本实用新型涉及一种镀膜装置，特别是指一种空心玻璃微珠镀膜装置。
背景技术：
随着电子技术的飞速发展，电子产品特别是移动通讯、计算机、家用电器的普及，人们生存环境遭受电磁波严重污染，电子屏蔽材料又称为吸波材料，主要用于将外来的电磁波能量转换为热能，降低反射波的强度，达到隐身效果。传统的电磁屏蔽材料大多数采用金属粉末及铁氧体，密度很大，从而限制了在要求重量轻的领域方面的使用。空心玻璃微珠分体密度小，对其表面金属化处理后可取代密度较大的金属分体用于电磁屏蔽材料的制备，可降低材料的密度及生产成本。目前使用的镀膜方法在微珠表面的镀膜不均匀，给屏蔽材料的推广应用造成了很大的困难。
技术实现要素：
本实用新型提出一种空心玻璃微珠镀膜装置，通过使用孔筛、抽真空装置、供压装置、供气装置及靶材，克服了镀膜不均匀的缺陷，同时提高了镀膜效率，增加了企业效益。
本实用新型的技术方案是这样实现的：
一种空心玻璃微珠镀膜装置，包括：镀槽及驱动结构，所述镀槽内设有镀膜室及加热装置，所述镀槽内装有镀液；所述镀膜室内设有用于盛装空心玻璃微珠的孔筛，所述镀槽内设有抽真空装置、供压装置及供气装置，所述镀膜室内设有用于承受所述孔筛的基槽，所述孔筛可旋转地设于所述镀膜室内；供气装置也与镀膜室连通，用于抽真空后根据待镀膜层的需要通入工作气体，以便于在多个靶材之间施加电压时产生等离子体；供气装置同时向镀膜室内供应反应气体，使被等离子体轰击出的靶材原子与反应气体产生反应，从而生成待镀工件的膜层。
进一步，所述驱动结构包括驱动马达、设于所述驱动马达上的驱动轴上的驱动单元，所述驱动单元连接有挡板，所述挡板连接有靶材；靶材由与待镀膜的材料相关的材料制成，用于在等离子体的撞击下产生待镀膜层材料，或者在等离子体的撞击下产生与待镀膜层相关的材料并在反应气体的辅助下生成待镀膜层材料。
进一步，所述加热装置包括加热棒及控制装置，所述控制装置设于所述镀槽外，所述加热棒与所述控制装置连接。
进一步，所述孔筛内设有滤布，所述加热棒位于所述镀膜室的下方。
进一步，所述控制装置连接有输入模块，所述输入模块连接有输入面板，所述输入模块还连接有真空控制结构、供压控制结构、供气控制结构，所述输入面板连接有电源控制模块，所述驱动马达与所述输入模块连接。
进一步，所述驱动马达设有多个，相对应的，所述驱动单元设有多个，所述挡板及靶材均设有多对；所述多对靶材环绕所述孔筛的中心轴线呈中心对称分布，所述多对靶材两两相对；靶材设有多个，在具体实施例中，靶材设有偶数个，偶数个靶材两两相对分布，相对的靶材通交流电后交替成为阴极和阳极。
更进一步，所述驱动马达同时与所述电源控制模块连接。
本实用新型通过使用孔筛、抽真空装置、供压装置、供气装置及靶材，克服了镀膜不均匀的缺陷，同时提高了镀膜效率，增加了企业效益。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型具体实施例中一种空心玻璃微珠镀膜装置的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的具体实施例中，见图1，一种空心玻璃微珠镀膜装置，包括：镀槽14及驱动结构，所述镀槽14内设有镀膜室11及加热装置，所述镀槽内装有镀液；所述镀膜室11内设有用于盛装空心玻璃微珠的孔筛12，所述镀槽14 内设有抽真空装置17、供压装置18及供气装置19，所述镀膜室11内设有用于承受所述孔筛12的基槽，所述孔筛12可旋转地设于所述镀膜室11内；供气装置6也与镀膜室11连通，用于抽真空后根据待镀膜层的需要通入工作气体，以便于在多个靶材之间施加电压时产生等离子体；供气装置6同时向镀膜室11内供应反应气体，使被等离子体轰击出的靶材原子与反应气体产生反应，从而生成待镀工件的膜层。
在本实用新型的具体实施例中，见图1，所述驱动结构包括驱动马达8、设于所述驱动马达8上的驱动轴9上的驱动单元10，所述驱动单元10连接有挡板 13，所述挡板连接有靶材15；靶材15由与待镀膜的材料相关的材料制成，用于在等离子体的撞击下产生待镀膜层材料，或者在等离子体的撞击下产生与待镀膜层相关的材料并在反应气体的辅助下生成待镀膜层材料。
在本实用新型的具体实施例中，见图1，所述加热装置包括加热棒16及控制装置7，所述控制装置7设于所述镀槽14外，所述加热棒16与所述控制装置 7连接。
在本实用新型的具体实施例中，见图1，所述孔筛12内设有滤布，所述加热棒16位于所述镀膜室11的下方。
在本实用新型的具体实施例中，见图1，所述控制装置7连接有输入模块3，所述输入模块3连接有输入面板2，所述输入模块3还连接有真空控制结构4、供压控制结构5、供气控制结构6，所述输入面板2连接有电源控制模块1，所述驱动马达8与所述输入模块3连接。
在本实用新型的具体实施例中，见图1，所述驱动马达8设有多个，相对应的，所述驱动单元10设有多个，所述挡板13及靶材15均设有多对；所述多对靶材15环绕所述孔筛12的中心轴线呈中心对称分布，所述多对靶材15两两相对；靶材设有多个，在具体实施例中，靶材15设有偶数个，偶数个靶材15两两相对分布，相对的靶材15通交流电后交替成为阴极和阳极，
在本实用新型的具体实施例中，见图1，所述驱动马达8同时与所述电源控制模块1连接。
在本实用新型的具体实施例中，见图1，驱动马达8驱动挡板13相对于靶材15移动，使靶材15被遮挡或暴露，当靶材15被遮蔽时，挡板13可以有效避免靶材15被毒化，当靶材15被暴露时，能够使靶材15对工件进行镀膜，避免靶材15在镀膜前和镀膜后被薄膜材料沉积；同时，其中一对靶材15工作时，其他靶材15处于被遮蔽状态，能够有效保护不工作的靶材15被毒化；有效节约了成本，提高了经济效益及生产率。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。