玻璃加工设备和加工玻璃的方法与流程

根据35U.S.C.§119，本申请要求2014年2月28日提交的美国临时申请序列号第61/946,224号的优先权，本文依赖于该申请的内容，且该申请的全部内容以参考的方式全部纳入本文。

本发明总体上涉及玻璃加工设备和方法，且更具体地，涉及用于加工玻璃板表面并同时保持玻璃板的原始表面的玻璃加工设备和方法。

背景技术：

从熔融拉制机器熔融拉制玻璃带是众所皆知的。玻璃带通常进一步加工成可用于生产各种液晶显示器构型的玻璃板。在加工过程中，通常需要修整玻璃板或玻璃带的边缘以去除锋利边缘和/或其它缺陷。有对在保持玻璃板的原始表面的同时实施这样的精加工技术的需求。玻璃板边缘修整对改善操作过程和客户面板制造过程所需的边缘轮廓和强度是很关键的。

技术实现要素：

下文介绍了本发明的简要内容以提供对在详细说明中描述的某些示例方面的基本理解。

在本发明的第一示例性方面中，玻璃加工设备包括至少一个上游工作装置，该上游工作装置包括工作轮，该工作轮构造为旋转使得工作轮的工作表面加工玻璃板的表面部分。至少一个上游工作装置还包括基本包围工作轮的护罩。玻璃加工设备还包括下游工作装置，该下游工作装置定位在至少一个上游工作装置下游。下游工作装置包括工作轮，该工作轮包括清洁轮。清洁轮构造为旋转使得清洁轮的工作表面通过清洁玻璃板的表面部分而加工玻璃板的表面部分，以去除由至少一个上游工作装置加工玻璃板的表面部分所产生的碎屑。

在第一方面的一个示例中，护罩包括凹槽，该凹槽构造为接纳玻璃板的表面部分。

在第一方面的另一个示例中，下游工作装置还包括基本包围清洁轮的护罩。例如，护罩包括凹槽，该凹槽构造为接纳玻璃板的表面部分。

在第一方面的又一个示例中，至少一个上游工作装置的工作轮包括砂轮。

在第一方面的又一个示例中，至少一个上游工作装置的工作轮包括抛光轮。

在第一方面的其它示例中，至少一个上游工作装置包括第一上游工作装置和第二上游工作装置。第一上游工作装置的工作轮包括砂轮，而第二上游工作装置的工作轮包括抛光轮。第二上游工作装置定位在第一上游工作装置与下游工作装置中间。

在第一方面的其它示例中，设备包括流体分配装置，该流体分配装置构造为沿玻璃板的主表面引导层流流体膜。此外，玻璃加工设备可可选地包括另一流体分配装置，该流体分配装置构造为沿玻璃板的另一主表面引导流体。

在第一方面的另一示例中，工作轮和清洁轮的至少一个的工作表面包括轮的外周界表面。

第一方面可单独实施或与以上讨论的第一方面的一个或多个示例结合实施。

在本发明的第二示例性方面中，玻璃加工设备包括至少一个上游工作装置，该上游工作装置包括工作轮，该工作轮构造为旋转使得工作轮的工作表面加工玻璃板的表面部分。至少一个上游工作装置还包括流体分配装置，该流体分配装置构造为沿玻璃板的主表面引导层流流体膜。玻璃加工设备还包括下游工作装置，该下游工作装置定位在至少一个上游工作装置下游。下游工作装置包括工作轮，该工作轮包括清洁轮。清洁轮构造为旋转使得清洁轮的工作表面通过清洁玻璃板的表面部分而加工玻璃板的表面部分，以去除由至少一个上游工作装置加工玻璃板的表面所产生的碎屑。

在第二方面的一个示例中，至少一个上游工作装置还包括另一流体分配装置，该流体分配装置构造为沿玻璃板的另一主表面引导流体。

在第二方面的另一示例中，下游工作装置包括流体分配装置，该流体分配装置构造为沿玻璃板的主表面引导层流流体膜。在其它示例中，下游工作装置包括另一流体分配装置，该流体分配装置构造为沿玻璃板的另一主表面引导流体。

在第二方面的又一示例中，至少一个上游工作装置包括第一上游工作装置和第二上游工作装置。第一上游工作装置的工作轮包括砂轮，而第二上游工作装置的工作轮包括抛光轮。第二上游工作装置定位在第一上游工作装置与下游工作装置中间。

在第二方面的又一示例中，工作轮和清洁轮的至少一个的工作表面包括轮的外周界表面。

第二方面可单独实施或与以上讨论的第二方面的一个或多个示例结合实施。

在本发明的第三示例性方面中，加工玻璃的方法包括步骤(I)：通过第一旋转工作轮的工作表面加工玻璃板的表面部分，同时沿落在玻璃板的第一主表面上的第一流体平面分配第一流体膜的基本为层流的流体。来自加工表面部分的碎屑被夹带入沿玻璃板的第一主表面行进的第一流体膜中，并被从玻璃板带走。接着，方法包括步骤(II)：通过第二旋转工作轮的工作表面加工玻璃板的表面部分，第二旋转工作轮包括清洁轮，清洁轮通过清洁玻璃板的表面部分而加工玻璃板的表面部分，以去除步骤(I)期间产生的其它碎屑。

在第三方面的一个示例中，步骤(I)和步骤(II)各自加工玻璃板的表面部分，该表面部分包括玻璃板的边缘部分。

在第三方面的另一示例中，步骤(I)包括由第一旋转工作轮通过抛光玻璃板的表面部分而加工玻璃板的表面部分，第一旋转工作轮包括旋转抛光轮。

在第三方面的又一示例中，在步骤(I)之前，方法包括以下步骤：由第一旋转工作轮通过磨削玻璃板的表面部分而加工玻璃板的表面部分，第一旋转工作轮包括旋转砂轮。

在第三方面的又一示例中，在步骤(I)期间，第一流体膜落在玻璃板的第一主表面上护罩外部的位置，且来自加工表面部分的碎屑被夹带入第一流体膜进入护罩内部。在另一示例中，在步骤(I)期间，第一流体膜行进穿过护罩内的凹槽。在又一示例中，步骤(I)包括将带有被夹带的碎屑的第一流体膜穿过护罩内的出口端口。

在第三方面的其它示例中，步骤(I)还包括沿落在玻璃板的第二主表面上的第二流体平面分配第二流体膜的基本为层流的流体。来自加工表面部分的碎屑被夹带入沿玻璃板的第二主表面行进的第二流体膜中，并被从玻璃板带走。在一个示例中，在步骤(I)期间，第二流体膜落在玻璃板的第二主表面上护罩外部的位置，且来自加工表面部分的碎屑被夹带入第二流体膜进入护罩内部。例如，在步骤(I)期间，第二流体膜行进穿过护罩内的凹槽。在另一示例中，步骤(I)包括将带有被夹带的碎屑的第二流体膜穿过护罩内的出口端口。

在第三方面的又一示例中，步骤(II)还包括沿落在玻璃板的第一主表面上的第一清洁流体平面分配第一清洁流体膜的基本为层流的流体。至少部分其它碎屑被夹带入沿玻璃板的第一主表面行进的第一清洁流体膜中，并被从玻璃板带走。在一个示例中，步骤(II)还包括沿落在玻璃板的第二主表面上的第二清洁流体平面分配第二清洁流体膜的基本为层流的流体。至少部分其它碎屑被夹带入沿玻璃板的第二主表面行进的第二清洁流体膜中，并被从玻璃板带走。

第三方面可单独实施或与以上讨论的第三方面的一个或多个示例结合实施。

附图说明

在参照附图阅读以下详细描述时更好理解这些和其它方面，附图中：

图1是根据本发明的一个示例的玻璃加工设备的立体图，玻璃加工设备包括至少一个上游工作装置和下游工作装置；

图2是图1中的玻璃加工设备的示例性流体分配装置的俯视图；

图3是图2中的流体分配装置沿线3－3的端视图；

图4是图2中的流体分配装置沿线4－4的剖视图；

图5是图4中的流体分配装置的一部分的放大图；

图6是图2中的流体分配装置沿线6－6的正视图；

图7是图2中的流体分配装置沿线7－7的剖视图；

图8是图1中的流体分配设备的示意性工作装置的俯视图；

图9是图1中的流体分配设备的示意性工作装置的正视图；

图10是图1中的流体分配设备的示意性工作装置的仰视图；

图11是图1中的玻璃加工设备的另一流体分配装置的示例的立体图；

图12是图11中的流体分配装置沿线12－12的剖视图；

图13是图11中的流体分配装置沿线13－13的剖视图；

图14是图1中的玻璃加工装置的示例性护罩的正视图；

图15是图14中的护罩的下部立体图；

图16是图14中的护罩的另一下部立体图；以及

图17是示例性流程图，示出了根据本发明的示例的加工玻璃的方法的示例性步骤。

具体实施方式

现将参照其中示出示例性实施例的附图在下文中更全面地描述示例。在全部附图中尽可能地使用相同的附图标记表示相同或相似的部件。然而，各方面可以许多不同形式实例化，而不应认为限制于本文所提出的实施例。

现参考图1，示例性玻璃加工设备101设置有各种示例性特征，这些特征可单独使用或组合使用，以有助于防止颗粒污染玻璃板111的原始表面。玻璃加工设备和加工玻璃的方法的特征可与美国专利申请公布第2013/0130597号中所公开的玻璃加工设备和方法的特征相似或相同，该公布通过参考的方式全部纳入本文。

在一个示例中，玻璃板111可包括玻璃带，其中，在玻璃带被生产(例如从下拉式玻璃熔融装置中熔融拉制)时，玻璃带的表面部分可与玻璃加工设备101作用。在另一示例中，玻璃板111可包括分离的玻璃带。例如，玻璃板可包括从玻璃带储存卷解绕的玻璃带。在又一示例中，玻璃板111可包括玻璃带的分离的部分。玻璃板111(例如，分离的玻璃板)可被包含于液晶显示器中，其中，存在加工表面部分的需求，诸如边缘部分115(例如，先前分离的边缘部分)，以改善玻璃板111的边缘质量。如所示的，表面可包括在玻璃板111的从第一主表面117至第二主表面119的玻璃板111的厚度“T”之间的玻璃板111的外缘边缘113。额外地或替代地，玻璃加工设备101可设计成加工边缘部分115的表面，包括第一主表面117和/或第二主表面119，而不加工玻璃板111的外缘边缘113。在另一示例中，第一主表面117和/或第二主表面119中的一个或两个可与玻璃板111的外缘边缘113一起加工。例如，玻璃加工设备101可设计成提供第一主表面117和/或第二主表面119与外缘边缘113之间的倒角或倒圆过渡。玻璃板111的边缘部分115的表面的加工可减小应力断裂形成和扩散到玻璃板内部的可能性，和/或可另外提高玻璃板111的质量。

玻璃加工设备101可包括下游工作装置101c和至少一个上游工作装置101a、101b。在本发明中，上游、下游和中游表示相对于彼此的过程位置。例如，包括上游工作装置和下游工作装置的玻璃加工设备可构造为：在由下游工作装置加工玻璃板的相同的表面部分之前，先由上游工作装置加工玻璃板的表面部分。如果玻璃加工设备还包括中游工作装置，则玻璃加工设备将构造为：依次由上游工作装置、接着由中游工作装置、且接着由下游工作装置加工表面部分。

如图1中所示，至少一个上游工作装置可包括第一上游工作装置101a和第二上游工作装置101b，但可在替代的示例中设置一个或任意多个上游工作装置。除了工作轮外和/或除非相反地指明，上游工作装置和下游工作装置可基本相似或相同，但在其它示例中，各工作装置可为不同的尺寸或具有不同的替代构造。为了示意性目的，第一上游工作装置101a的特征可相对于图1－16详细描述，且应理解，除非相反地指明，相似或相同的特征可设置于下游工作装置101c和/或任何余下的上游工作装置(例如，101b)。

每个工作装置101a、101b、101c包括图10中示意性地示出的工作轮1001。在一个示例中，第一上游工作装置101a的工作轮1001可包括砂轮，而第二上游工作装置101b的工作轮可包括抛光轮。虽然示出了单个砂轮和单个抛光轮，但在其它示例中，可设置两个或更多个砂轮和/或抛光轮。例如，两个或更多个砂轮可相对于彼此布置在上游、下游和/或中游。额外地或替代地，两个或更多个抛光轮可相对于彼此布置在上游、下游和/或中游。

至少一个上游工作装置可包括带有单个抛光轮的单个工作装置。例如，可不实施磨削过程，使得表面部分仅由单个工作装置抛光。替代地，可在不同的位置实施磨削程序，其中，玻璃加工设备101仅构造为抛光并清洁玻璃板，而表面部分已在远程被磨削。

在另一示例中，至少一个上游工作装置可包括带有单个砂轮的单个工作装置。例如，可整体地避免抛光程序，使得表面部分被磨削且接着被清洁。可选地，附加的抛光程序可随后在远程位置实施。

在另一示例中，至少一个上游工作装置可包括单个工作装置，单个工作装置可包括多个工作轮，诸如一个或多个砂轮和/或一个或多个抛光轮。由此，可设置单个工作装置(例如，由单个护罩包围的轮)，而不是将多个独立的工作装置相对于彼此布置在上游、中游和下游，单个工作装置包括一个或多个砂轮和/或一个或多个抛光轮且在其它示例中还可包括一个或多个清洁轮。

在又一示例中，至少一个上游工作装置可包括带有单个工作轮的单个工作装置，单个工作轮同时用作砂轮和抛光轮。即，可设置单个工作轮，从而在进一步加工以进一步使玻璃板的表面部分与清洁轮作用来清洁玻璃板的表面部分之前，先加工玻璃板的表面部分以完成成形、将人为结果等从表面部分去除。

在本发明中，砂轮可与抛光轮区别在于：相比于抛光轮，砂轮构造为去除玻璃板的显著较大量的表面部分(例如，边缘部分)，以去除表面部分内的瑕疵，诸如可弱化玻璃板的表面部分的微裂纹。额外地或替代地，砂轮可将玻璃板的表面部分再成形(例如，倒角)。在一示例性磨削程序中，如果表面部分包括玻璃板的边缘部分，则砂轮可将玻璃板的外缘部分去除，从而将微裂纹或会弱化玻璃板的其它边缘瑕疵去除。此外，边缘部分可可选地被倒角，以去除可在玻璃板的外周界边缘113与主表面117、119之间存在的尖锐角部(例如，90°角)。通过去除相对锐利的角部，可避免外周界边缘113处的其它的应力集中，以进一步强化玻璃板的边缘部分。

当与砂轮相比时，抛光轮构造为去除显著较小量的表面部分(例如，边缘部分)。实际上，抛光轮可设计成去除被砂轮留下的人为结果。由此，砂轮可去除主要的表面瑕疵且甚至可使外周界边缘113再成形(例如，倒角)，而抛光轮可去除人为结果，诸如由砂轮产生的次要的表面瑕疵。通过去除这种人为结果，甚至可能进一步精制玻璃板的表面部分(例如，边缘部分)的表面质量，并因此甚至进一步强化玻璃板的边缘部分。由此，与砂轮不同，抛光轮可构造为去除非常小量的表面部分，并保持玻璃板的表面部分的总体形状完好。

可根据本发明的方面设置各种砂轮和/或抛光轮。在一个示例中，砂轮和/或抛光轮包括具有设计成实施磨削或抛光程序的期望的结构特征的金刚石颗粒(例如，400目的金刚石颗粒)。在其它示例中，砂轮的直径可与抛光轮的直径不同或相同。例如，砂轮可可选地具有比抛光轮更大的直径。此外，在运行中，抛光轮可具有比砂轮更高的转速，但在其它示例中，抛光轮可具有与砂轮基本相同或甚至比砂轮更低的转速。

如前所述且进一步在图10中示意性地示出的，下游工作装置101c的工作轮1001包括清洁轮。虽然示出了单个清洁轮，但两个或更多个清洁轮可相对于彼此布置在上游、下游和/或中游。在本发明中，清洁轮可与砂轮和抛光轮区别在于：相比于砂轮和抛光轮，清洁轮设计成清除表面部分的在先前的磨削和/或抛光程序期间产生的颗粒而不从玻璃板的表面部分去除显著的(或任何)其它玻璃。

可根据本发明的方面设置各种清洁轮。在一个示例中，清洁轮包括SiC介质(例如，400目的SiC介质)。在另一实施例中，清洁轮可包括聚合物或橡胶粘结的轮。在另外的示例中，清洁轮可包括毡、布和/或其它纺织类型的材料。

由此，虽然可能有宽范围的构造，但所示出的玻璃加工设备101可包括第一上游工作装置101a和第二上游工作装置101b，第一上游工作装置101a包括构造为磨削表面部分113的砂轮，第二上游工作装置101b定位在第一上游工作装置101a的下游。第二上游工作装置101b包括构造为抛光表面部分113的抛光轮。所示出的示例性玻璃加工设备101还包括定位在第二上游工作装置101b下游的下游工作装置101c，使得第二上游工作装置101b定位在第一上游工作装置101a与下游工作装置101c中间。

在运行中，至少一个上游工作装置101a、101b的工作轮(例如，砂轮、抛光轮)构造为旋转使得工作轮的工作表面加工玻璃板的表面部分。例如，在如图1中所示出的实施例中，第一上游工作装置101a包括砂轮，该砂轮构造为旋转使得砂轮的磨削工作表面加工(即，磨削)玻璃板的表面部分。在如图1中进一步示出的，第二上游工作装置101b包括抛光轮，该抛光轮构造为旋转使得砂轮的抛光工作表面加工(即，抛光)玻璃板的表面部分。如所示的，磨削/抛光轮的磨削/抛光表面可包括磨削/抛光轮的外周表面，但在其它示例中，可设置磨削/抛光轮的其它表面。

此外，在运行中，下游工作装置101c的工作轮(即，清洁轮)构造为旋转使得清洁轮的工作表面(即，清洁表面)加工(即，清洁)玻璃板的表面部分，以去除由至少一个上游工作装置101a、101b对玻璃板的表面部分的加工而产生的碎屑。如所示的，工作轮的清洁表面可包括清洁轮的外周表面，但在其它示例中，可设置清洁轮的其它表面。

任何上游工作装置和/或下游工作装置可包括以下更全面地讨论的、所示出的护罩1005。例如，可选地，第一上游工作装置101a和第二上游工作装置101b可包括包围工作轮的护罩1005。可选地，下游工作装置101c还可包括包围工作轮的护罩1005。如以下更全面地讨论的，护罩可包括凹槽1401，凹槽1401构造为接纳玻璃板的表面部分(例如，边缘部分)。凹槽可可选地包括可调整的凹槽，以容纳不同厚度的玻璃板，并可精调凹槽的尺寸，使得流体膜109、905b可穿过凹槽同时最小化流体膜109上方和流体膜905b下方的空间。

如以下所讨论的，任何上游工作装置和/或下游工作装置可包括构造为沿玻璃板的第一主表面117引导流体膜的流体分配装置103，诸如层流流体膜。额外地或替代地，任何上游工作装置和/或下游工作装置可包括构造为沿玻璃板的第二主表面119引导流体的另一流体分配装置901，诸如流体膜(例如，层流流体膜)。

虽然不是必需的，如图1所示，示出了所示的示例性玻璃加工设备101加工处于基本水平定向的玻璃板111，其中，玻璃板111通过沿Z方向作用的重力基本沿所示的X-Y平面延伸。在其它示例中，玻璃板可以相对于X-Y方向的倾角定向，且在某些示例中，可沿X-Z和/或Y-Z平面定向。不管如何定向，许多流体分配装置中的一个可用于沿玻璃板的第一主表面117和/或第二主表面119分配流体膜的基本为层流的流体，以有助于防止颗粒污染玻璃板111的原始主表面117、119。本发明的方面可用于去除各种种类的颗粒，诸如具有大于3微米的最大尺寸的相对较大的颗粒种类以及具有小于约3微米的最大尺寸的相对较小的颗粒种类。

流体膜的基本为层流的流体可包括不呈层流的小部分，但包括呈层流的流体的主要部分。例如，基本为层流的流体可包括流体膜的可能含有涡流或其它流动扰动的一个或多个相对较小的区域，而流体膜的剩余部分呈基本层流的流体。提供呈层流的流体膜可用于克服在加工过程期间通常所观察到的颗粒源和颗粒动力学(现象)。实际上，流体膜可提供第一表面117和/或第二表面119与加工过程期间产生的颗粒(例如，相对较大的颗粒种类和/或相对较小的颗粒种类)隔开的保护性流体屏障。

在水平定向中，第一表面117和/或第二表面119中的一个或两个可设有一个或多个流体分配装置。例如，如图1所示，上游工作装置101a、101b和下游工作装置101c可包括流体分配装置103，流体分配装置103可用于产生覆盖第一表面117的流体膜109的层流107，第一表面117可包括沿图1所示的定向的玻璃板的上表面。流体膜可分配为设计成覆盖玻璃板111的第一表面117的平面片状流体膜109。

图2-8示出一个流体分配装置103的示例性特征，流体分配装置103可选地用于保护玻璃板111的第一表面117，但在其它示例中，类似或相同构造可用于保护玻璃板的第二表面119。为了说明的目的，图2示出带有被分配的流体膜109的流体分配装置103的俯视图。如所示的，流体膜109可具有横向于层流107的宽度“W”，层流107在第一流量截面扩大器105a和第二流量截面扩大器105b之间延伸。如所示的，第一流量截面扩大器105a和第二流量截面扩大器105b可各自包括彼此面对的相应扩大表面106a、106b。如所示的，扩大表面106a、106b可为基本平面的，且还可基本上彼此平行地延伸。通过这样的构型，流量截面扩大器105a、105b可有助于在流体膜沉积以覆盖玻璃板111的第一表面117时保持具有基本上恒定宽度“W”的流体膜109。尽管未示出，但在其它示例中，扩大表面106a、106b可彼此会聚或分开，以控制沉积在玻璃板111的第一表面上的流体膜109的最终宽度。

如果设有的话，流量截面扩大器105a、105b可操作成扩大流体膜109的宽度，流体膜109沉积以覆盖第一表面117。实际上，没有流量截面扩大器，随着流体膜行进远离流体分配装置103的细长开口，诸如水之类的流体的表面张力会自然地趋向于引起流体膜109会流。通过用扩大表面106a、106b接触流体膜109的外边缘，流体膜在其行进远离细长开口时会扩大而防止流体膜会聚的自然倾向。如果流体膜被允许不受控制地会聚，则在引入流体膜以覆盖玻璃板的表面117时可最终产生基本为湍流的流体。由此，流量截面扩大器105a、105b可设置成有助于在其置于玻璃板的表面117上时保持流体膜109的层流107。

如图2－4中所示，第一流量截面扩大器105a和第二流量截面扩大器105b可彼此基本相同或类似。在所示的示例中，第一流量截面扩大器105a可比第二流量截面扩大器105b长，但在其它示例中，流量截面扩大器可具有基本相同的长度。如图4和5中进一步所示，流体分配装置103包括面对分配方向501的分配表面401。如图6中所示，第一分配表面401限定细长开口503，细长开口503延长成限定流体膜109的宽度“W”。尽管没有必要计量尺寸，但如图5中所示，细长开口503可包括在从约50微米至约1毫米的范围内的厚度“t”，例如从约100微米至约500微米、例如从约200微米至约300微米、例如约250微米。

如图5中进一步所示，在一个示例中，流体分配装置103可构造为分配层流流体膜109使得分配方向501相对于分配表面401在可呈大致90°的角度“A”。提供相对于分配表面401基本垂直地定向的流体膜109的分配方向501可有助于防止从细长开口503离开的流体膜109向后包裹并由此产生湍流。由此，分配层流流体膜109使得分配方向在基本垂直于分配表面401的角度“A”可有助于保持流体膜109的层流107。

如图6中所示，分配表面401限定细长开口503，细长开口503具有沿细长轴线605在第一相对端部603a与第二相对端部603b之间延伸的细长中心部分601。第一相对端部603a可设有沿分配方向501从分配表面401延伸的第一流量截面扩大器105a，而第二相对端部603b可设有沿分配方向501从分配表面401延伸的第二流量截面扩大器105b。如之前所讨论的，流体膜109的宽度“W”可因而由具有可选的流量截面扩大器105a、105b的细长开口503限定。

各种结构可设计成通过细长开口503输送诸如水之类的流体以获得呈层流107的流体膜109。例如，流体分配装置103可包括第一细长腔室403，第一细长腔室403具有沿细长开口503的细长轴线605延伸的第一腔室轴线405，其中，第一细长腔室403与细长开口503流体连通。如果设有的话，第一细长腔室403可由单个部分形成或由多个紧固在一起的部分限定。例如，如图4中所示，第一细长腔室403可通过用紧固件415将第二部分411固定到第一部分413而形成。在其它示例中，流体分配装置103可包括可选的第二细长腔室407，第二细长腔室407包括基本平行于第一腔室轴线405的第二腔室轴线409。在这些示例中，第二细长腔室407可放置成与第一细长腔室403流体连通且第一细长腔室403可沿流动路径定位在细长开口503与第二细长腔室407之间。由此，第一细长腔室403可定位于第二细长腔室407下游且细长开口503可定位于第一细长腔室403和第二细长腔室407下游。在一个示例中，如图6中所示，第一细长腔室403和第二细长腔室407之间的流体连通可由延伸穿过在各细长腔室之间延伸的细长隔断壁703的多个孔701提供。

如所示的，第一腔室轴线405可基本平行于细长开口503定向，而第二腔室轴线409可基本上平行于第一腔室轴线405和细长开口503延伸。提供沿第一细长腔室405的第二细长腔室407可进一步便于沿细长开口503的长度控制压力分布和流体流动，从而进一步有助于提供均匀流动，该均匀流动便于保持穿过细长开口503的流体膜109的均匀层流107。

如图7中所示，诸如水容器的流体源705可放置成与一个或多个第一端口707流体连通，第一端口707构造为沿可垂直于第二腔室轴线409的轴线711引入流体穿过开口709进入第二细长腔室407。额外地或替代地，流体源705可放置成与一个或多个第二端口713流体连通，第二端口713构造为沿同样可垂直于第二腔室轴线409和/或第一流体端口707的每条细长轴线711的轴线717引入流体穿过开口715进入第二细长腔室407。为流体提供多个进入点可有助于便于保持穿过细长开口503的流体膜109的均匀层流107。在一个示例中，泵719可将流体提供至歧管721，歧管721可以最佳地获得流体膜中的均匀层流的方式将流体分配至第一端口707和第二端口713。计算机723可通过操作歧管中的阀和/或控制泵719的运行来控制流过端口的流体。

图9－13公开了另一示例性流体分配装置901，流体分配装置901可包含于玻璃处理设备101的上游工作装置101a、101b中的任一个和/或下游工作装置101c中。如图9和10中所示，流体分配装置可包括第一分配装置901a和第二分配装置901b，但在其它示例中，可使用单个分配装置或两个以上的分配装置。此外，如所示的，流体分配装置901a、901b可彼此相同，但在其它示例中，可提供替代的构造。流体分配装置901a、901b可构造为从细长开口沿流体分配装置的分配方向分配流体膜905a、905b的基本为层流的流体903a、903b。

流体分配装置901a、901b可设计成用流体膜905a、905b的基本为层流的流体903a、903b覆盖第二表面119。在所示的定向中，第二表面119可包括玻璃板111的下表面。由此，当与和以上所讨论的流体分配装置103相关联的流体膜109相比时，流体分配装置901a、901b可提供相对减小的宽度的流体膜。由此，对图11和12中所示的流体分配装置而言，流体扩大器可不是必需的。

如图11和12中所示，流体分配装置901a、901b可包括面对分配方向1105的分配表面1103，其中，分配表面1103限定细长开口1107。如图12中所示，流体分配装置901a、901b各自还包括与细长开口1107流体连通的第一细长腔室1201。第一细长腔室1201可包括基本平行于细长开口1107延伸的第一腔室轴线1203。在另一示例中，流体分配装置901a、901b各自还包括与第一细长腔室1201流体连通的第二腔室1205。尽管不是必需的，如所示的，第二腔室1205可沿基本平行于第一腔室轴线1203和细长开口1107延伸的第二腔室轴线延长。此外，如图13中所示，多个孔1301a、1301b、1301c可提供第一细长腔室1201与第二腔室1205之间的流体连通。提供具有孔的分离的腔室可有助于便于保持穿过细长开口1107的基本为层流的流体的流体膜。

进一步再参考图10，如先前提及的，上游工作装置101a、101b和下游工作装置101c包括工作轮1001，工作轮1001构造为绕旋转轴线1102沿方向1104旋转，使得工作轮1001的外周界表面1103加工(即，磨削、抛光和/或清洁)玻璃板111的诸如外周界边缘113之类的表面。玻璃加工设备还可包括之前提及的护罩1005，护罩1005基本包围工作轮1001的外周界表面1003。在所示的示例中，护罩1005可沿图1中所示的Z方向开口，使得重力可将流体、颗粒和/或其它污染物沿Z方向向下吸引。护罩1005可设计成在与上游工作装置101a、101b相关联的磨削和/或抛光程序期间将玻璃板111的原始表面117、119与和加工过程相关联的颗粒和/或其它污染物屏蔽开。如图1中进一步示出的，下游工作装置101c还可包括护罩1005，护罩1005可设计成将玻璃板111的原始表面117、119与从玻璃板111的表面部分清除的颗粒和/或其它污染物屏蔽开。

如图14中所示，如果设有的话，护罩1005可设有凹槽1401，凹槽1401构造为接纳玻璃板111的边缘部分115。凹槽包括具有足以容纳玻璃板的边缘部分的厚度T1的第一部段1403。凹槽1401还可包括可选的第二部分1405，第二部分1405可具有设计成容纳流体喷嘴1007(参见图9和10)的扩大厚度T2，流体喷嘴1007设计成将冷却和/或工作流体引至玻璃板111的表面和工作轮1001的外周界表面1003的工作界面1015。护罩1005可包括诸如在凹槽1401下方所示的平面部分1406之类的凹陷内部，以留有用于由第一流体分配装置901a和第二流体分配装置901b产生的流体膜的间隙。

如图14中所示，护罩1005可包括外圆柱形周界壁1407。如图15中所示，在某些示例中，外圆柱形周界壁1407可包括绕护罩1005的中心轴线1501设置的圆柱形壁。如图10中所示，护罩1005可相对于工作轮1001安装使得护罩1005的中心轴线1501与工作轮1001的旋转轴线1102一致。如图10中所示，空隙“G”可由此保持在工作轮1001的外周界表面1003与护罩1005的内表面1009之间。可设置足够的空隙以允许流体沿外圆柱形周界壁1407的内表面1009运动而不与工作轮1101的外周界表面1003实质上干涉，工作轮1101可在3600－8000转/分的范围内旋转。在一个示例中，空隙“G”可为从约5mm至约15mm的范围内，但在其它示例中，空隙可更小或更大。

转回至图15，护罩1005还包括具有内表面1505的顶壁1503，内表面1505与外圆柱形周界壁1407的内表面1009配合以限定容纳区1507。容纳区1507可包括开口的下部和由顶壁1503封闭的上部。护罩1005还可包括一个或多个支架1509a、1509b，一个或多个支架1509a、1509b构造为为流体分配装置901a、901b提供安装位置。此外，护罩可设有气体端口1511和/或轮清洁端口1513。

如图10中所示，气体端口1511可设有气体喷嘴1017，气体喷嘴1017构造为从护罩1005的内表面1009的一部分去除液体。因而，气体端口1511可提供气体屏障以防止液体绕护罩1005的内表面循环。

如图10中进一步所示，玻璃加工设备101可包括流体源1011，流体源1011通过轮清洁端口1513作用且构造为引导流体流1013冲击工作轮1001的外周界表面1003，以将加工玻璃板111的表面所产生的或与其关联的玻璃颗粒从工作轮1001清除。

如图15中进一步所示，外圆柱形周界壁1407可设有一个或多个出口端口以允许去除沿内表面1009行进的液体。例如，如图15中所示，护罩包括通过弯曲远离相应的第一翼片1517a和第二翼片1517b而形成的第一出口端口1515a和第二出口端口1515b，以形成相应的第一开口1519a和第二开口1519b，诸如延伸穿过外圆柱形周界壁1407的所示窗式开口。如以下更全面地讨论的，第一出口端口1515a可允许沿由箭头1521a标示的第一方向行进的流体流沿第一翼片1517a下落进入第一开口1519a，用于随后从护罩1005的容纳区1507去除。同样如以下更全面的讨论的，同样，第二出口端口1515b可允许沿由箭头1521b标示的相对方向行进的另一流体流沿第二翼片1517b下落进入第二开口1519b，用于随后从护罩1005的容纳区1507去除。

如图10和15中所示，护罩1005还可包括外壁部分1521，外壁部分1521构造为便于分配离开第一开口1519a和第二开口1519b的液体和颗粒沿护罩的外表面部分向下行进并离开限定在外壁部分1521与护罩1005的外表面部分之间的下开口1523。图16示出具有为了清楚起见而去除了外壁部分1521的护罩1005的另一立体图。如所示的，护罩1005可包括流体流引导件1601，流体流引导件1601可包括第一向下倾斜的引导壁1603a，引导壁1603a构造为使离开第一开口1519a的流体沿向下方向偏转。同样地，流体流引导件1601可包括第二向下倾斜的引导壁1603b，引导壁1603b构造为使离开第二开口1519b的流体沿向下方向偏转。尽管不是必需的，但各引导壁可通过下顶端部分1605连接在一起，以便于流体最终穿过下开口1523流出和/或便于制造过程。

转回至图1，加工玻璃的方法可包括沿流体平面分配流体膜109的基本为层流的流体107，使其随后落在如图4所示的玻璃板111的第一侧117上。在一个示例中，方法可包括以下步骤：通过设置在流体膜109的每侧上的一对流量截面扩大器105a、105b扩大流体膜109。在这些示例中，流量截面扩大器可有助于扩大流体膜109，以在薄膜行进落在玻璃板111的第一表面117上时保持层流。此外，方法可包括以下步骤：通过控制在细长开口503上的压力分布和流体行进穿过细长开口503的速度分布来控制流体膜沿流体膜的宽度“W”的流体流动特征。例如，压力分布和/或速度分布可通过设置第一细长腔室403、第二细长腔室407、孔701和/或端口707、713中的至少一个来控制。

同样还需要在流体膜109接触且此后沿玻璃板111的第一侧117行进时保持流体膜的层流。如图4中所示，实现平滑连续过渡的一种方法是减小流体平面与玻璃板111之间的角度。如所示的，流体分配装置103可布置成使得流体平面相对于玻璃板111的平面表面117的角度“A1”在从0°至约30°的范围内，诸如从约5°至约30°，诸如从约10°至约30°。

如图9和10中所示，加工玻璃的方法还可包括以下步骤：沿第二流体平面分配第二流体膜905a、905b的基本为层流的流体903a、903b，使其随后接触玻璃板111的第二表面119。接触角“A2”可为在从0°至约30°的范围内，诸如从约5°至约30°，诸如从约10°至约30°。虽然在其它示例中可使用其它角度，但提供在参考以上的范围内的角度“A1”和/或角度“A2”可有助于在流体膜落在玻璃板的相应表面上时在玻璃－水的过渡处保持有组织的流体流动。

加工玻璃的方法还可包括加工玻璃板111的诸如外周界边缘113之类的边缘，其中，玻璃的加工颗粒被夹带在流体膜中并被从玻璃板带走。例如，如图10中所示，工作轮1001可沿方向1104绕旋转轴线1102旋转，使得外周界表面1003接触玻璃板111的边缘部分115。在一个示例中，在砂轮沿图中10所示的顺时针方向1104旋转的同时，玻璃板可相对于工作轮1001沿方向1019运动。由此，外周界表面1003的工作区沿与玻璃板相对于工作轮1001运动的方向1019相反的方向1021行进。玻璃板111与玻璃加工设备101之间的相对运动可通过使玻璃加工设备101相对于玻璃板111和/或使玻璃板111相对于玻璃加工设备101运动来提供。工作轮1001可包括具有金刚石颗粒或足以加工(譬如磨削、抛光或修整)玻璃板边缘的其它材料的砂轮。

流体喷嘴1007可在工作界面处1015提供冷却流体1008。在一个示例中，流体喷嘴1007延伸穿过凹槽1401的放大部分1405(参见图14)。接着，冷却流体1008可被引至加工界面1015以减少否则可破坏玻璃板111的热量。冷却剂流体通常可沿工作轮1001的工作部分的方向1021导向。接着，过量的冷却流体1008和夹带在其中的任何颗粒可例如通过来自流体分配装置103、901的流体膜109、905b的层流被移走。例如，冷却流体1008可通过向下穿过护罩的底部和/或穿过外圆柱形周界壁1407中的出口端口中的一个而最终排出。

玻璃颗粒和/或砂轮颗粒可在磨削过程中被释放。各种示例性技术设计成保护玻璃板111的原始表面117、119远离这些颗粒。如图1和4中所示，流体膜109的层流107可沿第一表面117朝向磨削区域的方向行进。如图4中所示，流体膜109可自由地行进穿过凹槽1401的上区，凹槽1401具有足以允许层流流体膜进入容纳区1507的不间断的通道的厚度“T3”。在一个示例中，“T3”可为约350微米，但在其它示例中，可使用其它厚度。此外，在玻璃板下方诸如与“T3”类似或相同的凹槽间隙对流体膜905b而言可能是足够的。如所示的，整体凹槽厚度“T1”可根据具体应用的过程参数，通过可选的遮板417调节。在某些示例中，“T1”可设置或调节成约1mm至约3mm，但在其它示例中，可使用其它厚度。

如图8中所示，为了说明的目的，虚线示出为平行于细长开口503并延伸穿过流体膜109的层流107的流体平面的线。虚线还定位成在某点与玻璃板111的边缘113相交，在该点处，当在图8中从上方观察时，流体膜109的右侧越过玻璃板111的边缘113。由此，将理解到，图8中所示的层流线107与虚线和流体分配装置103的细长开口503都垂直。如图8中的虚线所表示的，可期望将流体分配装置103定向使得流体平面相对于流体平面与外周界边缘113的交线的角度“A3”在约10°至约30°的范围内，诸如约20°。提供这样倾斜的定向可有助于在加工过程期间使玻璃板和玻璃加工设备相对于彼此运动时有效地保护玻璃板的原始表面。

接着，层流流体膜109自由地覆盖玻璃板111的第一表面117并在其中行进，且进一步在加工区附近覆盖玻璃板111的第一表面117。由于否则会落在第一表面117上的任何颗粒在颗粒有机会与玻璃板111的第一表面117相互作用之前被夹带在流体膜109中并带走，从而防止容纳区1507内的颗粒接触第一表面117。一旦被夹带，接着，流体膜离开玻璃板111的表面117并接着向下行进穿过容纳区1507的底部开口端部。替代地，流体沿外圆柱形周界壁1407的内表面1009经过、离开第二出口端口1515b并向下穿过下开口1523。由此，液体还防止颗粒沉淀在护罩1005的内表面1009上，从而防止否则可导致玻璃板的原始表面的最终污染的颗粒累积。

在其它示例中，诸如第一流体分配装置901a和/或第二流体分配装置901b的另一分配装置可用于辅助保护玻璃板111的第二表面119。例如，流体分配装置901a、901b的流体膜905a、905b可覆盖第二表面119，使得在流体膜沿图10中所示的基本平行于外周界边缘113的方向行进时保持层流903a、903b。流体膜905b的部分层流可穿过凹槽1401并进入容纳区1507。由此，否则可接触第二表面119的已加工颗粒被夹带至流体膜905b中并被从玻璃板带走而不会破坏玻璃板111的第二表面119。在一个示例中，流体可行进离开玻璃板并向下穿过容纳区1507的底部开口端。替代地，流体可沿外圆柱形周界壁1407的内表面1009经过、离开第二出口端口1515b并向下穿过下开口1523。此外，如果任何流体向后穿出凹槽1401，则来自第二流体分配装置901a的另一层流膜可进一步便于从玻璃板的下表面去除流体。

如图10中所示，本发明的方法可包括以下步骤：向每个上游工作装置101a、101b和下游工作装置101c提供具有外周界表面1003的工作轮1001和基本上包围外周界表面1003的护罩1005。方法包括以下步骤：使工作轮1001绕旋转轴线1102沿方向1104旋转，并使玻璃板111相对于玻璃加工设备101运动，使得随着玻璃板111的外周界边缘113被旋转的工作轮1001加工，玻璃板111的边缘部分115经过凹槽1401。方法还可包括以下步骤：使流体经过护罩1005的内表面1009，以从玻璃板111带走加工玻璃板111的外周界边缘113时产生的已加工颗粒。

在一个示例中，来自流体分配装置103、901中的一个的流体可最终越过护罩1005的内表面1009且此后带走已加工颗粒。由此，从流体分配装置103、901经过凹槽1401的流体可最终覆盖内表面1009的一部分，以防止颗粒累积在内表面上。相反地，任何这样的颗粒会遇到越过内表面的流体并最终向下穿过容纳区1507的开口底部和/或穿过下开口1523。

因而，在一个示例中，方法可包括以下步骤：沿流体平面分配流体膜109的基本为层流的流体107，使其随后落在在护罩1005外的位置处的玻璃板111的第一侧117上。接着，方法可包括以下步骤：使流体膜109沿玻璃板111的第一侧117经过并通过如图4中所示的护罩1005的凹槽1401。接着，玻璃的已加工颗粒(即，在磨削/抛光期间产生和/或随后被清洁)可在流体膜的一部分越过护罩内表面之前或之后被夹带在流体膜中以将已加工颗粒从玻璃板带走。在一个示例中，方法还可包括以下步骤：使具有被夹带的已加工玻璃颗粒的流体经过在护罩1005中的出口端口1515a、1515b中的一个。

在另一示例中，方法可包括以下步骤：沿流体平面分配流体膜905b的基本为层流的流体903b，使其随后落在在护罩1005外的位置处的玻璃板111的第二侧119上。接着，方法可包括以下步骤：使流体膜905b沿玻璃板111的第二侧119行进并穿过如图4和10中所示的护罩1005的凹槽1401。接着，玻璃的已加工颗粒可在流体膜的一部分越过护罩内表面之前或之后被夹带在流体膜中以将已加工颗粒从玻璃板带走。在一个示例中，方法还可包括以下步骤：使具有被夹带的已加工玻璃颗粒的流体经过在护罩1005中的出口端口1515a、1515b中的一个。

本发明的其它方面可包括将加工(即，磨削/抛光或清洁)玻璃板边缘时产生的玻璃颗粒从工作轮清除(的步骤)。清洁工作轮可有助于管理玻璃颗粒的累积，以减小否则可能污染玻璃板的原始表面的大颗粒块旋转离开砂轮的可能性。如图10中所示，这种方法可包括以下步骤：用流体流1013冲击工作轮1001的外周界表面1003，以将加工玻璃板边缘时累积的玻璃颗粒从工作轮1001清除。

如图10中所示，流体流1013以相对于第一轴线1525的锐角“A”冲击工作轮1001的外周界表面1003，第一轴线1525垂直于第二轴线1527，第二轴线1527是冲击点1529处的切线。如所示的，角度“A4”可在其向工作轮1001的旋转方向倾斜时为正值，或在其沿远离工作轮1001的旋转方向倾斜时为负值。在一个示例中，“A4”可沿如图10中所示的正方向或负方向为30°。在其它示例中，可提供其它角度。此外，在其它示例中，流体流1013可沿第一轴线1525的方向。

如图10和15中所示，沿正30°的方向定向流体流可有助于将流体引向与第一翼片1517a相关联的第一出口端口1515a。由此，其中包括颗粒的流体可定向成离开第一出口端口1515a和/或向下穿过容纳区1507的底部开口。

在其它示例中，方法可包括以下步骤：提供具有气体喷嘴1017的空气屏障。由此，内表面1009的一部分可设计成基本上没有流动的流体。例如，参考图10，顺时针方向从气体喷嘴1017至流体喷嘴1007的内表面1009可设计成基本上没有液体。另一方面，可沿顺时针从流体喷嘴1007至流体源1011的内表面1009保持液体。由此，可促使流体通过出口端口1515a、1515b中的一个被去除并防止流体绕内周界壁循环而进一步暴露于在加工位置处的额外的颗粒。

以上讨论的本发明的各方面可便于涉及在保持玻璃板的原始表面的同时加工玻璃的精加工技术。本发明的各方面解决这种精加工技术在保持玻璃板的原始表面的同时涉及的各种颗粒源，诸如：(1)加工期间在玻璃边缘处产生的玻璃颗粒；(2)包含磨削和抛光冷却剂的颗粒；(3)空气中飞溅的颗粒；以及(4)加工期间释放的工作轮颗粒。

本发明的某些方面导致诸如水膜之类的流体膜，该水膜可通过流体分配装置103、901被引入，以在玻璃板的两侧上提供片状水管理。流体分配装置可有助于通过产生水或其它流体的不间断层流膜以克服颗粒源和来自各种颗粒源的颗粒动力学(现象)，从而保持玻璃板的原始表面。在某些示例中，颗粒可设计成在2.2秒内被去除，以避免颗粒沉积在玻璃表面上。层流流体膜(例如，水膜)设计成向暴露于各种颗粒源的玻璃板的所有表面区域提供不间断层流流体膜和流体流速。

在图1中所示的定向中，在重力趋向于便于将颗粒从玻璃板的底侧去除的同时，重力趋向于有助于偏置颗粒以与玻璃板的上侧配合。流体分配装置103设计成在流体膜落在玻璃板的上表面上之前和之后提供不间断的层流水膜和水流速。同样地，流体分配装置901也在流体膜落在玻璃板的下表面上之前和之后提供不间断的层流水膜和水流速。不间断的层流水膜可有助于防止颗粒渗透和/或粘附到玻璃表面且有助于保持玻璃板的原始表面和清洁度。

本发明的其它方面提供了有效地容纳飞溅颗粒并防止颗粒累积在护罩内的自洁式护罩。例如，护罩可有助于控制飞溅颗粒和/或防止工作轮的残余颗粒的累积物累积在护罩内。水壁可在自洁式护罩内产生以冲洗护罩的表面，从而冲走否则可引起玻璃污染问题的颗粒。由此，自洁式护罩不仅设计成容纳加工期间产生的飞溅颗粒，而且及时将颗粒从玻璃板附近去除以避免累积在护罩内部，否则该累积会出现累积颗粒的污染源。

本发明的其它方面提供了一个或多个流体(例如，水)清洁喷射器，清洁喷射器设计成从工作轮除去颗粒，使得颗粒不会累积且此后在稍后的时间再沉积在玻璃表面上。水喷射器可便于从工作轮除去颗粒，以防止飞溅的颗粒和护罩内的颗粒累积物。在某些示例中，砂轮清洁喷射器可定向在从约-30°至约+30°的范围内，以便于将颗粒最大化地从旋转的工作轮除去。在其它示例中，可根据砂轮定向、玻璃边缘构型等设置其它角度。

本发明的其它方面提供了在外圆柱形周界壁中具有一个或多个出口端口的护罩，护罩设计成有助于减少在护罩的容纳区内的水和被夹带颗粒的停留时间。

相对于图17中所示的流程图1701讨论处理玻璃的方法。方法开始于步骤1703。如由箭头1704a标示的，该方法可可选地开始于步骤1705：通过第一上游工作装置101a的第一旋转砂轮磨削玻璃板的表面部分而加工玻璃板的表面部分(例如，边缘部分)。可在将第一流体膜109的基本为层流的流体沿落在玻璃板119的第一主表面117上的第一流体平面分配的同时，实施磨削玻璃板的表面部分。来自磨削表面部分的碎屑被夹带入沿玻璃板的第一主表面117行进的第一流体膜109中，并被从玻璃板111带走。

在步骤1705之后，如由箭头1706a所标示的，接着，方法可继续至步骤1707：抛光玻璃板的表面部分。替代地，如由箭头1704a标示的，该方法可可选地开始于步骤1707：通过第二上游工作装置101b的第一旋转砂轮抛光玻璃板的表面部分而加工玻璃板的表面部分(例如，边缘部分)。可在将第一流体膜109的基本为层流的流体沿落在玻璃板119的第一主表面117上的第一流体平面分配的同时，实施抛光玻璃板的表面部分。来自抛光表面部分的碎屑被夹带入沿玻璃板的第一主表面117行进的第一流体膜109中，并被从玻璃板111带走。

在步骤177之后，如由箭头1708a所标示的，接着，方法可继续至步骤1709：清洁玻璃板的表面部分。替代地，如由箭头1706b所标示的，接着，方法可直接从磨削的步骤1705继续至清洁的步骤1709。在清洁的步骤1709期间，下游工作装置101c通过清洁轮的工作表面加工玻璃板的表面部分。实际上，在步骤1709期间，下游工作装置101c通过清洁玻璃板的表面部分而加工玻璃板的表面部分，以进一步去除在步骤1705和/或步骤1707期间产生的碎屑。

如由箭头1708b所标示的箭头，方法可在清洁的步骤1709之后终止于1713。替代地，如由箭头1710所标示的，接着，方法可从清洁的步骤1709继续至步骤1711：清洗玻璃板(例如，表面部分)。由于玻璃板已在步骤1709期间被清洁，清洗的步骤可需要去除比没有清洁步骤1709所需的较少的颗粒。由此，在步骤1711期间使用的清洗器的清洗效率增加，且在清洗装置的过滤系统上施加的负担较小。此外，清洁的步骤1709与清洗的步骤1711的结合可比如果两个步骤之一被省略的情形将更多的颗粒从玻璃板的附近去除。

如由箭头1712所标示的，该方法可接着终止于1713，其中，玻璃板可接着被干燥，且极少(如果有的话)来自加工过程的残余颗粒会被留下。

在由上游工作装置101a、101b加工之后，设置下游工作装置101c以清洁玻璃板的表面部分比仅依靠上游工作装置101a、101b的护罩和/或流体流来去除颗粒提供了对颗粒的去除的显著的且非预期的改进。实际上，已确定在之前通过参考全部纳入本文的美国专利申请公布第2013/0130597(此后称为‘597公布)号中公开的上游工作装置对于去除已加工的颗粒特别有效。实际上，‘597公布的发明允许磨削/抛光期间产生的颗粒通过被夹带入流体膜以及被包含在护罩内而被高效地去除。然而，已发现通过下游工作装置101c的另一加工过程(清洁)显著地改善了在加工程序期间将颗粒从玻璃板的附近去除(的效果)。

由此，当与由‘597提出的单个工作装置相比，本文公开的下游清洁装置提供更进一步的益处：显著地减小了颗粒的密度。由此，否则可影响玻璃板的表面质量的较少的颗粒被留下。此外，在随后的可选的清洗步骤1711期间，进入清洗器的玻璃颗粒的量可较小，这使得清洗器更高效且在清洗器过滤系统上施加的负担较小。

对本领域技术人员显而易见的是，可做出各种修改和变化而不偏离本要求保护的发明的精神和范围。