专利名称：镀膜方法及装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及液晶面板技术领域，尤其涉及一种镀膜方法和镀膜装置。
背景技术：
液晶面板包括阵列基板、彩色滤光片基板及设置在二者之间的液晶层。阵列基板是液晶面板的重要组成元件之一。在阵列基板上设置有若干信号线，如数据线、扫描线等。由于各种原因，阵列基板的信号线会存在断线缺陷，即信号线存在断路。为提高阵列基板的良率，需要利用镀膜装置在断线缺陷的区域补镀金属镀膜层，以修复断开的信号线。在补镀金属镀膜层时，由于镀膜装置向阵列基板上传送的镀膜气流是高温熔融的混合物，而阵列基板则是处于常温下，因此阵列基板与镀膜气流的温差很大，导致镀膜气流 中的混合物接触阵列基板后会形成结晶物。当结晶物落在待镀膜区域时，会使得镀膜层与阵列基板之间被结晶物阻隔，镀膜层不能紧密附着于阵列基板上，从而使镀膜层不牢固，容易从阵列基板上剥离，导致镀膜失败，降低了阵列基板的良率。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种镀膜方法及装置，旨在提高镀膜的成功率和稳定性。为达以上目的，本发明提出一种镀膜方法，包括步骤对待镀件的待镀膜区加热；在所述待镀件加热后的待镀膜区镀膜。优选地，所述对待镀件的待镀膜区加热包括利用激光加热装置或电阻加热装置对待镀件的待镀膜区加热。优选地，所述对待镀件的待镀膜区加热包括发射激光并把该激光汇聚于待镀件的待镀膜区，以对该待镀膜区加热。优选地，所述对待镀件的待镀膜区加热包括加热气体并把加热后的气体吹向待镀件的待镀膜区，以对该待镀膜区加热。本发明同时提出一种镀膜装置，包括加热单元和镀膜单元，所述加热单元用于对待镀件的待镀膜区加热，所述镀膜单元用于在待镀件加热后的待镀膜区镀膜。优选地，所述加热单元为激光加热单元或电阻加热单元。优选地，所述加热单元为激光加热单元，包括激光发射器和聚光件，所述激光发射器发射的激光经聚光件汇聚后照射于所述待镀件的待镀膜区。优选地，所述镀膜单元包括一阻隔玻璃，所述激光加热单元和镀膜单元位于所述待镀件的同一侧，且所述阻隔玻璃采用聚光玻璃以充当所述激光加热单元的聚光件。优选地，所述加热单元为电阻加热单元，包括导热管、设于导热管内的发热电阻和鼓风件，所述鼓风件对所述导热管内部吹风，吹入的气体被发热电阻加热后经导热管导向所述待镀件的待镀膜区。
优选地，所述加热单元和镀膜单元并列设置位于所述待镀件的同一侧或相对设置分置于所述待镀件的两侧。本发明所提供的一种镀膜方法，通过预先对待镀件的待镀膜区加热，以提高该待镀膜区的温度，减小该待镀膜区与镀膜气流之间的温差，避免镀膜气流中的混合物于待镀件的待镀膜区结晶，从而镀膜层与待镀件之间没有结晶物的阻隔，镀膜层直接紧密附着于待镀件的待镀膜区上，提高了镀膜的成功率和稳定性。
图1是本发明的镀膜方法第一实施例的流程图；图2是本发明的镀膜方法第二实施例的流程图；
图3是本发明的镀膜装置的结构示意图；图4是本发明的镀膜装置第一实施例的结构示意图；图5是本发明的镀膜装置第二实施例的结构示意图。本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施例方式应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。参见图1，提出本发明的镀膜方法一实施例，所述镀膜方法包括步骤S101、对待镀件的待镀膜区加热。在镀膜之前，先对待镀件的待镀膜区加热，以提高待镀件的待镀膜区的温度，减小待镀件的待镀膜区与镀膜气流的温差。可以利用激光加热装置、电阻加热装置等加热装置对待镀件的待镀膜区加热，力口热装置可以与镀膜装置设为一体，也可以分体设置；加热装置与镀膜装置可以并列设置，位于待镀件的同一侧对该待镀件加热以及在该待镀件上镀膜；加热装置与镀膜装置也可以相对设置，分置于待镀件的两侧。当用激光加热装置加热时，激光加热装置的激光发射器发射的激光经聚光件汇聚后照射于待镀件的待镀膜区，汇聚后的激光就对该待镀膜区加热而提高该区域的温度。当用电阻加热装置加热时，将电阻加热装置的导热管的出风口对准待镀件的待镀膜区，电阻加热装置的鼓风件如风机则对导热管内部吹风，导热管内部的发热电阻对吹入的气体加热，加热后的热气体吹到待镀膜区使得该区域被加热，温度得以升高。步骤S102、在待镀件加热后的待镀膜区镀膜。对待镀件的待镀膜区加热后，待镀件的待镀膜区的温度得以升高，此时再在待镀件的待镀膜区镀膜时，镀膜装置喷射的高温熔融的镀膜气流与待镀件的待镀膜区的温差较小，甚至待镀件的的待镀膜区与镀膜气流之间的温差可以忽略，因此镀膜气流中的混合物不会在待镀膜区域结晶而影响镀膜气流在待镀膜区形成的镀膜层的附着力，使得镀膜层直接附着于待镀件的待镀膜区，与待镀件紧密结合，提高了镀膜的成功率和稳定性。参见图2，提出本发明的镀膜方法第二实施例。本发明的镀膜方法可以应用于液晶面板技术领域，当液晶面板的阵列基板上的信号线存在断路缺陷时，需要对断线区域补镀金属镀膜层，以修复该信号线。本实施例即以在阵列基板上补镀金属镀膜层为例对本发明的镀膜方法做详细说明步骤S201、对阵列基板的待镀膜区加热。本实施例的待镀件即为需要修复信号线的阵列基板，并只对阵列基板的待镀膜区加热，一方面减少高温对阵列基板上其他部件的影响，另一方面可以减小能量不必要的损耗和浪费。此时待镀膜区即为阵列基板上信号线因存在断线而需要补镀金属镀膜层的区域。当用激光加热装置加热时，激光加热装置的激光发射器发射的激光经聚光件汇聚后照射于阵列基板的待镀膜区，汇聚后的激光就对该待镀膜区加热而提高该区域的温度。当用电阻加热装置加热时，将电阻加热装置的导热管的 出风口对准阵列基板的待镀膜区，电阻加热装置的鼓风件如风机则对导热管内部吹风，导热管内部的发热电阻对吹入的气体加热，加热后的热气体吹到待镀膜区使得该区域被加热，温度得以升高。步骤S202、将包含金属粉末混合物的镀膜气流传送到加热后的待镀膜区。镀膜装置将高温熔融的镀膜气流喷射到阵列基板的待镀膜区，由于该区域已预先加热，其与高温熔融的镀膜气流的温差较小，甚至阵列基板的待镀膜区与镀膜气流之间的温差可以忽略，因此镀膜气流中的金属粉末混合物就不会在该待镀膜区结晶。步骤S203、分解出金属粉末混合物中的金属粒子，以使该金属粒子附着于待镀膜区上形成镀膜层。镀膜装置发射激光对金属粉末混合物进行分解，由于从金属粉末混合物中分解出的金属粒子处于高温熔融状态，因此马上附着于阵列基板的待镀膜区上形成金属镀膜层，从而将存在断线缺陷的信号线修复。由于此时阵列基板的待镀膜区已经被加热，其与金属粒子之间的温差较小或者温差可以忽略，因此附着在阵列基板的待镀膜区的金属离子不会发生结晶，从而使形成在阵列基板的待镀膜区的金属镀膜层在待镀膜区的附着力强，而不会脱落。据此，本实施例通过预先对阵列基板的待镀膜区加热，以提高阵列基板的待镀膜区的温度，减小阵列基板的待镀膜区与镀膜气流之间的温差，避免镀膜气流中的混合物于阵列基板的待镀膜区结晶，使得镀膜层与阵列基板之间没有结晶物的阻隔，镀膜层直接紧密附着于阵列基板上，因此附着力强不会脱落，提高了镀膜的成功率和稳定性。如图3-图5，本发明还提出一种镀膜装置，所述镀膜装置100包括加热单元120和镀膜单元110，其中加热单元120用于对待镀件的待镀膜区加热，镀膜单元110用于在待镀件200加热后的待镀膜区镀膜。加热单元120可以是激光加热单元121、电阻加热单元122
坐寸ο结合参见图4，提出本发明的镀膜装置第一实施例，所述镀膜装置100包括激光加热单元121和镀膜单元110，其中激光加热单元121包括激光发射器1211和聚光件1212，激光发射器1211发射的激光经聚光件1212汇聚后照射于待镀件200的待镀膜区。镀膜单元110包括镀膜腔体111、阻隔玻璃112、和激光器113，其中该镀膜腔体111开设有镀膜通道，阻隔玻璃112设置在镀膜通道的上方。镀膜腔体111具有第一出口 1111、第二出口1112、第三出口 1113及排出口 1114。用于形成镀膜的粉末状镀膜材料由该第一出口 1111吹出，该第一出口 1111设置在待镀膜区的上方。第二出口 1112设置在第一出口 1111的上方，该第二出口 1112用于吹出不与镀膜材料发生反应的气体，如惰性气体等，并且该第二出口 1112吹出的惰性气体与第一出口 1111吹出的镀膜材料混合。第三出口 1113设置在第一出口 1111的一侧，由第三出口 1113吹出的惰性气体用于阻挡由第二出口 1112吹出的惰性气体与镀膜材料的混合物扩散到非待镀膜区，即由第三出口 1113吹出的气体用于将镀膜材料限定在待镀膜区。排出口 1114位于第一出口 1111与第三出口 1113之间，用于排出镀膜材料和惰性气体的混合物。激光器113透过阻隔玻璃112向待镀件200的待镀膜区发射激光，分解出粉末状镀膜材料混合物中的金属粒子，以使该金属粒子附着于待镀件200上形成镀膜层；阻隔玻璃112阻挡粉末状镀膜材料与惰性气体形成的混合气流上浮。优选的，该镀膜腔体111还具有第二排出口 1115，该第二排出口 1115与排出口 1114分别设置在第三出口 1113的两侧，用于将从第三出口 1113吹出的气体排出。激光加热单元121和镀膜单元110可以并列设置，于待镀件200的同一侧对该待镀件200加热和在待镀件200上镀膜，从而可以将激光加热单元121的激光发射器1211和镀膜单元110的激光器113并列设置，均透过阻隔玻璃112向待镀件发射激光，此时的阻隔玻璃112可以采用聚光玻璃以充当激光加热单元121的聚光件1212。
当然，激光加热单元121和镀膜单元110也可以相对设置，分置于待镀件200两侦牝从而激光加热单元121在一侧对待镀件200加热，镀膜单元110在待镀件200另一侧对加热后的待镀膜区域镀膜。现以镀膜装置100为修复液晶面板的阵列基板上的信号线而在信号线断线的区域补镀金属镀膜层为例，详细说明本实施例的镀膜装置100的镀膜过程激光加热单元121的激光发射器1211发射的激光经聚光件1212汇聚后照射于待镀件200的待镀膜区域(即阵列基板的信号线断线区域)，得以预先对该区域加热而提高了该区域的温度。粉末状镀膜材料由该第一出口 1111吹出并与惰性气体混合形成镀膜气流，由于该待镀膜区域已被加热而与镀膜气流的温差减小，因此镀膜气流中的金属粉末混合物不会在该待镀膜区域结晶；同时激光器113向该待镀膜区发射激光，分解出镀膜气流的金属粒子，以使该金属粒子附着于待镀膜件200上形成金属镀膜层。由于金属镀膜层与待镀件200之间没有结晶物的阻隔，使得金属镀膜层得以直接附着于待镀件200，与待镀件200
糸迅彡口口。据此，本实施例通过激光加热单元121预先对待镀件200的待镀膜区加热，以提高待镀件200的待镀膜区域的温度，减小待镀件200的待镀膜区与镀膜气流之间的温差，避免镀膜气流中的混合物于待镀件200的待镀膜区结晶，使得金属镀膜层与待镀件200的待镀膜区之间没有结晶物的阻隔，金属镀膜层直接紧密附着于待镀件200的待镀膜区上，提高了镀膜的成功率和稳定性。结合参见图5，提出本发明的镀膜装置第二实施例，本实施例与上述实施例的区别在于加热单元120不同，本实施例的加热单元为电阻加热单元122，所述电阻加热单元122包括鼓风件1221、导热管1222以及设于导热管1222内的发热电阻1223，鼓风件1221可以设于导热管1222内，也可以设于导热管1222外但对准导热管1222入口。电源(图中未示出)对发热电阻1223通电使发热电阻1223发热，所述鼓风件1221对导热管1222内部吹风，吹入的气体被发热电阻1223加热后经导热管1222导向待镀件200的待镀膜区。如图5所示，电阻加热单元122可以和镀膜单元110相对设置，分置于待镀件200两侧，电阻加热单元122的导热管1222的出口对准待镀膜区，从而电阻加热单元122在一侧对待镀件200的待镀膜区加热，镀膜单元110在待镀件200另一侧对加热后的待镀膜区域镀膜。电阻加热单元122和镀膜单元110也可以并列设置，位于待镀件200的同一侧。可以将电阻加热单元122设置于镀膜单元110的周围，也即将导热管1222设置为圆环形管道，将镀膜单元110套设于该导热管1222的圆环内，使得电阻加热单元122和镀膜单元110对准待镀件200的同一位置，于同一侧对待镀件200加热和在待镀件200上镀膜。本实施例的镀膜装置100的镀膜过程如下将电阻加热单元122的导热管1222的出风口对准待镀件200的待镀膜区，电阻加热单元122的鼓风件1221如风机对导热管1222内部吹风，导热管1222内部的发热电阻1223对吹入的气体加热，加热后的热气体吹到待镀膜区使得该区域被加热，温度得以升高。粉末状镀膜材料由该第一出口 1111吹出并与惰性气体混合形成镀膜气流，由于该待镀膜区域已被加热而与镀膜气流的温差减小，因此镀膜气流中的金属粉末混合物不会在该待镀膜区域结晶；同时激光器113向该待镀膜区发射激 光，分解出镀膜气流的金属粒子，以使该金属粒子附着于待镀膜件200上形成金属镀膜层。由于金属镀膜层与待镀件200之间没有结晶物的阻隔，使得金属镀膜层得以直接附着于待镀件200上，提高了镀膜的成功率和稳定性。应当理解的是，以上仅为本发明的优选实施例，不能因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
权利要求
1.一种镀膜方法，其特征在于，包括步骤 对待镀件的待镀膜区加热； 在所述待镀件加热后的待镀膜区镀膜。
2.根据权利要求1所述的镀膜方法，其特征在于，所述对待镀件的待镀膜区加热包括 利用激光加热装置或电阻加热装置对待镀件的待镀膜区加热。
3.根据权利要求1所述的镀膜方法，其特征在于，所述对待镀件的待镀膜区加热包括 发射激光并把该激光汇聚于待镀件的待镀膜区，以对该待镀膜区加热。
4.根据权利要求1所述的待镀膜方法，其特征在于，所述对待镀件的待镀膜区加热包括 加热气体并把加热后的气体吹向待镀件的待镀膜区，以对该待镀膜区加热。
5.一种镀膜装置，其特征在于，包括加热单元和镀膜单元，所述加热单元用于对待镀件的待镀膜区加热，所述镀膜单元用于在待镀件加热后的待镀膜区镀膜。
6.根据权利要求5所述的镀膜装置，其特征在于，所述加热单元为激光加热单元或电阻加热单元。
7.根据权利要求5所述的镀膜装置，其特征在于，所述加热单元为激光加热单元，包括激光发射器和聚光件，所述激光发射器发射的激光经聚光件汇聚后照射于所述待镀件的待镀膜区。
8.根据权利要求7所述的镀膜装置，其特征在于，所述镀膜单元包括一阻隔玻璃，所述激光加热单元和镀膜单元位于所述待镀件的同一侧，且所述阻隔玻璃采用聚光玻璃以充当所述激光加热单元的聚光件。
9.根据权利要求5所述的镀膜装置，其特征在于，所述加热单元为电阻加热单元，包括导热管、设于导热管内的发热电阻和鼓风件，所述鼓风件对所述导热管内部吹风，吹入的气体被发热电阻加热后经导热管导向所述待镀件的待镀膜区。
10.根据权利要求5项所述的镀膜装置，其特征在于，所述加热单元和镀膜单元并列设置位于所述待镀件的同一侧或相对设置分置于所述待镀件的两侧。
全文摘要
本发明公开了一种镀膜方法及装置，所述镀膜方法包括步骤对待镀件的待镀膜区加热；在所述待镀件加热后的待镀膜区镀膜。从而，通过预先对待镀件的待镀膜区加热，以提高该待镀膜区的温度，减小该待镀膜区与镀膜气流之间的温差，避免镀膜气流中的混合物于待镀件的待镀膜区结晶，从而镀膜层与待镀件之间没有结晶物的阻隔，镀膜层直接紧密附着于待镀膜区上，提高了镀膜的成功率和稳定性。
文档编号C23C16/458GK103014672SQ20121056293
公开日2013年4月3日 申请日期2012年12月21日 优先权日2012年12月21日
发明者郑文达, 吴础任 申请人:深圳市华星光电技术有限公司