技术总结
本实用新型涉及一种离子溅射镀膜室，包括真空室，真空室的内底部设有第一限位管，第一限位管内套装有第一旋调管，第一旋调管的端部上设有第一载物座，第一载物座上设有离子源；真空室的内底部设有第二限位管，第二限位管内套装有第二旋调管，第二旋调管的端部上设有第二载物座；第二载物座上设有光束光学镜；真空室的内底部设有第三限位管，第三限位管内套装有第三旋调管，第三限位管的端部上设有第三载物座，第三载物座上设有移动溅射靶；离子源、光束光学镜以及移动溅射靶设置在同一光路上。本实用新型方便对离子源进行调节，方便对光束光学镜进行调节，方便对移动溅射靶进行调节；离子源通过光束光学镜可以对移动溅射靶实现离子溅射镀膜。
技术研发人员：丁庆峰
受保护的技术使用者：浙江鼎梓塑胶科技有限公司
文档号码：201620590347
技术研发日：2016.06.16
技术公布日：2016.12.28