技术总结
本实用新型提供一种遮挡装置及真空溅射机，遮挡装置用于在真空镀膜过程中遮挡一基板的边缘，包括：框体，所述框体的中间呈镂空结构；以及用于在真空环境下控制所述框体相对于所述基板移动的至少一个第一驱动单元。本实用新型中，在不用开腔的情况下，通过第一驱动单元即可调节遮挡装置的位置以及与基板之间的距离，从而实现对遮挡装置的位置进行校准，并且操作简单。
技术研发人员：乔恩琳;杨大可;张杨;吉冠腾
受保护的技术使用者：昆山国显光电有限公司
文档号码：201620650052
技术研发日：2016.06.27
技术公布日：2017.03.08