1.一种离子溅射镀膜室，包括真空室(11)，其特征在于：真空室(11)的一侧设有第一密封门(12)，真空室(11)的另一侧设有第二密封门(13)，真空室(11)的内底部设有第一限位管(15)，第一限位管(15)呈竖直布置，第一限位管(15)内套装有第一旋调管(16)，第一旋调管(16)的外表面设有外螺纹，第一限位管(15)的内表面设有内螺纹，第一限位管(15)与第一旋调管(16)通过螺纹连接，第一旋调管(16)的端部上设有第一载物座(17)，第一载物座(17)上设有离子源(18)；真空室(11)的内底部设有第二限位管(19)，第二限位管(19)内套装有第二旋调管(20)，第二旋调管(20)的外表面设有外螺纹，第二限位管(19)的内表面设有内螺纹，第二限位管(19)与第二旋调管(20)通过螺纹连接，第二旋调管(20)的端部上设有第二载物座(21)；第二载物座(21)上设有光束光学镜(22)；真空室(11)的内底部设有第三限位管(23)，第三限位管(23)呈竖直布置，第三限位管(23)内套装有第三旋调管(24)，第三旋调管(24)的外表面设有外螺纹，第三限位管(23)的内表面设有内螺纹，第三限位管(23)与第三旋调管(24)通过螺纹连接，第三限位管(23)的端部上设有第三载物座(25)，第三载物座(25)上设有移动溅射靶(28)；离子源(18)、光束光学镜(22)以及移动溅射靶(28)设置在同一光路上。
2.根据权利要求1所述的离子溅射镀膜室，其特征在于：第三载物座(25)的一侧上设有第一限位块(26)，第三载物座(25)的另一侧上设有第二限位块(27)，移动溅射靶(28)设置在第一限位块(26)与第二限位块(27)之间。
3.根据权利要求2所述的离子溅射镀膜室，其特征在于：第一限位块(26)与第二限位块(27)呈竖直布置。
4.根据权利要求2所述的离子溅射镀膜室，其特征在于：第二限位块(27)的高度大于第一限位块(26)的高度。
5.根据权利要求1所述的离子溅射镀膜室，其特征在于：真空室(11)的端部设有真空泵(14)。