专利名称：镀膜装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种镀膜装置。
背景技术：
现有的利用电子回旋共振微波等离子体镀膜时，是将反应气体由反应室上方通 入，再由微波产生器产生微波，经导波管导入反应室，微波在反应室内的待镀膜基材上方形 成驻波激发反应气体产生等离子体。同时在反应室外围放置两组电磁铁，电磁铁可使电子 回旋，进一步提高等离子体生成的效率，从而使得等离子状态的反应气体在待镀膜基材上 生成膜结构。然而这种镀膜方式一般只能对一个圆形待镀膜基材进行镀膜，限制了生产效率， 无法满足大批量快速生产的要求。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种高效的镀膜装置。一种镀膜装置，其用于对待镀膜基材进行镀膜；该镀膜装置包括一外壳、一反应装 置、至少一个第一进气管、至少一个第二进气管及至少一个出气管，所述外壳具有反应腔， 所述反应腔侧壁上设置有用来收容多个待镀膜基材的容置槽，所述反应装置容置在外壳内 并能够在该反应腔内转动；反应装置呈筒状，所述反应装置包括第一容置腔及多个电磁铁， 所述反应装置沿轴向设置有多个第一喷口，所述第一喷口连通所述第一容置腔及所述反应 腔，沿反应装置轴向开设的用于传导微波的微波管道，所述微波管道与各第一喷口连通，所 述第一进气管、第二进气管与所述第一容置腔连通，所述出气管与所述反应腔相连通，所述 多个电磁铁位于所述多个第一喷口两侧用于向上述微波形成的等离子体施加磁场以产生 电子回旋共振。本发明提供的镀膜装置利用旋转的反应装置能够同时对周围多个待镀膜基材进 行镀膜，从而可以批量、快速的实现镀膜，提高镀膜的效率。
图1为本发明实施方式中提供的镀膜装置的分解示意图。图2为图1的镀膜装置的另一视角的示意图。图3为图1的镀膜装置组装后的剖视图。图4为图1的镀膜装置组装后的另一剖视图。主要元件符号说明镀膜装置100外壳10底壁11轴孔110
开口端12
侧壁13
承载板14
容置槽141
加热棒142
反应腔15
反应装置20
外筒21
外筒主体210
工作部211
第一侧壁211a
第二侧壁211b
电磁铁211c
波导管211d
微波管道211e
第一喷口213
内筒22
第二喷口221
底板23
转轴24
第一容置腔25
第二容置腔26
封闭盖30
第一进气管31
第二进气管32
出气管33
通孔3具体实施例方式请一并参阅图1及图2，为本发明提供的镀膜装置100，所述镀膜装置100包括一 个外壳10、一个反应装置20及一个封闭盖30。所述外壳10为一端封闭的六棱柱套筒。该外壳10包括一个底壁11、一个开口端 12、一个侧壁13、多个承载板14及反应腔15。所述底壁11及所述开口端12位于所述外壳 10相对的两端。所述底壁11的中心处开设有一轴孔110。所述侧壁13垂直固设在所述底 壁11的边缘，围成所述反应腔15。所述承载板14沿所述外壳10的圆周方向固设于所述 侧壁13内侧，所述承载板14为条状薄板，所述承载板14上开设有用于收容待镀膜基材的 容置槽141，并在所述承载板14内沿所述外壳10轴向装设多个加热棒142，从而可以加热 待镀膜基材来控制薄膜的结晶形态。本实施方式中，六个承载板14与所述侧壁13 —体成 型。可以理解，将承载板14固定到外壳10的方式有很多种，例如，通过螺钉固定、磁铁相互吸引，卡扣卡合等等。所述反应装置20包括一外筒21、一内筒22、底板23及转轴24。所述反应装置20 一端由所述底板23封闭，且所述转轴M垂直固定于所述底板23的外侧。所述反应装置20 收容于外壳10内，且所述转轴M从所述轴孔110伸出，所述反应装置20与外壳10通过转 轴对与轴孔121转动连接。所述外筒21包括外筒主体210及两个工作部211。所述外筒主体210呈近似六 棱柱体。所述两个工作部211形成于所述外筒主体210相对的两外侧面，且沿所述外筒21 轴向延伸。所述工作部211包括沿所述外筒21轴向延伸的一个第一侧壁211a、两个第二侧 壁211b、多个电磁铁211c及一个波导管211d。所述第一侧壁211a远离所述外筒主体210 设置，所述两个第二侧壁211b垂直固设于所述第一侧壁211a的两侧，且连接外筒主体210 与所述第一侧壁211a。第一侧壁211a上开设有多个沿所述外筒21轴向排列的第一喷口 213。本实施方式中，所述第一喷口 213等间距设置。所述多个电磁铁211c沿所述外筒21 轴向排列于所述第二侧壁211b上，位于所述各第一喷口 213两侧。且所述多个电磁铁211c 产生的磁场方向与所述第一喷口 213的喷射方向相平行。请参阅图3，在工作部211内沿所述外筒21轴向开设有一微波管道211e。所述微 波管道211e与所述第一喷口 213相连通。所述波导管211d固设于所述外筒21上相对于 底板23所在的另一端，所述波导管211d与所述微波管道211e相连通，用于向所述微波管 道211e引入微波。本实施方式中，所述波导管211d的内径与所述微波管道211e的内径相 同，且中心轴重合。所述内筒22呈环柱体，其容置于外筒21内，且一端被底板23所封闭。所述内筒 22上开设有一或多列、每列沿所述内筒22轴向排列的第二喷口 221。本实施方式中，所述 内筒22上开设有四列对称设置的第二喷口 221。每列中各第二喷口 221等间距设置。所述 内筒22与外筒21之间具有第一容置腔25，所述内筒22内具有第二容置腔沈，所述第一喷 口 213与所述第一容置腔25相连通，所述第二喷口 221与所述第二容置腔沈相连通。请参阅图4，所述封闭盖30收容于所述外壳10的开口端12内，封闭第一容置腔 25、第二容置腔沈及反应腔15。所述封闭盖30包括两个第一进气管31、两个第二进气管 32、两个出气管33。所述两个第一进气管31与所述第一容置腔25相连通用来向该第一容 置腔25内输送等离子态的反应性气体。所述两个第二进气管32与所述第二容置腔沈相 连通用来向该第二容置腔沈内输送惰性气体。所述两个出气管33与所述反应腔15相连 通用于从所述反应装置20内抽出气体。所述封闭盖30对应所述外筒21的波导管211d开 设有两个通孔34。所述波导管211d穿过所述通孔34，且与所述通孔34紧密配合。在镀膜开始前，操作者将待镀膜基材放置于承载板14的容置槽141内，然后利用 所述封闭盖30将外壳10及反应装置20均封闭。对待镀膜基材进行加工作业时，利用出气 管33将所述外壳10内抽成真空。所述转轴M转动所述反应装置20，此时对加热棒142进 行加热，并通过第二进气管32向第二容置腔沈内输送惰性气体，通过第一进气管31向第 一容置腔25内输送等离子态的反应性气体，通过所述波导管211d向所述微波管道211e内 引入微波，并向所述电磁铁211c通入电流，产生能够与微波共振的磁场。惰性气体从所述 第二喷口 221喷出，再与所述等离子态的反应性气体混合进入所述第一喷口 213，混合后的 气体在微波管道211e与所述第一喷口 213的连通处被微波激发反应，所述电磁铁211c产生的磁场与微波一起使等离子态的混合气体电子回旋，获得高密度等离子体，从而使得反 应更完全。反应完全的等离子体在气流及磁场的作用下从所述第一喷口 213喷出，并扩散 到待镀膜基材，从而在待镀膜基材上生成均勻的膜结构。本发明提供的镀膜装置利用旋转的反应装置能够对周围多个待镀膜基材进行镀 膜，从而可以批量、快速的实现镀膜，提高镀膜的效率。可以理解的是，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术构思做 出其它各种相应的改变与变形，而所有这些改变与变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
权利要求
1.一种镀膜装置，其用于对待镀膜基材进行镀膜；该镀膜装置包括一外壳、一反应装 置、至少一个第一进气管、至少一个第二进气管及至少一个出气管，所述外壳具有反应腔， 所述反应腔侧壁上设置有用来收容多个待镀膜基材的容置槽，所述反应装置容置在外壳内 并能够在该反应腔内转动；反应装置呈筒状，所述反应装置包括第一容置腔及多个电磁铁， 所述反应装置沿轴向设置有多个第一喷口，所述第一喷口连通所述第一容置腔及所述反应 腔，沿反应装置轴向开设的用于传导微波的微波管道，所述微波管道与各第一喷口连通，所 述第一进气管、第二进气管与所述第一容置腔连通，所述出气管与所述反应腔相连通，所述 多个电磁铁位于所述多个第一喷口两侧用于向上述微波形成的等离子体施加磁场以产生 电子回旋共振。
2.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述反应装置包括外筒及内筒，所述内 筒容置在外筒中，所述第一容置腔形成于所述外筒与所述内筒之间，所述内筒围成第二容 置腔，所述第一喷口沿所述外筒轴向设置，所述内筒的沿轴向开设有多个第二喷口，所述第 二喷口连通所述第一容置腔与所述第一容置腔，所述微波管道沿外筒轴向开设于所述外筒 的筒壁内，所述反应装置还包括用于引入微波的波导管，所述波导管轴向设置于所述外筒 上，所述波导管与所述微波管道连通，所述第一进气管、第二进气管及出气管分别与所述第 一容置腔、所述第二容置腔及所述反应腔相连通。
3.如权利要求2所述的镀膜装置，其特征在于，所述外筒包括外筒主体及两个工作部， 所述两个工作部形成于所述外筒主体的两侧，且沿所述外筒轴向延伸，所述工作部包括沿 所述外筒轴向延伸的一个第一侧壁及两个第二侧壁，所述第一侧壁位于远离所述外筒主体 一侧，所述两个第二侧壁垂直固设于所述第一侧壁的两侧，并连接于外筒主体与所述第一 侧壁，所述多个第一喷口轴向开设于所述第一侧壁上，所述多个电磁铁沿所述外筒轴向排 列于所述第二侧壁上，所述微波管道沿所述外筒轴向开设于所述工作部内。
4.如权利要求2所述的镀膜装置，其特征在于，所述波导管与所述微波管道内径相同。
5.如权利要求2所述的镀膜装置，其特征在于，所述各第一喷口沿外筒轴向等间距排列。
6.如权利要求2所述的镀膜装置，其特征在于，所述各第二喷口沿内筒轴向等间距排列。
7.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述外壳一端设置有轴孔，所述反应装 置一端设置有转轴，所述转轴从所述轴孔伸出，所述反应装置与所述外壳通过转轴与轴孔 转动连接。
8.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述外壳包括多个承载板，所述承载板 固设于所述外壳内壁上，所述承载板上开设有用于收容待镀膜基材的容置槽。
9.如权利要求1所述的镀膜装置，其特征在于，所述外壳还包括多个沿所述外壳轴向 装设的用于加热待镀膜基材的加热棒，所述加热棒对应所述容置槽设于所述外壳内。
全文摘要
本发明提供一种镀膜装置，其用于对待镀膜基材进行镀膜；该镀膜装置包括一具有反应腔的外壳、一反应装置、第一、第二进气管及出气管，反应腔侧壁上设收容多个待镀膜基材的容置槽，反应装置容置在外壳内并能在该反应腔内转动；反应装置呈筒状，反应装置包括第一容置腔及多个电磁铁，反应装置沿轴向设置有多个连通第一容置腔及反应腔的第一喷口，沿反应装置轴向开设的用于传导微波的微波管道，微波管道与各第一喷口连通，第一、第二进气管与第一容置腔连通，出气管与反应腔相连通，多个电磁铁位于多个第一喷口两侧用于向上述微波形成的等离子体施加磁场以产生电子回旋共振。用旋转的反应装置可对多个待镀膜基材镀膜，提高镀膜效率。
文档编号C23C16/54GK102140630SQ20101030098
公开日2011年8月3日 申请日期2010年1月30日 优先权日2010年1月30日
发明者裴绍凯 申请人:鸿富锦精密工业(深圳)有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司