真空蒸发镀膜均匀性调整装置制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种真空蒸发镀膜均匀性调整装置，真空蒸发镀膜机包括真空抽气系统、点蒸发源蒸发系统、弧形工件架和膜层厚度测试系统，膜层厚度测试系统的测试点安装在弧形工件架的旋转轴上，所述均匀性调整装置安装在真空蒸发镀膜机的点蒸发源和弧形工件架之间，所述均匀性调整装置靠近弧形工件架安装，所述均匀性调整装置包括安装座、支撑板和修正滑块，所述安装座与所述支撑板之间呈一定夹角设置，多个所述修正滑块并行排列安装在所述支撑板的两边，多个所述修正滑块宽度一致和长度不同。本实用新型提供了一种真空蒸发镀膜均匀性调整装置，为多次重复使用的均匀性调整装置，可以对膜层均匀性进行多次的调整，并将每次调整的形状进行保留。
【专利说明】真空蒸发镀膜均匀性调整装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种真空点状蒸发源蒸发镀膜设备，尤其涉及一种真空蒸发镀膜均匀性调整装置。
【背景技术】
[0002]真空蒸发镀膜已经大量应用于装饰镀膜和光学镀膜领域，尤其是在光学镀膜领域应用广泛。在高端的光学镀膜行业，光学膜系对镀膜厚度的敏感性很强，在镀膜镀膜生产的过程中，光学膜层厚度的均匀性决定了整批次生产的成品率和产品品质。但是由于蒸发镀膜采用的弧形工件架，点状蒸发源的蒸发迁移距离将随着蒸发源的布置位置而产生差异，造成了在蒸发过程中沉积厚度差，从而造成产品品质不均匀。
[0003]因此在实际的生产中，目前大部分方法是采用沉积区域遮挡的方法进行调整，而且一般都是从业人员自己根据检测结果进行手动调整，这种调整方法虽然原始，但是很有效，但是其问题在于没有固定的调整方法，而是凭借经验进行调整。为了解决这样的一个问题，本设计提供了一种可以多次重复使用的均匀性调整装置，可以对膜层均匀性进行多次的调整，并将每次调整的形状进行保留，因此具有可优化的特点。
实用新型内容
[0004]本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种真空蒸发镀膜均匀性调整装置。
[0005]本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的:
[0006]真空蒸发镀膜均匀性调整装置，真空蒸发镀膜机包括真空抽气系统、点蒸发源蒸发系统、弧形工件架和膜层厚度测试系统，膜层厚度测试系统的测试点安装在弧形工件架的旋转轴上，所述均匀性调整装置安装在真空蒸发镀膜机的点蒸发源和弧形工件架之间，所述均匀性调整装置靠近弧形工件架安装，所述均匀性调整装置包括安装座、支撑板和修正滑块，所述安装座与所述支撑板之间呈一定夹角设置，多个所述修正滑块并行排列安装在所述支撑板的两边，多个所述修正滑块宽度一致和长度不同。
[0007]安装座与支撑板之间具有一定的夹角，用于安装和支撑修正滑块；修正滑块并行排列安装在支撑板的两边上，具有用于锁紧和滑动作用的滑槽，通过调整各块修正滑块的推出或缩进量形成不同的遮挡形状，从而修正所述工件架上镀膜膜层相应位置的膜层厚度；并行排列的修正滑块具有一定的宽度和不同的长度，依次并行排列安装在支撑板上的两侧，与支撑板一起形成具有初始调整形状；并行排列的修正滑块都具有一定的推出或缩进量，可以实现多次优化调整形成不同的调整形状。
[0008]具体地，所述均匀性调整装置的安装直线平行于球形工件架基板放置区域连线。
[0009]进一步地，所述均匀性调整装置的安装直线与所述基板放置区域连线之间距离为100mm-200mmo
[0010]进一步地，所述均匀性调整装置为非导磁材料。
[0011]本实用新型的有益效果在于:
[0012]本实用新型提供了真空蒸发镀膜均匀性调整装置，为多次重复使用的均匀性调整装置，可以对膜层均匀性进行多次的调整，并将每次调整的形状进行保留。
【专利附图】
【附图说明】
[0013]图1为本实用新型真空蒸发镀膜均匀性调整装置的主视图；
[0014]图2为本实用新型真空蒸发镀膜均匀性调整装置的侧视图。
[0015]图中:1-修正滑块，2-支撑板，3-安装座。
【具体实施方式】
[0016]下面结合附图对本实用新型作进一步说明:
[0017]如图1和图2所示，本实用新型真空蒸发镀膜均匀性调整装置，均匀性调整装置为非导磁材料，真空蒸发镀膜机包括真空抽气系统、点蒸发源蒸发系统、弧形工件架和膜层厚度测试系统，膜层厚度测试系统的测试点安装在弧形工件架的旋转轴上，均匀性调整装置安装在真空蒸发镀膜机的点蒸发源和弧形工件架之间，均匀性调整装置靠近弧形工件架安装，均匀性调整装置包括安装座3、支撑板2和修正滑块1，安装座3与支撑板2之间呈一定夹角设置，多个修正滑块I并行排列安装在支撑板2的两边，多个修正滑块I宽度一致和长度不同。安装座3与支撑板2之间具有一定的夹角，用于安装和支撑修正滑块I ;修正滑块I并行排列安装在支撑板2的两边上，具有用于锁紧和滑动作用的滑槽，通过调整各块修正滑块I的推出或缩进量形成不同的遮挡形状，从而修正工件架上镀膜膜层相应位置的膜层厚度；并行排列的修正滑块I具有一定的宽度和不同的长度，依次并行排列安装在支撑板2上的两侧，与支撑板2 —起形成具有初始调整形状；并行排列的修正滑块I都具有一定的推出或缩进量，可以实现多次优化调整形成不同的调整形状。
[0018]均匀性调整装置的安装直线平行于球形工件架基板放置区域连线。均匀性调整装置的安装直线与基板放置区域连线之间距离为100mm-200mm。
W
[0019]根据初始膜层厚度分布转换得到
u0.
[0020]修正滑块I具有一定的宽度，其宽度可以根据镀膜机的实际配置进行适当的选择，并选择其中心点进行膜层厚度测试。
[0021]上面的实施例仅仅是对本实用新型的优选实施方式进行描述，并非对本实用新型的范围进行限定，在不脱离本实用新型设计精神前提下，本领域普通工程技术人员对本实用新型技术方案做出的各种变形和改进，均应落入本实用新型的权利要求书确定的保护范围内。
【权利要求】
1.真空蒸发镀膜均匀性调整装置，真空蒸发镀膜机包括真空抽气系统、点蒸发源蒸发系统、弧形工件架和膜层厚度测试系统，膜层厚度测试系统的测试点安装在弧形工件架的旋转轴上，其特征在于:所述均匀性调整装置安装在真空蒸发镀膜机的点蒸发源和弧形工件架之间，所述均匀性调整装置靠近弧形工件架安装，所述均匀性调整装置包括安装座、支撑板和修正滑块，所述安装座与所述支撑板之间呈一定夹角设置，多个所述修正滑块并行排列安装在所述支撑板的两边，多个所述修正滑块宽度一致和长度不同。
2.根据权利要求1所述的真空蒸发镀膜均匀性调整装置，其特征在于:所述均匀性调整装置的安装直线平行于球形工件架基板放置区域连线。
3.根据权利要求2所述的真空蒸发镀膜均匀性调整装置，其特征在于:所述均匀性调整装置的安装直线与所述基板放置区域连线之间距离为100mm-200mm。
4.根据权利要求1所述的真空蒸发镀膜均匀性调整装置，其特征在于:所述均匀性调整装置为非导磁材料。
【文档编号】C23C14/54GK203960326SQ201420253844
【公开日】2014年11月26日 申请日期:2014年5月19日 优先权日:2014年5月19日
【发明者】郭爱云 申请人:红安华州光电科技有限公司