用于在化学气相沉积-反应器中沉积涂层的方法及用于化学气相沉积-反应器的进气装置的制作方法

专利名称：用于在化学气相沉积-反应器中沉积涂层的方法及用于化学气相沉积-反应器的进气装置的制作方法
用于在化学气相沉积-反应器中沉积涂层的方法及 用于化学气相沉积-反应器的进气装置本发明涉及一种用于在一个或多个衬底上涂覆涂层的方法，其成分以至 少两种气体的形式借助于进气装置导入工艺过程腔室，其中，所述气体分别 被S1入进气装置的叠置的室中，并且从该处通过与工艺过程腔室连通的气体 流出孔进入工艺过程腔室。此外，本发明还涉及一种化学气相沉积-反应器的进气装置或带有至少 两个叠置的腔室的化学气相沉积-反应器，气体出孔分别从所述腔室的底壁 开始，连通至工艺过程腔室，用于向工艺过程腔室输送分别通过导管引入腔 室中的过程气体，所述工艺过程腔室的底部由可以被驱动转动的衬底支架形 成。US5871586公开了 一种化学气相沉积-反应器，其具有一淋浴头状 (duschkopfartig)的进气装置，多种过程气体可借助于该进气装置导入工艺过 程腔室。进气装置的底侧具有数个均匀地分布在基本上圆形的表面上的气体 出孔，其开口朝向设置在进气装置下面的衬底支架。数个要涂覆的衬底位于 该驱动转动的衬底支架上，并且围绕旋转中心环状地分布。衬底支架可以从 下面借助于恰当的加热器加热。进气装置具有多个叠置的腔室。 一下面的腔 室构成冷却剂腔室，所述冷却剂通过该冷却剂腔室流动，以便将进气装置冷 却至一温度，该温度低于从进气装置流出的过程气体的反应温度。两气密地 相互分开的腔室位于该冷却剂腔室上面，所述两腔室基本上延伸经过进气装 置的整个旋转对称的横截面。两腔室中的每个被供给不同的过程气体。两种 过程气体中的一种可以是氬化物，如NH3，砷化氢或磷化氢。另一种过程气 体是有机金属化合物，因此，在衬底上可以沉积第五与第三或第二与第六主 族的元素。两个腔室中的每个通过出气通道与进气装置的底侧相连接。也使 用其它，尤其是有机金属的初始材料。在现有技术中记载了一种所谓的ALD-方法。在这种方法中，两种过程 气体不是同时，而是交替地被输入工艺过程腔室。必要时，可以在输入一种 和另一种过程气体之间向工艺过程腔室输入吹洗用气体。这种方法的目的是，交替地在衬底上沉积出基本上一种成分的单层(Monolage),例如沉积 ni-成分或II-成分，并且然后在该衬底上沉积出V-成分或VI-成分的单层。 通过这种方法可实现涂层厚度的绝对均匀性。DE 100 43 601A1公开了 一种用于在衬底上沉积出III-V-涂层的CVD(化 学气相沉积)-反应器。在该反应器中， 一进气装置伸入一位于水平平面的工 艺过程腔室。进气装置以冷却的部分伸入工艺过程腔室的中央，该腔室的底 部形成衬底支架。氲化物，例如砷化氢或磷化氢从进气装置的底侧流入工艺 过程腔室。所述氢化物在此被转向至水平方向，以便在径向流向衬底。在该 气体出孔上面设置有另 一在进气装置的整个周围上延伸的气体出孔，有机金 属化合物，例如三甲基镓(TMG)通过该气体出孔进入工艺过程腔室。US2005/0158469A1记载了一种淋浴头-反应器，其中，进气装置的腔室 由梳状设置的通道形成。JP03170675A记载了一种带有两个叠置的腔室的进气装置，其中，每个 腔室通过数个气体出孔与朝向工艺过程腔室的壁连接。单个的气体出孔可以 被单独地封闭。在US5950925记载的进气装置中，设置在径向延伸的配气通道，以便保 i正气体空间均匀地分布。US6800139公开了一种进气装置，其中，在一平面上以相对中心不同径 向间距地设置多个腔室，因此，通过气体流出面的中央可向工艺过程腔室输 入与通过气体流出面的边缘区域不同的气体组成。US4976996 ^^开了 一种CVD(化学气相沉积)-反应器，其中，过程气体 由工艺过程腔室的边缘壁输入该工艺过程腔室。过程气体在水平方向上从径 向外部向中央地流过工艺过程腔室。在工艺过程腔室的不同扇区可以输入不 同的气体。只要衬底支架可以被转动，那么，设置在衬底支架上的衬底可以 依次暴露在不同的气相下。暴露(光)时间可以通过转动速度影响。本发明所要解决的技术问题是进一 步发展开头所述的、用于制造均匀的 涂层的方法或装置。该技术问题通过各权利要求中给出的发明解决，其中，每个权利要求基 本上给出了解决该技术问题的独立方案。方法权利要求首先并主要规定为，由于进气装置的特别构造以及腔室相 应地分为多个隔间，可以在圆周上错开地向工艺过程腔室供应不同的过程气体。该方法规定，不同的过程气体相互相隔地流入反应腔室的不同隔间。在 进气装置下面的圓形轨道上转动的衬底因此可以交替地暴露在不同的过程 气体下，因此实现了一种ALD方法，而不必在工艺过程腔室中进行周期性 地换气。尤其有利的是，如果在被供应过程气体的圆周区域之间设置清洗区 域，在该区域向工艺过程腔室输送惰性气体或其它的吹洗用气体。如果通过 进气装置的中央同样向工艺过程腔室输送吹洗用气体或惰性气体，被证明也 是有利的。吹洗用气体的气流是这样调节的，即，其刚好足以避免单独的过 程气体的串扰。同时，如果各腔室的所有隔间被供应相同的过程气体，该装 置也可以实施形成主题的方法。然后，两种过程气体从进气装置的底侧的每 个位置流出。因此没有区域向工艺过程腔室输送不同过程气体。然后，甚至 可以在反应物之间发生气相反应。涉及进气装置的权利要求首先并主要规定为，即，两腔室中的每个分为 至少两个隔间，并且所述腔室的隔间基本上全等地相叠。在此也可以设计为， 在所述隔间之间的分隔区域的范围内在进气装置的底部设置吹洗用气体流 出孔。为了将吹洗用气体导入各隔间，多个孔在径向梳状地与吹洗用气体导 管相连就足以实现这一点。这些单独的孔在必要时可以用于向工艺过程腔室 输送吹洗用气体，因此，在其中分别向工艺过程腔室流入不同过程气体的相 邻区域由气体帘幕分隔。但也可以设计为，即，两个腔室中之一的一个隔间 或两个腔室的两个叠置的隔间被用于向工艺过程腔室输入吹洗用气体。在本 发明的第一种设计中规定，每个腔室分为两个隔间。每个腔室的、分隔所述 两隔间的分隔壁优选位于圓盘状的进气装置的对角线上。分隔壁相叠地放 置。但齐平地相叠放置的分隔壁也可以分别布置为十字状或行星状。各隔间 可以延伸过不同的圆周角。可以设计较小或较大的隔间。包含较大圆周角的 隔间优选用于向工艺过程腔室输入过程气体。仅围绕工艺过程腔室的中央或 围绕一 中间隔间延伸经过小圓周角的较小隔间用于向工艺过程腔室供应吹 洗用气体。衬底支架的转动速度这样地与工艺相适应，即，当衬底经过一隔 间的圓周区域时，通过该隔间向工艺过程腔室输送过程气体，刚好在衬底的 表面沉积一种成分的单层涂层。该方法尤其适用在使用这些过程气体时，即， 这些过程气体仅固有地单层液化在衬底表面上，也就是自限制地生长。衬底 支架的转动导致不同的成分被交替的沉积在衬底表面上。如果那些单个隔间 由沖洗区域分隔，过程气体通过所述隔间交替地流入工艺过程腔室，反应物6也保留足够的时间，以便相互形成涂层或形成结晶地反应。之前在淋浴头状设计的进气装置上记载的方案也可以实现如DE10043601A1或DE10153463A1所述的进气装置。在前述两申请文件中也 设计有叠置的腔室。不过，该进气装置位于工艺过程腔室的盖板和底板之间。 进气装置的两腔室借助于在垂直方向上延伸的气体输送管供应过程气体。然 后，这些过程气体流向单个腔室的各自所配属的隔间，以便在不同的圓周方 向从进气装置中在水平方向流出。进气装置设置有半圆形的流出口，这些流 出口叠置。但根据隔间的数量也可以设置四分之一或三分之一圓形的出口 孔。此外，用于相互不同的过程气体也可以通过从中流出有过程气体的区域 分割。由流出孔流出的过程气体在径向流过工艺过程腔室，并且通过围绕进 气装置的成组的衬底。通过气相反应或表面反应形成形成结晶的反应产物。用于向所述腔室的各单个隔间供应各腔室所配属的过程气体的所述气 体混合装置具有用于第一过程气体的第一气体定量装置和用于第二过程气 体的第二定量装置。其中，第一种过程气体可涉及一种上述的金属氬化物。 其中第二种过程气体涉及一种有机金属化合物。该气体混合装置具有一切换 阀装置。各腔室的所有隔间可以通过该切换阀装置被供应配属于各腔室的过 程气体。例如，上面的腔室的所有隔间用氢化物，并且下腔室用有机金属化 合物供应。氢化物和有机金属化合物通常用载气，例如氢气或氮气或惰性气 体输入各腔室中。但通过切换阀装置也可以分别向各腔室的选出的隔间供应 属于该腔室的过程气体。这些被供应各自的过程气体的隔间不是相叠地放吹洗用气体在工艺过程腔室中与来自于进气通道的底侧的各成分混合。因 此，在周向形成相互交替的区域，在这些区域中向工艺过程腔室输送不同的 过程气体，以及必要时仅输送吹洗用气体。接下来根据附图详细说明本发明的实施形式。图中

图1不按比例地示出了进气装置及腔室1的标出隔间la， lb,该腔室 通过通道3与进气装置的底侧相连，图2示出了按图1中的线II-II的、不按比例的剖视图，图3示出了按图2中的线in-ni的剖视图，图4示出了用于供应在图1和2中示意示出的进气装置的腔室1， 2的 隔间la， lb， 2a， 2b的气体混合装置的一个简单的例子，图5示出了第二种实施形式的进气装置的上腔室1的、不按比例的截面图，图6示出了按图5中的线VI-VI剖视图，图7示出了本发明的另一种实施形式的工艺过程腔室的截面图， 图8示出了按图7中的线雨-预的剖视图， 图9示出了按图7的另一种实施形式， 图IO示出了按图9中的线X-X的剖视图，图11示出了按在图9和10中所示的实施形式的进气装置的侧视图， 图12示出了按图11中的线XII-XII的剖视图。其中设置有进气装置的化学气相沉积-反应器具有 一 气体混合系统。这 种气体混合系统的一些组件在图4中示出。其涉及为解释本发明所必需的部 件。H,和H2是氢化物的气体定量装置，例如NH3， ASHg或PH3。这种定量 装置Hp H2由质量流量-控制器和阀组成。进气单元的腔室2的隔间2a被通 过气体定量装置H,供应氢化物。由气体定量装置Hb提供的氢化物可以在切 换阀16的相应位置导入腔室2的第二隔间2b,因此，整个腔室2被供应氢 化物。MOl表示一气体定量装置，该气体定量装置为腔室1的隔间lb提供 有机金属的成分。M02表示第二气体定量装置，该第二气体定量装置在切 换阀17的相应位置上为腔室1的第二隔间lb提供有机金属的成分。在这种 工作模式下，基本上从进气装置的底侧的每个位置上流出两种过程气体。为 了更好的清晰度，通常需要的出口导管一半未示出。如果切换阀16、 17调换，氢化物和以前一样流入下面的腔室的隔间2a, 然而，气体定量装置PH提供的冲洗气体流入位于旁边的隔间2b。当切换阀 17处于相应的位置时，由气体定量装置PH提供的冲洗气体流入设置在隔间 2a上面的隔间la,同时在与隔间2a对角地对置的隔间lb中流入有机金属 的成分。这就导致在有机金属成分流入进气装置下面的、归属于用"b"表示 的隔间的区域，并且在归属于隔间a的圆周区域流入氢化物。用于每个腔室中多于两个的隔间的气体混合系统看起来相对较大。其具 有相应更多的切换阀16, 17和相应更多的气体定量装置。在图1和2中示出的进气系统基本上由一带有盖板的不锈钢外壳，两个 中间板5， 6和底板8。构造有相叠地放置的腔室1、 2，其中，腔室1设计 有两隔间la和lb。隔间la、 lb分别具有基本上半圆状的截面形状，并且被分隔壁13气密地相互分开。输送管lla连接至隔间la，并且输送管llb连 接至隔间lb。腔室1的底板5通过数个小管与形成进气装置底侧的底板8相连接。这 些小管形成出气通道4，被引入腔室1中的过程气体或沖洗气体可以通过该 出气通道流入设置在进气装置下面的工艺过程腔室7。第二腔室2位于上腔室1的下壁5的下面。第二腔室2也借助于从底壁 6出发的细管与进气装置的底板连接，因此，形成出气通道4，被引入腔室2 的过程气体或冲洗气体可以通过该出气通道流入工艺过程腔室7。工艺过程腔室2通过斜向延伸的分隔壁14分为两隔间2a、 2b。每个隔 间2a、 2b配有一独立的供气管12a、 12b,可通过进气管向腔室2a, 2b输入 过程气体或沖洗气体。第三腔室15位于两个腔室1, 2的下面，该腔室没有分隔。所有形成出 气通道3、 4的细管穿过该腔室15。腔室15由冷却剂流过，所述冷却剂冷却 进气装置的底板8和细管。一例如由石墨制成的衬底支架9位于进气装置8的底侧的下面。衬底支 架9基本上一致地位于进气装置的下面，并且同样具有圓盘形状。衬底支架 9可借助于没有示出的驱动装置围绕其轴线9、转动。然后，环状地布置在衬 底支架9上的衬底IO在进气装置的出气面下面转动。如果，例如，隔间2以氬化物，位于其旁边的隔间2b以沖洗气体，设 置在隔间2a的斜对角上面的隔间lb以有机金属化合物以及位于其旁边的隔 间la又以沖洗气体供给，那么，从进气装置的出气面的不同区域向工艺过 程腔室7流入不同的过程气体。氢化物在隔间2a下面的、延伸超过180°的 圆周区域内进入工艺过程腔室。在两个区域之间可以通过没有示出的冲洗进 气通道输入冲洗气体。如果在反应器的这种操作方式转动衬底支架9，那么， 位于其上的衬底10在时间上交替地暴露在一种或另 一种过程气体中。在图5和6中示出的进气装置的实施形式中，各腔室1, 2总共具有9 个隔间la-li和2a-2i。在该实施形式中，分隔单个隔间la-li, 2a-2i的分隔壁13a-13i和14a-14i 相互齐平。两个相叠的腔室1、 2中的每个具有一中间隔间li、 2i。该中间隔间li、 2i由环状壁13a, 14a围成。该中间隔间li、 2i要么可以供应属于腔室1、 2的过程气体，要么供应吹洗用气体，因此，在工艺过程腔室7中出现了一位 于中间的被清洗的、并且没有过程气体的空间。中间隔间li、 2i围绕有数个轮辐状延伸的分隔壁13b-13i或14b-14i。这 些分隔壁13b-13i或14b-14i在对角线上延伸。这些分隔壁在周向形成依次设 置的隔间la-lh或2a-2h。在此，形成延伸经过大圓周角的隔间la、 lb、 lc、 ld。腔室2相应地形成有相同的腔室2a-2d。过程气体可通过这些十字状设 置的隔间la-ld或2a-2d输入工艺过程腔室7。这也以交替的形式进行，因 此，例如向对置的隔间la和lc供应有机金属化合物。与之相反，与前述两 隔间成9(T的隔间lb和ld被供应吹洗用气体。设置在被清洗的隔间lb和 ld下面的、下面腔室的隔间2b和2cH皮供应氢化物。在延伸经过大的圆周角的隔间la-ld或2a-2d之间设置有吹洗用气体隔 间le-lh或2e-2h。这些隔间le-lh或2e-2h可以有选择地供应属于各自腔室 1、 2的过程气体或冲洗气体。所有过程气体可以通过在图5和6中所示的进气装置，通过恰当地供应 各隔间以混合物的形式供应入工艺过程腔室7。在气体混合系统与之不同的 接通位置，仅选出的隔间被供应过程气体，其中，没有选出的隔间被供应吹 洗用气体，因此，在工艺过程腔室7的圓周区域形成了这样的区域，即，在 该区域中，衬底暴露在氢化物或有机金属化合物中。在图7和8示出的另一实施形式中涉及一所谓的行星反应器，其中，进 气装置位于工艺过程腔室7的中间。该工艺过程腔室具有一具有中间孔的工 艺过程腔室盖19，尤其是水冷的进气装置通过该孔插入所述工艺过程腔室。 工艺过程腔室的底部9位于进气装置和工艺过程腔室盖19的下面，该底部 由衬底支架形成，该衬底支架可围绕其中心轴线9、被驱动转动。数个衬底位 于衬底支架9的、围绕进气装置的区域上。衬底又可以再次位于单个的基座 (Suszeptoren)上，基座通过恰当的装置驱动转动。从进气装置流出的气体在 径向流过工艺过程腔室7。附图仅示意地示出了进气装置。重要的是，不同的过程气体，例如氢化 物或有机金属化合物通过气体导管在垂直方向上流过进气装置。在此，进气 装置具有外管22， 一直径更小的管11位于其中。由此形成的内腔分别通过 导管lla、 11b或12a、 12b中的对角延伸的分隔壁13、 14分隔。有机金属 化合物通过外导管流入第一腔室la、 lb。该腔室形成两个延伸经过半圓的、位于同一水平面的隔间la、 lb。这些隔间形成导管lla、 llb的端部区域。内管21同样形成延伸经过半圆的、位于同一水平面的隔间2a、 2b,这 些隔间基本上是导管12a、 12b的端部隔间。由图7中的截面图可知，隔间la位于隔间2a的正上方。隔间lb位于 隔间2b的正上方。中间管21在其伸入工艺过程腔室7的端部锥状地扩展， 并因而形成隔间la、 2a或lb、 2b之间的分隔壁。隔间la、 lb具有在180。圆周面上延伸的流出口 3。这些分别相互背向的 流出口 3用于流出工艺过程腔室7内用载气输送的有机金属过程气体。氢化 物通过隔间2a、 2b的出口孑L 4进入工艺过程腔室，这些出口 ^^位于孔3的 下面并且同样延伸经过18(T的圓周面。本实施形式的操作相应于前述各实施形式的操作。也可以在隔间2a、 2b 或la、 lb中分别输入相同的过程气体。作为替换，也可以仅在隔间la或2b 中输入过程气体。而在隔间lb和2a中仅输入惰性气体。当衬底支架9围绕其轴线9、转动时，位于其上的衬底交替地进入一气相， 该气相包括一种或另 一种过程气体。在图9至12中所示的实施形式是在图7和8中所示的实施形式的变形。 在此，过程气体也在水平方向上从隔间la、 lb、 2a、 2b流出。然而，与前 述实施形式不同的是，在此，单个隔间的la、 lb或2a、 2b的流出孔3、 4 被吹洗用气体流出孔20分隔。吹洗用气体借助于中间管18输送。吹洗用气 体管18位于分隔壁14的中央。吹洗用气体管18在进气装置的端部区域扩 展，因此，吹洗用气体可以从直径上对置的流出孔20流入工艺过程腔室。如开头所述的现有技术中的情况一样，在一没有示出的实施形式中，可 以额外设置一中间的过程气体导管，该导管连接在进气装置的端面。例如， 氢化物可以通过该中间吹洗用气体导管导入工艺过程腔室，如现有技术中的 情况一样。然后可以通过延伸经过不同圓周角的隔间向工艺过程腔室输入不 同的有机金属化合物，因此例如可以向工艺过程腔室的不同隔间输入含铟或 含镓的有机金属化合物。但氢化物在各个方向上，也就是在360。上被输入工 艺过程腔室。所有公开的特征都是本发明的重点。在本申请的公开内容中也包含了所 属/所附的优先权文件(在先申请文件的副本)的所有公开内容，也出于该目 的，将这些文件中的特征一并吸收到本申请的权利要求书中。
权利要求
1. 一种用于在一个或多个衬底上涂覆涂层的方法，所述涂层的成分以至少两种气体的形式借助于一进气装置导入一工艺过程腔室(7)中，其中，所述 至少两种气体分别被引入所述进气装置的、上下叠置的腔室(l， 2)中，并从 那儿通过连通至所述工艺过程腔室(7)的气体出孔(3, 4)进入该工艺过程腔室 (7)，其特征在于，由于两个腔室(l， 2)中的每个各分为至少两个基本上全等工艺过程腔室，使得环形地布置在形成所述工艺过程腔室(7)的底部的衬底支 架(9)上的衬底(10)由于所述衬底支架(9)围绕其轴线(9)的转动依次暴露在不 同的过程气体中。
2. 按权利要求1所述的方法，其特征在于，分别仅仅给不叠置的隔间 (la,2b)供应过程气体，而给其余隔间(lb,2a)供应吹洗用气体。
3. 按权利要求l或2所述的方法，其特征在于，沿周向在所述被供应过 程气体的隔间(1 a,2b， 1 c，2d)之间设置供应吹洗用气体的隔间(1 e， 1 f， 1 g, 1 h)，用 于从所述进气装置的底侧流出所述吹洗用气体。
4. 一种CVD-反应器的进气装置，该进气装置带有至少两个叠置的腔室 (1,2)，分别从该至少两个叠置的腔室(1，2)下面的壁(5，6)处开始引出气体流出 孔(3，4)，所述气体流出孔连接至所述工艺过程腔室(7),用于向所述腔室(7) 输送分别借助于一导管(11,12)导入所述腔室(1,2)的过程气体，所述工艺过程 腔室的底部由一个可驱动转动的衬底支架(9)形成，其特征在于，所述至少两 个腔室(l，2)中的每个各分为至少两个隔间(la,lb; 2a，2b),并且，各腔室(1,2) 的各隔间(la，lb; 2a,2b)基本上全等地叠置，并且分别具有相配属的导管 (lla，llb; 12a，12b)。
5. 按前述各项权利要求之一所述的进气装置，其特征在于，在所述各隔 间(la,lb; 2a，2b)之间的分隔区域内设置吹洗用气体出孔。
6. 按前列各项权利要求之一所述的进气单元，其特征在于，所述衬底(IO) 环状地围绕所述旋转对称的衬底支架(9)的中心(9，)设置。
7. 按前列各项权利要求之一所述进气装置，其特征在于，所述腔室(1,2) 行星状或十字状地分为多个隔间(la-li;2a-2i)。
8. 按前列各项权利要求之一所述的进气装置，其特征在于， 一中间隔间(li,2i)被用于有选择地输送过程气体或吹洗用气体。
9. 按前列各项权利要求之一所述进气装置，其特征在于，多个沿周向分布设置的隔间(la-lh;2a-2h)要么用于向所述工艺过程腔室(7)中输送吹洗用气 体，要么用于向所述工艺过程腔室(7)中输送过程气体。
10. 按前列各项权利要求之一所述的进气装置，其特征在于，将所述各 隔间(la-li;2a-2i)气密地相互分隔的分隔壁(13，14)上下对齐地设置。
11. 按前列各项权利要求之一所述的进气装置，其特征在于一设置在所 述腔室(1,2)下面的冷却剂腔(15),其底部(8)形成所述进气装置的底侧。
12. 按前列各项权利要求之一所述的进气装置，其特征在于，所述气体 流出孔(3,4)是通道，所述通道连接至所述出气装置的、形成所述工艺过程腔 室(7)的盖板的底侧(8)。
13. 按前列各项权利要求之一所述的进气装置，其特征在于，所述气体 流出孔(3,4)是伸入所述工艺过程腔室(7)的进气装置的、上下叠置的圆周孔。
14. 按前列各项权利之一所述的进气装置，其特征在于，在所述各隔间 (1 a, 1 b,2a,2b)的气体流出孔(3,4)之间设置有吹洗用气体导管(18)的流出孔 (20)。
15. 按前列各项权利要求之一所述的进气装置，其特征在于，有一气体 混合装置，该气体混合装置具有用于第一种过程气体的第一气体定量装置 (HhH2)和用于第二种过程气体的第二气体定量装置(MO,，M02),以及还有一切换阀装置(16,17),通过所述切换阀装置要么向各腔室(1，2)的所有隔间 (la-li;2a-2i)供应相同的过程气体，要么仅分别选择向不相叠的隔间 (I a-1 i;2a-2i)供应所配属的过程气体。
16. —种CVD-反应器，其具有按前列各项权利要求的一项或多项所述 的进气装置和一气体混合装置，后者要么向每个腔室(1,2)的所有隔间 (la-li;2a-2i)供应相同的过程气体，要么分别仅选择向不相叠的隔间 (la-li;2a-2i)供应各腔室所配属的过程气体，该CVD-反应器还具有一设置在 所述进气装置下面的衬底支架(9),该衬底支架可围绕一中心轴线转动。
全文摘要
本发明涉及一种用于在一个或多个衬底上涂覆涂层的方法，所述涂层的成分以至少两种气体的形式借助于一进气装置输入工艺过程腔室(7)，其中，所述气体分别被引入所述进气装置的叠置的腔室(1，2)，并且从那通过连接至所述工艺过程腔室(7)的气体流出孔(3，4)进入所述工艺过程腔室(7)。为了进一步发展开头所述的、用于形成单层涂层的方法或装置，本发明建议，由于两个腔室中的每个各分为至少两个基本上全等地叠置的隔间(1a，1b；2a，2b)，所述两种过程气体在周向相互分隔地进入所述工艺过程腔室，因此，环形地布置在形成所述工艺过程腔室(7)的底部的衬底支架(9)上的衬底(10)由于所述衬底支架(9)围绕其轴线(9)的转动依次暴露在不同的过程气体中。
文档编号C23C16/455GK101313086SQ200680043644
公开日2008年11月26日 申请日期2006年11月21日 优先权日2005年11月22日
发明者约翰尼斯·凯普勒 申请人:艾克斯特朗股份公司