专利名称：一种平面磁控溅射装置的制作方法
技术领域：
本实用新型属于真空溅射镀膜技术，涉及一种真空镀膜用磁控溅射装置，适用于建筑玻璃、电子、能源等行业。
背景技术：
目前，磁控溅射由于其溅射速率高、沉积温度低等优点广泛应用于电子、建材、汽车等行业。作为磁控溅射的重要组成部分之一，平面磁控溅射装置具有加工简单，安装方便等优点，主要用于大面积镀膜生产。现有平面磁控溅射装置存在的缺点有(1)靶面刻蚀沟道呈V型，靶材利用率低，造成靶材的浪费；(2)由于靶面中部和端部磁场大小不一致，端部磁场普遍偏小，导致两处刻蚀速率不一致，影响大面积镀膜生产中膜厚的均匀性，尤其在实际生产中发现在端部弧形刻蚀区域和直刻蚀区域接合处出现异常严重的刻蚀；(3)随着靶材表面的剥蚀，磁场逐渐增大，导致沉积膜厚随时间不断变化，需要手动调解溅射电流或功率。
发明内容
本实用新型的目的在于克服上述现有技术存在的不足，提出一种能有效提高空间水平磁场均匀性、减小磁场垂直分量，从而能提高靶材利用率的平面磁控溅射装置。
进一步地，本发明的另一目的是提高靶面中部和端部磁场的一致性，使端部和中部溅射速度一致，从而能提高膜厚的均匀性的平面磁控溅射装置。
实现上述目的的的技术方案一种平面磁控溅射装置，包括外圈磁铁、中间磁铁、导磁片、非导磁性固定体和底座，在外圈磁铁与中间磁铁之间分别设置有非导磁性固定体，各个非导磁性固定体上面分别固定有导磁片，所述外圈磁铁、中间磁铁和非导磁性固定体都固定在底座上。
优选地，所述非导磁性固定体是PVC塑料固定体，所述外圈磁铁是U字形，所述中间磁铁是长条形。
进一步地，所述U字型外圈磁铁的弧形部分的宽度比其他部位的宽度大。
采用上述技术方案，本实用新型的有益效果在于(1)在外圈磁铁和中间磁铁之间安装导磁片，可以有效拉平磁场，减小磁场垂直分量，提高靶材利用率，通过实验证明，靶材利用率与未加导磁片相比可增加约30％。
(2)导磁片由PVC塑料固定块固定，可避免磁铁和导磁片滑动对磁场产生不良影响。
(3)由于外圈磁铁采用U字形，且U字形磁铁的端部弧形部分的宽度比其他直线部位的宽度大，增强了端部磁场，从而消除弧形拐角处的异常刻蚀，使端部和中部溅射速度一致，从而能提高膜厚的均匀性。
综上所述，本实用新型不但结构简单，而且可以有效地提高靶材利用率，提高产品膜厚的均匀性。
图1是一种平面磁控溅射装置的立体结构示意图。
图2是图1平面磁控溅射装置的A-A向截面剖视图。
标号说明1.外圈磁铁2.固定块3.导磁片4.中间磁铁5.底座6.紧固螺丝具体实施方式
实施例一种平面磁控溅射装置，如图1和图2所示，包括外圈磁铁1、固定块2、，导磁片3、中间磁铁4、底座5和紧固螺丝6。外圈磁铁1为U字形，在弧形部位宽度增加，用于增强端部弧形的磁场。在外圈磁铁1和中间磁铁4的下方装底座5，由Q235-A碳钢制成，因为其导磁性能良好且价格低廉。在外圈磁铁1和中间磁铁4之间装有固定块2，可以防止磁铁左右滑动错位，固定块2由PVC塑料制成。固定块2的上方开槽并在槽内装入导磁片3且用螺丝6紧固，导磁片3由高磁导率材料制成，导磁片3上表面与外圈磁铁1和中间磁铁4上表面齐平。磁铁1、4采用钕铁硼材料。
必须指出，尽管通过上述实施例对实用新型进行了详细说明，但对于本行业技术人员而言，还会有各种变化和改型，只要这些变化和改性不脱离本实用新型范围，它们均包括在本发明要求保护的范围之内。如根据实际需要，可以利用外圈磁铁1和导磁片3调整磁场强度，可以增加或者减小弧形外圈磁铁宽度和导磁片厚度，并调整导磁片位置，使其上表面高于或低于外圈磁铁和或中间磁铁的上表面。
权利要求1.一种平面磁控溅射装置，包括外圈磁铁和中间磁铁，其特征在于所述外圈磁铁与中间磁铁之间分别固定有导磁片。
2.根据权利要求1所述的平面磁控溅射装置，其特征在于包括底座，所述外圈磁铁、中间磁铁和导磁片固定在底座上。
3.根据权利要求1所述的平面磁控溅射装置，其特征在于在外圈磁铁与中间磁铁之间设置有非导磁性固定体，所述导磁片固定在非导磁性固定体上面。
4.根据权利要求3所述的平面磁控溅射装置，其特征在于所述非导磁性固定体是PVC塑料固定体。
5.根据权利要求3所述的平面磁控溅射装置，其特征在于包括底座，所述外圈磁铁、中间磁铁和非导磁性固定体都固定在底座上。
6.根据权利要求1-5任意一项所述的平面磁控溅射装置，其特征在于所述外圈磁铁是U字形，所述中间磁铁是长条形。
7.根据权利要求6所述的平面磁控溅射装置，其特征在于所述U字型外圈磁铁的弧形部分的宽度比其他部位的宽度大。
8.根据权利要求7所述的平面磁控溅射装置，其特征在于所述导磁片为长条形。
专利摘要本实用新型涉及一种平面磁控溅射装置，包括外圈磁铁、中间磁铁、导磁片、非导磁性固定体和底座，在外圈磁铁与中间磁铁之间分别设置有非导磁性固定体，各个非导磁性固定体上面分别固定有导磁片，所述外圈磁铁、中间磁铁和非导磁性固定体都固定在底座上，所述非导磁性固定体是PVC塑料固定体，所述外圈磁铁是U字形，进一步地，所述U字型外圈磁铁的弧形部分的宽度比其他部位的宽度大。本实用新型可使靶表面磁场均匀，提高靶材利用率，提高膜厚的均匀性。
文档编号C23C14/34GK2818495SQ20052003480
公开日2006年9月20日 申请日期2005年7月6日 优先权日2005年7月6日
发明者许生, 许沭华 申请人:深圳市豪威光电子设备有限公司