一种实验室用的单面刻蚀器件的制作方法

文档序号:3269812阅读:161来源:国知局
专利名称:一种实验室用的单面刻蚀器件的制作方法
技术领域
本实用新型涉及到一种实验室用的单面刻蚀器件。
背景技术
在太阳能电池生产中,刻蚀作为第三道エ序,其主要作用是去除扩散后硅片背面和边缘的p-n结,以及在扩散过程中产生的磷硅玻璃,同时去除金属杂质,防止漏电。通常我们采用的是湿法刻蚀即酸刻蚀,一般采用HF/HN03体系,在刻蚀的同时增强硅片背面的反射率,増加光的吸收,有利于增大短路电流。生产中我们常用的湿法刻蚀的设备有RENA和SCHMID,它们适用于大規模的量化生产。产业化生产前通常都会进行实验性的研究,现今没有针对实验室专用的器械,在实验室中一般都是采用RENA或SCHMID等大型生产设备,这样带来了以下缺点 (I)由于实验中片源较少,采用大型设备将会对人力、物力等资源造成极大的浪费;(2)大型生产设备对片源的规格要求较为严格,通常所处理的都是125mmX 125mm或者156_X 156mm大小的娃片,对于不符合其要求的娃片无法正常刻蚀;(3)大型生产设备对刻蚀深度、腐蚀速率等技术參数较难控制,无法为产业化生产提供准确有效的数据支持。

实用新型内容本实用新型的目的在于克服上述现有技术的缺点和不足,提供一种实验室用的单面刻蚀器件,解决现有刻蚀实验中还采用ー些大型生产设备,对人力、物力等资源造成极大浪费缺点,还解决大型生产设备难以控制刻蚀深度、腐蚀速率等技术參数,导致无法提供准确有效的实验数据的弊端。本实用新型的目的通过下述技术方案实现一种实验室用的单面刻蚀器件,包括刻蚀槽体和吸液板,所述的刻蚀槽体的上表面设置有一个凹槽,所述的吸液板的形状与凹槽匹配,吸液板放置于凹槽内,吸液板的边缘处设置有ー个缺ロ,吸液板的中心均匀分布有小孔。进ー步,上述的凹槽为截面呈正方形凹槽,吸液板与其匹配,即为ー个能够放入凹槽中的方板,且吸液板的高度不高于凹槽的深度。本实用新型的有益效果是能够对不同规格、不同形貌的试验片进行刻蚀实验,并且有效的控制反应时间、刻蚀深度等技术參数,使实验所得的结果更加真实可靠;本装置在实验中所需要的反应液需要量比较少,降低了不必要的能源浪费和环境污染;本实用新型还具有结构简单、操作方便、成本低等优点。

图I为本实用新型的剖视图;[0012]图2为吸液板的结构示意图;图中,I-刻蚀槽体,2-吸液板,3-凹槽,4-缺ロ,5-小孔。
具体实施方式
下面结合实施例对本实用新型作进ー步的详细说明,但是本实用新型的结构不仅限于以下实施例实施例如图I、图2所示,一种实验室用的单面刻蚀器件,包括刻蚀槽体I和吸液板2,所述的刻蚀槽体I的上表面设置有一个凹槽3,所述的吸液板2的形状与凹槽3匹配,吸液板2放置于凹槽3内,吸液板2的边缘处设置有一个缺ロ 4,吸液板2的中心均匀分布有小孔5。本实施例中刻蚀槽体I和吸液板2都采用聚四氟こ烯制成,能够有效防止酸碱的 腐蚀。刻蚀槽体I为ー个长为200mm、宽为200mm、高为15mm的长方体;凹槽3的截面为边长为160mm的正方形,其深度为2mm ;吸液板2与凹槽3匹配,即为ー个能够放入凹槽3中的方板,且其高度不高于凹槽3的深度,本实施例采用的吸液板2为长为158mm、宽为158mm、高为O. 5mm,缺ロ 4位于吸液板2的ー边的中心位置,缺ロ 4呈半圆形,其半径为5mm,小孔5为直径为Imm的圆孔。实验时,将吸液板2放入凹槽3内,从吸液板的缺ロ 4处滴加配好的反应液10-15滴,常用的是HF+HN03的混合液;待反应液通过毛细作用从吸液板2中间的均匀小孔5处被吸出后,将刻蚀的硅片放入凹槽3内,其位于吸液板2上面,并注意制绒面朝上,使刻蚀面与反应液接触进行刻蚀,以达到对扩散后的硅片背面和周边P-N结的去除;根据对刻蚀深度的要求来计算刻蚀时间,一般约为l_3min,刻蚀完毕后用聚四氟こ烯所制的镊子将硅片取出。
权利要求1.一种实验室用的单面刻蚀器件,其特征在于,包括刻蚀槽体(I)和吸液板(2),所述的刻蚀槽体(I)的上表面设置有一个凹槽(3),所述的吸液板(2)的形状与凹槽(3)匹配,吸液板(2)放置于凹槽(3)内,吸液板(2)的边缘处设置有一个缺口(4),吸液板(2)的中心均匀分布有小孔(5)。
2.根据权利要求I所述的一种实验室用的单面刻蚀器件,其特征在于,所述的凹槽(3)为截面呈正方形凹槽。
3.根据权利要求I或2所述的一种实验室用的单面刻蚀器件,其特征在于,所述的吸液板(2)的高度不高于凹槽(3)的深度。
专利摘要本实用新型公开了一种实验室用的单面刻蚀器件,包括刻蚀槽体(1)和吸液板(2),所述的刻蚀槽体(1)的上表面设置有一个凹槽(3),所述的吸液板(2)的形状与凹槽(3)匹配,吸液板(2)放置于凹槽(3)内,吸液板(2)的边缘处设置有一个缺口(4),吸液板(2)的中心均匀分布有小孔(5)。本实用新型的有益效果是能够对不同规格、不同形貌的试验片进行刻蚀实验,并且有效的控制反应时间、刻蚀深度等技术参数,使实验所得的结果更加真实可靠;本装置在实验中所需要的反应液需要量比较少,降低了不必要的能源浪费和环境污染;本实用新型还具有结构简单、操作方便、成本低等优点。
文档编号C23F1/08GK202610331SQ20122027639
公开日2012年12月19日 申请日期2012年6月13日 优先权日2012年6月13日
发明者赖涛, 刘杰, 王慧, 路忠林, 盛雯婷, 张凤鸣 申请人:天威新能源控股有限公司, 保定天威集团有限公司
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