微晶氧化物颗粒弥散强化合金涂层的原位制备方法与流程

文档序号:12347375阅读:来源:国知局

技术特征:

1.微晶氧化物颗粒弥散强化合金涂层的原位制备方法,其特征在于:所述的微晶氧化物颗粒弥散强化合金涂层由第一组元成分和第二组元成分构成;

第一组元成分,包括低亲氧性组元铜、铁、镍、钴或其组合;

第二组元成分,包括高亲氧性组元铬、铝、锆、钛、硅及稀土亲氧元素如钇、镧、镝、铈或其组合;

将上述组元通过熔炼或热压烧结制作成靶材,采用电弧离子镀工艺,在低氧分压气氛中引燃电弧进行沉积,获得前驱体涂层,然后在真空或惰性气氛中进行高温退火,涂层中吸附和固溶的氧与第二组成分发生原位反应,形成纳米/亚微米级氧化物颗粒弥散分布于金属母体中的复合涂层。

2.按照权利要求1所述微晶氧化物颗粒弥散强化合金涂层的原位制备方法,其特征在于:所述合金靶材中第一组元成分含量为15%-90%,质量比;此外,靶材中还可含有钨、钼、钽、铌高熔点组元。

3.按照权利要求1所述微晶氧化物颗粒弥散强化合金涂层的原位制备方法,其特征在于:制备前驱体涂层的电弧电流为50-400A;电流为直流或脉冲直流;当采用脉冲直流时,脉冲电流频率优选为1-1000Hz,占空比为10%-90%。

4.按照权利要求1所述微晶氧化物颗粒弥散强化合金涂层的原位制备方法,其特征在于:基体施加直流或脉冲负偏压;偏压幅值为 10-800V;脉冲负偏压频率为100Hz-50kHz,占空比10%-80%。

5.按照权利要求1所述微晶氧化物颗粒弥散强化合金涂层的原位制备方法,其特征在于:所述电弧离子镀低压氧气气氛为1×10-2-8×10-2Pa的氧气分压。

6.按照权利要求1所述微晶氧化物颗粒弥散强化合金涂层的原位制备方法,其特征在于:所述真空或惰性气氛中进行的高温退火温度范围为500-1200℃,时间为1-6小时,采用真空退火时,为减少涂层表面氧化,真空度要优于8×10-2Pa。

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