技术特征：
技术总结
本发明属于在基材上生成薄无机膜的方法，特别是原子层沉积法的领域。其涉及一种制备金属膜的方法，其包括：(a)将含金属化合物由气态沉积至固体基材上，和(b)使具有经沉积的含金属化合物的固体基材与气态的还原剂接触，其中该还原剂为或至少部分形成固体基材的表面上的碳烯、硅烯或磷光体自由基。
技术研发人员：F·阿贝尔斯;D·D·施魏因富特;K·马托斯;D·勒夫勒;M·阿尔夫;F·布拉斯伯格;T·绍布;J·施皮尔曼;A·科斯特;B·加斯帕
受保护的技术使用者：巴斯夫欧洲公司
技术研发日：2016.11.29
技术公布日：2018.07.17