1.一种具有提升气体管路的RH法真空槽,其特征在于,该具有提升管路的RH法真空槽包括:
真空槽,所述真空槽呈竖直放置,其底部插接有两浸渍管,两所述浸渍管相互平行,并分别与所述真空槽的内腔相连通;
至少一提升管路,沿竖向布设在所述真空槽的外侧,其下端与两支管路相连通,两所述支管路上分别安装有一阀门,两者的自由端对应与两所述浸渍管相连通。
2.如权利要求1所述的具有提升气体管路的RH法真空槽,其特征在于,所述支管路的自由端通过一金属软管与所述浸渍管相连接。
3.如权利要求1或2所述的具有提升气体管路的RH法真空槽,其特征在于,所述提升管路的下端高于所述真空槽的底部,两者的距离为1~2m。
4.如权利要求3所述的具有提升气体管路的RH法真空槽,其特征在于,所述提升管路设置有4条,各所述提升管路相互平行。
5.如权利要求1所述的具有提升气体管路的RH法真空槽,其特征在于,所述提升管路设置有4条,各所述提升管路相互平行。
6.一种RH法真空槽的提升气体管路的布置方法,该布置方法包括以下步骤:
S1:在竖直放置的真空槽的底部安装两个浸渍管,使所述浸渍管与所述真空槽的内腔相连通;
S2:在所述真空槽的外侧沿竖向布设至少一提升管路,所述提升管路的下端连通两支管路,并在各所述支管路上分别安装一阀门;
S3:将两所述支管路的自由端对应与两所述浸渍管相连通。
7.如权利要求6所述的RH法真空槽的提升气体管路的布置方法,其特征在于,所述支管路的自由端通过一金属软管与所述浸渍管相连通。