专利名称：用于真空溅射沉积薄膜的设备的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种用于真空溅射沉积薄膜的设备。
背景技术：
目前，塑材工件的电磁波干扰遮蔽膜是一层金属薄膜，该金属薄膜通过真 空溅射物理气相沉积溅射在塑材工件上，整个过程需要在真空环境中进行。 原有技术中，真空溅射沉积薄膜设备的主溅射区内部的传送系统为带有电动 机的自动传送系统，外部传送系统为万向滚轮回送线。需溅射的工件放置在 传送平台上，经前负载腔体抽气后，直接进入溅射区腔体进行溅射沉积薄膜， 传送平台被自动送出溅射区腔体进入后负载腔体进行充气，通过回送线升降 台送至外部传送系统，由专人负责将传送平台通过万向滚轮回送线推回到进 料口处，进行下一轮回作业。溅射沉积薄膜设备中有需要溅射的金属靶极， 靶极上的金属离子通过物理气相沉积溅射在塑材工件上。因为现有溅射沉积 薄膜设备的溅射靶极组数量、腔体内的抽气速率不足等，造成溅射沉积薄膜 的厚度不厚，无法满足产品的要求；又由于需要专人负责将传送平台通过万 向滚轮回送线推回到进料口处，会导致传送平台积压在外部传送系统，效率 降低，人工成本高。
发明内容
为了克服现有技术的不足，本实用新型的目的是提供一种作业效率高、 抽气速度快、溅射薄膜厚度厚的带有自动回送线的真空溅射沉积薄膜的设备。
为解决以上技术问题，本实用新型采取的技术方案是 一种用于真空溅射 沉积薄膜的设备，包括依次设置的前升降台、前负载腔体、主溅射区、后负载 腔体、后升降台、外部回送系统，所述的主溅射区设置有多个溅射区；所述的 外部回送系统为自动回送线，所述的自动回送线包括多个回送单元，该回送单 元包括回送线支架、回送线平台、回送线传动轴、回送线传动轮、回送线马达， 所述的回送线平台置于所述的回送线支架上，所述的的回送线传动轴可转动地 设置在所述的回送线平台上，所述的回送线传动轮固定安装在所述的回送线传 动轴上，所述的回送线传动轴由所述的回送线马达带动传动。
所述的各溅射区均包括一个溅射区腔体，所述的溅射区腔体上部设置有靶极组，所述的靶极组包括多个靶材、多个靶材吊环、多个靶材法兰口，所述的 靶材位于所述的溅射区腔体内部，所述的靶材吊环与耙材法兰口位于所述的溅 射区腔体的外部，所述的溅射区腔体下部设置有内部流通冷却水的多块遮板、 溅射区传动轮及传动链条，所述的遮板上具有遮板入水口和遮板出水口，所述 的遮板入水口和遮板出水口延伸至所述的溅射区腔体外部，所述的多个溅射区 的溅射区腔体是依次相连的。
优选地，所述的主溅射区设有至少五个溅射区。
本实用新型具有如下优点提高了抽气速率及靶极溅射能力，增加了溅射 薄膜厚度；又由于增加了自动回送线，提髙了效率，降低了成本。
附图1为本实用新型整体结构俯视图； 附图2为本实用新型整体结构主视图 附图3为四号溅射区俯视附图4为四号溅射区主视图； 附图5为四号溅射区左视图； 附图6为五号溅射区俯视图； 附图7为五号溅射区主视图； 附图8为五号溅射区左视图； 附图9为升降台俯视图； 附图IO为升降台主视图； 附图11为回送单元俯视图； 附图12为回送单元主视其中1、前升降台；2、前负载腔体；3、 一号溅射区；4、 二号溅射区； 5、三号溅射区；6、四号溅射区；7、五号溅射区；8、后负载腔体；9、后升 降台；10、回送单元；11、剪型支架；12、气压缸；13、升降台传动轮；14、 升降台轴承；15、升降台传动马达；16、升降台底座；17、升降平台；18、 升降台光电开关；20、传送平台；61、四号溅射区腔体；62、靶材；63、靶 材吊环；64、靶材法兰口； 65、四号溅射区遮板66、四号溅射区拨杆开关； 67、四号溅射区传动轮；68、四号溅射区轴承；69、四号溅射区遮板入水口； 691、四号溅射区遮板出水口； 71、五号溅射区腔体；72、五号溅射区遮板；73、五号溅射区传动轮；74、五号溅射区轴承；75、五号溅射区扩散泵浦；
76、五号溅射区泵浦法兰口； 77、五号溅射区扩散泵主阀；78、五号溅射区 传动链条；79、五号溅射区遮板入水口； 791、五号溅射区遮板出水口； 101、 回送线传动轮；102、回送线传动轴；103、回送线轴承；104、回送线支架； 105、回送线平台；106、回送线马达；107、回送线光电开关。
具体实施方式
塑材工件的电磁波干扰遮蔽膜是一层金属薄膜，该金属薄膜通过金属离
子真空溅射物理气相沉积溅射在塑材工件3上，整个过程需要在真空环境中 进行。如附图1和2所示，真空溅射沉积薄膜的设备包括依次设置的前升降 台1、前负载腔体2、主溅射区、后负载腔体8、后升降台9、外部回送系统， 主溅射区包括一号溅射区3、 二号溅射区4、三号溅射区5,为了增加沉积薄 膜的厚度和提高抽气速率，增加了四号溅射区6和五号溅射区7。如附图3、 附图4和附图5所示，四号溅射区6包括一个四号溅射区腔体61，四号溅射 区腔体61的上部设置有一套靶极组，靶极组包括靶材62、靶材吊环63、靶 材法兰口 64,靶材由所溅射金属薄膜的金属材料制成，靶材62位于四号溅射 区腔体61内部，靶材吊环63与靶材法兰口 64位于四号溅射区腔体61的外 部；四号溅射区腔体61的下部包括内部通有冷却水的两块四号溅射区遮板65、 四号溅射区拨杆开关66、用于传送传送平台20的四号溅射区传动轮67和四 号溅射区轴承68，四号溅射区遮板65上具有四号溅射区遮板入水口 69和四 号溅射区遮板出水口 691,四号溅射区遮板入水口 69和四号溅射区遮板出水 口 691延伸至四号溅射区腔体61外部，溅射过程会产生大量的热量使腔体温 度升髙，为了防止塑材工件3在高温下的变形，通过通有冷却水的遮板65来 进行冷却。二号溅射区4的也设置有与四号溅射区6相同的部件，该些部件 包括靶极组、腔体、遮板、遮板入水口、遮板出水口、拨杆开关、传动轮、 轴承，它们的结构和连接关系与四号溅射区6的对应部件相同。如附图6、附 图7和附图8所示，五号溅射区7包括一个五号溅射区腔体71,五号溅射区 腔体71的上部设置有两套靶极组，五号溅射区腔体71的下部包括两块五号 溅射区遮板72、五号溅射区传动轮73、五号溅射区轴承74、两个五号溅射区 扩散泵浦75、五号溅射区泵浦法兰口 76、五号溅射区扩散泵主阀77、五号溅 射区传动链条78,五号溅射区遮板72上具有五号溅射区遮板入水口 79和五号溅射区遮板出水口 791，五号溅射区遮板入水口 79和五号溅射区遮板出水 口 791延伸至五号溅射区腔体71外部。 一号溅射区3、三号溅射区5的也各 设置有与四号溅射区6相同的部件，该些部件包括靶极组、腔体、遮板、遮 板入水口、遮板出水口、传动轮、轴承、两个扩散泵浦、泵浦法兰口、扩散 泵主阀、传动链条，它们的结构和连接关系与五号溅射区7的对应部件相同。 五个溅射区内的各腔体是连通的，泵浦持续的工作进行抽气。主溅射区的前 面是一个用来粗抽气的前负载腔体2，主溅射腔体的后面的是一个用来充气的 后负载腔体8。前负载腔体2的前面是一个前升降台1,后负载腔体8的后面 是一个后升降台9，升降台用来提升和降低传送平台20，前升降台1和后升 降台9的构造相同，如附图9和附图IO所示，升降台包括剪型支架11、置于 剪型支架11里面的气压缸12、用于传送传送平台20的升降台传动轮13和升 降台轴承14、升降台传动马达15、升降台底座16、升降平台17、升降台光 电开关18。溅射区腔体的下面是和升降台连接着的自动回送线，自动回送线 可根据溅射区的长度来加长和縮短，自动回送线包括五段回送单元10，如附 图11和附图12所示，每段回送单元10包括回送线传动轮101、回送线传动 轴102、回送线轴承103、回送线支架104、回送线平台105、回送线马达106、 回送线光电开关107，回送线平台105置于回送线支架104上，回送线传动轴 102可转动地设置在回送线平台105上，回送线传动轮101固定安装在回送线 传动轴102上，回送线传动轴102由回送线马达106带动传动，回送线光电开 关107用来检测回送线平台105上是否有传送平台20，检测到传送平台20时 启动回送线马达106进行传送平台20的传送。
本实施例的工作过程为将多个需溅射的工件放置在传送平台20上，传送 平台20经前升降台1传送至前负载腔体2,在前负载腔体2中进行粗抽气， 当前负载腔体2的真空度达到要求后把传送平台20送入一号溅射区3腔体进 行溅射沉积薄膜，溅射薄膜完成后，按次序进入二号溅射区4、三号溅射区5、 四号溅射区6、五号溅射区7进行溅射薄膜，主溅射区的多个扩散泵浦持续的 工作进行抽气，使主溅射区腔体内的真空度保持在一定的范围内，溅射薄膜 完成后传送平台20被自动送出溅射腔体进入后负载腔体8，负载腔体8充气 至大气压，充气结束后通过后升降台9送至自动回送线，经自动回送线自动 返回至进料口处，取下已经溅射薄膜结束的工件，放上需溅射的工件进行下 一轮的溅射。由于比传统溅射薄膜的设备增加了四号溅射区6和五号溅射区7，即增加了溅射区腔体、抽气系统各两套及靶极组三套，可确保在原有制程条 件下提高抽气速率及靶极溅射能力，设备改善后溅射薄膜的厚度增加了；又 由于增加了自动回送线，提髙了效率，降低了成本。
权利要求1、一种用于真空溅射沉积薄膜的设备，包括依次设置的前升降台(1)、前负载腔体(2)、主溅射区、后负载腔体(8)、后升降台(9)、外部回送系统，其特征在于所述的主溅射区设置有多个溅射区；所述的外部回送系统为自动回送线，所述的自动回送线包括多个回送单元(10)，该回送单元(10)包括回送线支架(104)、回送线平台(105)、回送线传动轴(102)、回送线传动轮(101)、回送线马达(106)，所述的回送线平台(105)置于所述的回送线支架(104)上，所述的的回送线传动轴(102)可转动地设置在所述的回送线平台(105)上，所述的回送线传动轮(101)固定安装在所述的回送线传动轴(102)上，所述的回送线传动轴(102)由所述的回送线马达(106)带动传动。
2、 根据权利要求1所述的用于真空溅射沉积薄膜的设备，其特征在于 所述的各溅射区均包括一个溅射区腔体，所述的溅射区腔体上部设置有靶极 组，所述的靶极组包括多个靶材、多个靶材吊环、多个靶材法兰口，所述的靶 材位于所述的溅射区腔体内部，所述的靶材吊环与靶材法兰口位于所述的溅射 区腔体的外部，所述的溅射区腔体下部设置有内部流通冷却水的多块遮板、溅 射区传动轮及传动链条，所述的遮板上具有遮板入水口和遮板出水口，所述的 遮板入水口和遮板出水口延伸至所述的溅射区腔体外部，所述的多个溅射区的 溅射区腔体是依次相连的。
3、 根据权利要求1或2所述的用于真空溅射沉积薄膜的设备，其特征在 于所述的主溅射区设有至少五个溅射区。
专利摘要本实用新型涉及一种用于真空溅射沉积薄膜的设备，包括依次设置的前升降台、前负载腔体、主溅射区、后负载腔体、后升降台、外部回送系统，所述的主溅射区设置有多个溅射区；所述的外部回送系统为自动回送线，所述的自动回送线包括多个回送单元，该回送单元包括回送线支架、回送线平台、回送线传动轴、回送线传动轮、回送线马达，所述的回送线平台置于所述的回送线支架上，所述的回送线传动轴可转动地设置在所述的回送线平台上，所述的回送线传动轮固定安装在所述的回送线传动轴上，所述的回送线传动轴由所述的回送线马达带动传动。本实用新型的优点是提高了抽气速率及靶极溅射能力，增加了溅射薄膜的厚度，提高了效率，降低了成本。
文档编号C23C14/34GK201317805SQ20082019934
公开日2009年9月30日 申请日期2008年11月26日 优先权日2008年11月26日
发明者曾德洪, 林政乾 申请人:柏霆(苏州)光电科技有限公司;柏腾科技股份有限公司