硅片背面喷砂机的制作方法

本实用新型涉及一种硅片喷砂处理装置，特别涉及一种硅片背面喷砂机。

背景技术：

硅片在生产过程中，将硅锭切割成硅片后部分硅片可能需要进行喷砂处理，以利于硅片的后续处理。

现有技术中没有专门针对硅片进行喷砂处理的装置，由于硅片生产过程中可能并不需要对所有硅片进行喷砂，因此，现有技术中对硅片进行喷砂时均在生产现场直接进行，硅片喷砂处理过程中砂料回收率低，并且，由于喷砂时没有防护措施，硅片的喷砂过程对环境影响大。为此，现有技术中有采用其它喷砂设备对硅片进行喷砂处理，但是现有技术中的喷砂设备结构不合理，长期使用后观察口上积聚较多的灰尘，观察口清洁不方便，造成操作人员无法直观地观察喷砂过程，影响硅片的喷砂质量。

技术实现要素：

本实用新型的目的是克服现有技术存在的缺陷，提供一种设计简单，操作方便，提高了生产效率，硅片喷砂的均一性、喷砂厚度精度稳定的硅片背面喷砂机。

实现本实用新型目的的技术方案是：一种硅片背面喷砂机，具有机床；所述机床上设有传送带；所述传送带的一端安装有伺服电机；所述传送带上方设有喷嘴；所述喷嘴与砂桶连接；所述砂桶与减压阀相连；所述传送带上设有翻转装置；所述翻转装置包括一对夹持件、提升气缸和转动电机；所述夹持件镜像分布在传送带的两侧，夹持件同时与对应的夹持气缸、提升气缸和转动电机连接。

上述技术方案所述夹持件的内侧开有与硅片契合的夹持槽，且一对夹持件呈“[]”形位置设置在传送带两侧。

上述技术方案所述夹持槽的槽底和内壁均贴有硅胶或橡胶层。

上述技术方案所述喷嘴与凸轮往复机构连接。

上述技术方案所述砂桶内部设有振动筛。

上述技术方案所述伺服电机与变频器相连。

上述技术方案所述机床上设有光电开关。

上述技术方案所述砂桶与喷嘴之间设有喷砂压空流量计。

采用上述技术方案后，本实用新型具有以下积极的效果：

(1)本实用新型具有设计简单，操作方便等特点，提高了生产效率，保证硅片喷砂的均一性、喷砂厚度精度稳定。

(2)本实用新型的夹持件的内侧开有与硅片契合的夹持槽，且一对夹持件呈“[]”形位置设置在传送带两侧，每个单独的夹持件呈“匚”形，保证在夹持过程中夹持槽包覆在硅片的周边及四个脚，保证了翻转过程中硅片不易掉落损坏。

(3)本实用新型的夹持槽的槽底和内壁均贴有硅胶或橡胶层，防止硅片磨损。

(4)本实用新型的喷嘴与凸轮往复机构连接，保证硅片喷砂的均一性、喷砂厚度精度稳定。

(5)本实用新型的砂桶内部设有振动筛，保证砂的精细度。

附图说明

为了使本实用新型的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例并结合附图，对本实用新型作进一步详细的说明，其中

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的翻转装置的结构示意图；

具体实施方式

(实施例1)

见图1和图2，本实用新型具有机床；机床上设有传送带1；传送带1的一端安装有伺服电机2；传送带1上方设有喷嘴3；喷嘴3与砂桶4连接；砂桶4与减压阀5相连；传送带1上设有翻转装置6；翻转装置6包括一对夹持件7、提升气缸8和转动电机9；夹持件7镜像分布在传送带1的两侧，夹持件7同时与对应的夹持气缸10、提升气缸8和转动电机9连接。

夹持件7的内侧开有与硅片契合的夹持槽，且一对夹持件7呈“[]”形位置设置在传送带1两侧。

夹持槽的槽底和内壁均贴有硅胶或橡胶层。

喷嘴3与凸轮往复机构11连接。

砂桶4内部设有振动筛。

伺服电机2与变频器12相连。

机床上设有光电开关13。

砂桶4与喷嘴3之间设有喷砂压空流量计14。

以上所述的具体实施例，对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施例而已，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。