40包括有不同形状的多个遮板410，且每一遮板410皆可旋转至一特定位置。为便于把该挡流板40安装至该支撑柱41上，在该挡流板40的中心设计一安装孔420。为在镀膜室20外控制该挡流板40的旋转位置，可将该支撑柱41密封延伸至该镀膜室20外，藉由另一马达驱动。蒸镀源50位于挡流板40下适当距离处，与该承载架30相对。该蒸镀源50加热方式可采用电阻加热蒸镀法或电子束轰击法。
镀膜时，首先按不同的镀膜要求设置好挡流板40形状。旋转马达301通过连接轴302带动承载架30按一定转速旋转，同时，蒸镀蒸镀源50。按照不同的镀膜需求，改变挡流板40的形状，使其适当调整空间离子流的分布，以满足具有不同需求的待镀基板的镀膜要求。请参阅图2，是本发明第一实施方式的光学镀膜装置的挡流板的放大图。该挡流板40采用四遮板410结构，即该四遮板410呈十字形结构，且各遮板410的形状根据不同镀膜需要而设，即每一遮板410的形状不相同。对待镀组件进行多层不同厚度的重复镀膜时，待第一层镀膜完成后，旋转密封延伸至该镀膜室20外的支撑柱41，使檔流板40的其它遮板410置于承载架30与蒸镀源50之间，而后继续下一步镀膜程序。在镀膜室20外旋转支撑柱41，使不同遮板410分别置于承载架30与蒸镀源50之间，此时不需要破坏镀膜室20内的真空状态及重新抽真空的程序，所以不仅操作方便，而且会提高镀膜质量。
在测定膜厚时旋转支撑柱41，使有不同形状的遮板410分别置于承载架30与蒸镀源50之间，因此不需要多种监控波来进行监控，只需单一监控波就可以进行监控，其可以有效降低监控成本。又因采用单一监控波长进行监控，所以波监测范围不会过大过密，其会增加监控精度。
该挡流板40还可以采用有其它数量的遮板410结构，如三遮板结构，即Y字形结构等，请参阅图3，是三遮板式结构即Y字形结构挡流板40的放大图。
为满足不同需求，在该旋转马达301与连轴器302之间安装一变速箱(图未示)，以改变该承载架30的旋转速度。
可以理解，本发明光学镀膜装置10的真空室20的形状也可为其它形状如长方体、正方体、球体或圆柱体。另’该承载架30也可为其它具有支撑作用的框架或组件，如其可为一半球状，或者为一延伸四连杆的承载架或二于其中间交错连接的二承载杆，但为减少该承载架30旋转时所产生的离心力，优先采用对称形结构。
权利要求
1.一种光学镀膜装置，包括一镀膜室、一承载架、一旋转马达、一镀膜源及一挡流板，该承载架其设在该镀膜室内，用于安装多个待镀组件，该旋转马达经一连轴器带动该承载架旋转，该镀膜源设在该镀膜室的底部并与承载架相对，其特征在于该挡流板经一支撑柱设在镀膜源与承载架之间，该挡流板包括有不同形状的多个遮板，且每一遮板皆可旋转至一特定位置。
2.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于该各遮板的形状根据不同镀膜需求而设。
3.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于该挡流板上设有一安装孔。
4.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于该支撑柱设置在该镀膜室的底面，与该挡流板上的安装孔配合。
5.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于该支撑柱密封延伸至该镀膜室外，其可在镀膜室外调节挡流板作定位旋转。
6.如权利要求5所述的光学镀膜装置，其特征在于该挡流板为三遮板结构，即其为Y字形结构。
7.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于该挡流板为四遮板结构，即其为十字形结构。
8.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于该镀膜室是一种真空镀膜室。
9.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于该承载架上设置有多个夹板装置。
10.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于该镀膜室的形状可为长方体、正方体、球体或圆柱体。
11.如权利要求1所述的光学镀膜装置，其特征在于该蒸镀源藉由电阻式加热蒸镀或电子束轰击。
全文摘要
本发明提供一种光学镀膜装置，包括一镀膜室、一承载架、一旋转马达、一蒸镀源及一挡流板。该承载架设在该镀膜室内，其用于安装多个待镀组件。该旋转马达经一连轴器带动该承载架旋转。该蒸镀源设在该镀膜室底部，与该承载架相对。该挡流板经一支撑柱设在镀膜源与承载架之间，其包括有不同形状的多个遮板，且每一遮板皆可旋转至一特定位置定位。
文档编号C23C14/04GK1847445SQ200510034248
公开日2006年10月18日 申请日期2005年4月15日 优先权日2005年4月15日
发明者张庆州 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司