1.一种磁控溅射反应气氛自反馈控制系统，其特征在于，由磁控溅射装置和反馈控制装置组成，磁控溅射装置包括反应气体存储装置(1)和真空室(4)，反应气体存储装置(1)通过导气管和真空室(4)连通，真空室(4)内设有磁电管(8)，磁电管(8)上设有放电等离子体(3)；反馈控制装置由光探头(11)、光谱仪(10)、控制器(9)和电磁阀(2)组成，光探头(11)位于所述真空室(4)内，光谱仪(10)通过光纤(5)和光探头(11)相连，控制器(9)和光谱仪(10)电连接，控制器(9)和电磁阀(2)电连接。
2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射反应气氛自反馈控制系统，其特征在于，光谱仪(10)包括单色仪(6)和光电倍增器(7)，光探头(11)和单色仪(6)通过光纤(5)相连，单色仪(6)和光电倍增器(7)通过光纤(5)相连，光电倍增器(7)和所述控制器(9)电连接。
3.根据权利要求2所述的一种磁控溅射反应气氛自反馈控制系统，其特征在于，所述电磁阀(2)的型号为：ZCK。
4.根据权利要求3所述的一种磁控溅射反应气氛自反馈控制系统，其特征在于，所述光谱仪(10)具有显示屏。
5.根据权利要求3所述的一种磁控溅射反应气氛自反馈控制系统，其特征在于，所述控制器(9)上具备串口RS232/485的通讯接口。