技术特征：
1.一种含C的FePt基磁记录膜形成用溅射靶，其特征在于，在与溅射面垂直的截面的抛光面中，Fe-Pt合金相的平均厚度为10μm以上。2.一种含C的FePt基磁记录膜形成用溅射靶，其特征在于，在与溅射面垂直的截面的抛光面中，Fe-Pt合金相的平均长度为20μm以上。3.一种含C的FePt基磁记录膜形成用溅射靶，其特征在于，在与溅射面水平的截面的抛光面中，Fe-Pt合金相的平均长度为20μm以上。4.根据权利要求1～3中任一项所述的溅射靶，其特征在于，Pt含量为5摩尔％以上且60摩尔％以下。5.根据权利要求1～4中任一项所述的溅射靶，其特征在于，C含量为10摩尔％以上且70摩尔％以下。6.根据权利要求1～5中任一项所述的溅射靶，其特征在于，含有0.5摩尔％以上且10摩尔％以下的选自由B、Ru、Ag、Au、Cu组成的组中的一种以上元素作为添加元素。7.根据权利要求1～6中任一项所述的溅射靶，其特征在于，含有选自由氧化物、氮化物、碳化物、碳氮化物组成的组中的一种以上无机物材料作为添加材料。8.一种溅射靶的制造方法，其特征在于，将Fe-Pt合金切削为切屑，然后将其粉碎并进行扁平化处理而得到Fe-Pt合金粉末，接着将薄\t片化石墨粉末与该Fe-Pt合金粉末混合，对该混合粉末进行热压烧结，接着将该烧结体机械加工为靶形状。9.根据权利要求8所述的溅射靶的制造方法，其特征在于，混合选自由B、Ru、Ag、Au、Cu组成的组中的一种以上金属元素的粉末。10.根据权利要求8或9所述的溅射靶的制造方法，其特征在于，混合选自由氧化物、氮化物、碳化物、碳氮化物组成的组中的一种以上无机物材料的粉末。