用于去除氧化物的清洗组合物及使用该清洗组合物的清洗方法与流程

优先权要求本申请参考于2016年6月24日向韩国知识产权局在先提交并在此依法指定序列号10-2016-0079293的申请以及于2016年10月27日向韩国知识产权局在先提交并依法指定序列号10-2016-0141171的申请，将所述申请并入本文，并且要求从所述申请获得的所有权益。一个或多个实施方案涉及用于去除氧化物的清洗组合物和使用该清洗组合物的清洗方法。
背景技术：
：有机发光装置(oled)是具有宽视角、高对比度和短响应时间的自发射装置。此外，oled表现出优异的亮度、驱动电压和响应速度特性，并且产生全色图像。oled可以具有其中第一电极、有机层和第二电极以这种规定的顺序堆叠在衬底上的结构。可以通过使用利用掩模的沉积法形成oled的这种堆叠结构。换而言之，有机层可以通过使用诸如精细金属掩模(fmm)的金属掩模的沉积法进行精细图案化。然而，由于第一电极和第二电极不意欲进行精细图案化，所以可以通过使用开口掩模(openmask)的沉积法形成第一电极和第二电极。通常，可以通过使用湿法蚀刻方法或激光方法处理掩模基底材料形成fmm。掩模可以在沉积法期间引入污染物，并且因此，需要掩模的清洗。在湿法蚀刻方法期间，可以通过用常规清洗溶液(例如蒸馏水或醇)冲洗掩模基底材料来去除杂质。然而，当通过使用激光方法处理掩模基底材料时，通过常规清洗溶液不能去除在用激光照射掩模基底材料时自然形成的氧化物。因此，存在氧化物残留在掩模基底材料上的问题。技术实现要素：一个或多个实施方案包括用于去除氧化物的清洗组合物，所述清洗组合物具有优异的清洗能力足以缩短清洗时间并维持长时间的清洗效果，同时不损坏掩模基底材料。一个或多个实施方案包括通过使用所述用于去除氧化物的清洗组合物的清洗方法。其它方面将在随后的描述中部分地阐述，并且部分地将从所述描述中变得显而易见，或可以通过呈现的实施方案的实践而获悉。根据一个或多个实施方案，用于去除氧化物的清洗组合物包括：选自有机酸和无机酸的至少一种酸；选自有机盐和无机盐的至少一种盐；氧化剂；表面活性剂；以及水。根据一个或多个实施方案，清洗方法包括：制备具有氧化物的掩模基底材料；以及通过使所述用于去除氧化物的清洗组合物与所述掩模基底材料接触而进行第一清洗以去除所述掩模基底材料的氧化物。附图说明当结合附图进行考虑时，通过参考以下详细描述，本发明的更加全面的理解及其所附带的许多优点将是易于显而易见的，同时也变得更好理解，附图中相同的参考标记表示相同或类似的组件，其中：图1是根据制备实施例2制备的测试样品的照片，所述照片使用数码相机而拍摄并且显示出测试样品的经激光照射的一面；图2至图11各自为根据示例实施方案清洗的测试样品的照片，所述照片使用数码相机而拍摄并且显示出测试样品的经激光照射的一面；以及图12至图14各自为根据示例实施方案清洗的测试样品的图像，其中所述图像使用扫描电子显微镜而拍摄并且显示出测试样品的未经激光照射的一面。具体实施方式现将详细参考实施方案，所述实施方案的实例示例在附图中，其中全文中相同的参考数字指代相同的要素。在这方面，本实施方案可以具有不同的形式并且不应解释为局限于本文阐述的描述。因此，以下通过参考附图而仅描述实施方案，从而解释本描述的方面。当诸如“至少一个/至少一种”的表达在要素列表之前时，修饰整个列表的要素而不是修饰该列表的单个要素。在下文，将参考附图详细地解释根据示例实施方案的用于去除氧化物的清洗组合物和使用该清洗组合物的清洗方法。然而，本发明构思不局限于此，并且在该范围内的所有差异应解释为包括在本发明构思中。应理解，尽管术语“第一”、“第二”等可以在本文中用于描述不同组件，但是这些组件不应受到这些术语限制。这些组件仅用于使一个组件区别于另一组件。在本说明书中，应理解，诸如“包括”、“具有”和“包含”的术语旨在表示本说明书中公开的特征或组件的存在，并且并不旨在排除可以存在或可以添加一种或多种其它特征或组件的可能性。如本文所用，术语“有机酸”表示在水性环境中为酸性(即，具有低于7的ph值)的有机化合物，例如包含酸官能团的有机化合物，所述酸官能团例如羧基(-cooh)、磺酸基(-so3h)、被羟基取代的芳基(-aroh)(其中，ar表示芳基，例如苯基)或巯基(-sh)。如本文所用，术语“无机酸”表示在水性环境中为酸性(即，具有低于7的ph值)的化合物，其中含有非金属元素(例如氯、氮、硫或磷)的酸根与氢原子键合。在下文，将详细解释根据示例实施方案的用于去除氧化物的清洗组合物和使用该清洗组合物的清洗方法。根据示例实施方案，用于去除氧化物的清洗组合物包括：选自有机酸和无机酸的至少一种酸；选自有机盐和无机盐的至少一种盐；氧化剂；表面活性剂；以及水。用于去除氧化物的清洗组合物中的酸可以与以下所述的氧化物反应，由此去除氧化物。可以以足够的量使用所述酸以选择性地去除氧化物。例如，基于100wt％的用于去除氧化物的清洗组合物，所述酸的量可以为约0.1wt％至约50wt％。在一些实施方案中，基于100wt％的用于去除氧化物的清洗组合物，所述酸的量可以为约0.1wt％至约40wt％，在一些实施方案中，为约0.1wt％至约35wt％，在一些实施方案中，为约0.1wt％至约30wt％，并且在一些实施方案中，为约0.1wt％至约25wt％。当所述酸的量在这些范围内时，用于去除氧化物的清洗组合物可以具有优异的清洗能力，同时不损坏基底材料。根据实施方案，所述酸可以是有机酸。例如，有机酸可以包括具有羧基(-cooh)的羧酸。特别地，有机酸可以是具有至少一个羧基和1个至10个碳原子的羧酸，但是实施方案不局限于此。例如，有机酸可以包括选自乙酸、甲酸、丙酸、丁酸、异丁酸、戊酸、乙基甲基乙酸、三甲基乙酸、琥珀酸、己二酸、柠檬酸、草酸、乳酸、酒石酸、苹果酸、抗坏血酸和丙二酸的至少一种羧酸。此外，有机酸可以包括具有磺酸基(-so3h)的磺酸。例如，有机酸可以包括选自甲磺酸、乙磺酸、正丙磺酸、异丙磺酸和正丁磺酸的至少一种磺酸。有机酸可以单独使用或以其中的至少两种的组合使用。在一些实施方案中，所述酸可以是无机酸。无机酸可以包括选自硫酸、盐酸、磷酸、硝酸和高氯酸的至少一种酸，但是实施方案不局限于此。无机酸可以单独使用或以其中的至少两种的组合使用。用于去除氧化物的清洗组合物中的盐可以增强清洗组合物去除氧化物的能力。例如，所述盐可以包括无机盐和有机盐中的至少一种，所述无机盐包括硫酸盐、磷酸盐、盐酸盐和硝酸盐中的至少一种，并且所述有机盐包括羧酸盐和磺酸盐中的至少一种。特别地，所述盐可以包括无机盐，所述无机盐包括选自硫酸钠、硫酸钾、硫酸镁和硫酸铵的至少一种。在一些实施方案中，所述盐可以包括有机盐，所述有机盐包括选自乙酸钠、乙酸钾、柠檬酸钠和柠檬酸钾的至少一种。例如，基于100wt％的用于去除氧化物的清洗组合物，所述盐的量可以为约0.1wt％至约35wt％。在一些实施方案中，基于100wt％的用于去除氧化物的清洗组合物，所述盐的量可以为约0.1wt％至约30wt％，在一些实施方案中，为约0.1wt％至约25wt％，在一些实施方案中，为约0.1wt％至约20wt％，并且在一些实施方案中，为约0.1wt％至约15wt％。当所述盐的量在这些范围内时，用于去除氧化物的清洗组合物可以具有优异的清洗能力，同时不损坏基底材料。用于去除氧化物的清洗组合物中存在的氧化剂可以通过降低氧化物的活化能来加快还原速率。在这方面，用于去除氧化物的清洗组合物可以具有改善的清洗能力和增加的使用寿命。例如，氧化剂可以包括选自含氧水、高锰酸钾、臭氧水、硝酸钠和硝酸铵的至少一种。基于100wt％的用于去除氧化物的清洗组合物，所述氧化剂的量可以为约1wt％至约60wt％。在一些实施方案中，基于100wt％的用于去除氧化物的清洗组合物，所述氧化剂的量可以为约1wt％至约55wt％，在一些实施方案中，为约1wt％至约50wt％，在一些实施方案中，为约1wt％至约45wt％，并且在一些实施方案中，为约1wt％至约40wt％。当所述氧化剂的量在这些范围内时，用于去除氧化物的清洗组合物可以具有优异的清洗能力，同时不损坏基底材料。由于在用于去除氧化物的清洁组合物中存在表面活性剂，因此可以防止已经从基底材料的表面去除的氧化物再附着于所述基底材料的表面。表面活性剂可以包括选自阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂的至少一种表面活性剂，所述阴离子表面活性剂包括烷基硫酸盐、烷基醚硫酸盐、烷基磺酸盐、烷基醚磺酸盐、烷基磷酸盐、烷基醚磷酸盐、烷基碳酸盐、烷基醚碳酸盐中的至少一种；以及所述非离子表面活性剂包括聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯烷基酚醚、脱水山梨糖醇脂肪酸酯、聚氧乙烯脱水山梨糖醇脂肪酸酯和蔗糖脂肪酸酯中的至少一种。例如，非离子表面活性剂可以包括选自月桂基磺酸酯、异十三烷基磺酸酯、萘磺酸酯、二丁基萘基磺酸酯、壬基苯磺酸酯、十二烷基苯磺酸酯、异十三烷基苯磺酸酯、月桂基硫酸酯、异十三烷基硫酸酯和硬脂基硫酸酯的至少一种非离子表面活性剂，但是实施方案不局限于此。非离子表面活性剂在水溶液中不能解离成离子，但是可以溶解。非离子表面活性剂可以是其中疏水单体与亲水单体聚合的聚合物。非离子表面活性剂降低水的表面张力，使得于其上形成氧化物的表面可以容易润湿。非离子表面活性剂还降低表面与氧化物之间的结合强度，使得氧化物可以容易地从表面被去除。从表面去除的氧化物可以被表面活性剂分子包围，并且因此，表面活性剂分子可以容易地分散在清洗溶液中以增强清洗组合物去除氧化物的能力。例如，基于100wt％的用于去除氧化物的清洗组合物，所述表面活性剂的量可以为约0.1wt％至约15wt％。在一些实施方案中，基于100wt％的用于去除氧化物的清洗组合物，所述表面活性剂的量可以为约0.1wt％至约10wt％，在一些实施方案中，为约0.1wt％至约5wt％，并且在一些实施方案中，为约0.1wt％至约3wt％。当所述表面活性剂的量在这些范围内时，用于去除氧化物的清洗组合物可以具有优异的清洗能力，同时防止已经从基底材料的表面去除的氧化物再附着于所述基底材料的表面。对于100wt％的用于去除氧化物的清洗组合物，用于去除氧化物的清洗组合物可以包括水以及上述组分。水可以是具有显著降低的杂质水平的去离子水或超纯水。清洗组合物可以能够还原选自铁(fe)、钴(co)、铬(cr)、锰(mn)、镍(ni)、钛(ti)、钼(mo)、不锈钢(sus)合金、因科镍(inconel)合金、科瓦(kovar)合金和因瓦(invar)合金的金属的至少一种氧化物。例如，在以上所述的金属中，fe、ni或co的氧化物可以根据以下反应式1进行还原，尽管不局限于此：<反应式1>根据实施方案的用于去除氧化物的清洗组合物可以包括酸、盐、氧化剂和表面活性剂，并且因此，清洗组合物可以引发氧化物的还原反应并且控制与氧化物的反应速率。因此，可以有效地去除氧化物。此外，用于去除氧化物的清洗组合物可以防止在清洗后残留在清洗组合物中的氧化物再附着于表面。此外，用于去除氧化物的清洗组合物具有优异的清洗能力足以缩短清洗时间段，并且维持长时间的清洗效果。可以通过使用已知方法来混合或制备用于去除氧化物的清洗组合物。例如，可以通过使酸、盐、氧化剂、表面活性剂和水混合，使得组分的总重量为100wt％，从而制备用于去除氧化物的清洗组合物。此外，用于去除氧化物的清洗组合物可以包括在不产生不利影响的范围内的其它组分。可以将上述组分以随机的顺序进行混合，条件是它们不引发特别的问题，例如不期望的反应或沉淀物的形成。可以将组分中的任意两种预先混合在一起，并且之后可以将其它组分添加到混合物。可选地，可以将所有组分同时混合在一起。在下文，将详细地描述根据示例实施方案的清洗方法。清洗方法可以包括制备具有氧化物的掩模基底材料；以及通过使所述用于去除氧化物的清洗组合物与所述掩模基底材料接触而进行第一清洗以去除所述掩模基底材料的氧化物。掩模基底材料可以包括选自fe、co、cr、mn、ni、ti、mo、sus合金、因科镍合金、科瓦合金和因瓦合金的至少一种金属，但是实施方案不局限于此。例如，掩模基底材料可以是因瓦合金。因瓦合金的主要组分为fe和ni，并且因瓦合金的有利之处在于：与sus合金相比，因瓦合金具有较小的热膨胀，并且其张力甚至在高温下也不会大幅度降低。掩模基底材料可以通过激光照射进行处理。例如，掩模基底材料可以通过能量密度为约50mj/cm2至约5,000mj/cm2的激光照射进行处理。特别地，掩模基底材料可以通过能量密度为约200mj/cm2至约1,000mj/cm2的激光照射进行处理。掩模基底材料可以通过激光照射约1分钟至约1,440分钟进行处理。例如，掩模基底材料可以通过激光照射约60分钟至约720分钟进行处理。氧化物可以在用激光照射掩模基底材料时自然地形成。例如，氧化物可以是选自fe、co、cr、mn、ni、ti、mo、sus合金、因科镍合金、科瓦合金和因瓦合金的金属的氧化物，其中当用激光照射掩模基底材料时，金属氧化物自然地形成于掩模基底材料上。例如，氧化物可以是因瓦合金的氧化物，但是实施方案不局限于此。例如，掩模基底材料可以包括因瓦合金和因瓦合金的氧化物，但是实施方案不局限于此。可以通过参考本文提供的详细描述来理解用于去除氧化物的清洗组合物。在第一清洗中，可以通过使所述用于去除氧化物的清洗组合物与掩模基底材料接触以还原氧化物并使还原的氧化物与掩模基底材料分离来去除氧化物。尽管不局限于此，然而可以通过使用喷射法、旋转法或浸渍法使所述用于去除氧化物的清洗组合物与掩模基底材料接触来进行第一清洗，所述喷射法包括将用于去除氧化物的清洗组合物喷射于掩模基底材料上，所述旋转法包括在将清洗组合物与掩模基底材料接触后使掩模基底材料高速旋转，所述浸渍法包括使掩模基底材料浸入填充有用于去除氧化物的清洗组合物的清洗浴中。例如，第一清洗可以通过使用浸渍法在约10℃至约50℃的温度范围中进行约60分钟至约1,440分钟。当第一清洗在这些温度和时间范围内进行时，可以改善去除氧化物的清洗能力，并且可以使对掩模基底材料的损坏最小化。在一些实施方案中，清洗方法还可以包括以下的至少一种：使用包含第一醇、表面活性剂和水的清洗组合物的第二清洗、使用蒸馏水的第三清洗和使用第二醇的第四清洗。例如，清洗方法可以包括进行第一清洗，接着连续地进行第二清洗、第三清洗和第四清洗。例如，清洗方法可以包括进行第一清洗，接着连续地进行第三清洗和第四清洗。例如，清洗方法可以包括进行第一清洗，接着进行第二清洗。第二清洗可以防止在第一清洗期间从掩模基底材料去除并且残留在清洗组合物中的任何氧化物再附着于掩模基底材料。可以通过使用所述的方法，例如喷射法、旋转法或浸渍法来进行第二清洗。例如，清洗方法可以包括通过使用浸渍法在约10℃至约50℃的温度范围中进行约60分钟至约120分钟的第二清洗。在第二清洗中的清洗组合物中，基于100wt％的第二清洗中的清洗组合物，第一醇的量可以为约5wt％至约50wt％，并且表面活性剂的量可以为约0.1wt％至约10wt％。例如，在第二清洗中的清洗组合物中，基于100wt％的第二清洗中的清洗组合物，第一醇的量可以为约5wt％至约25wt％，并且表面活性剂的量可以为约0.1wt％至约5wt％。当第一醇和表面活性剂中的每一种的量在这些范围内时，可以防止被去除的氧化物再附着。当清洗方法还包括第二清洗时，第二清洗中的清洗组合物与第一清洗中的用于去除氧化物的清洗组合物的重量比可以为约1:1至约2:1，但是实施方案不局限于此。包括于第二清洗中的清洗组合物中的表面活性剂可以包括选自阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂的至少一种表面活性剂，所述阴离子表面活性剂包括烷基硫酸盐、烷基醚硫酸盐、烷基磺酸盐、烷基醚磺酸盐、烷基磷酸盐、烷基醚磷酸盐、烷基碳酸盐、烷基醚碳酸盐中的至少一种；所述非离子表面活性剂包括聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯烷基酚醚、脱水山梨糖醇脂肪酸酯、聚氧乙烯脱水山梨糖醇脂肪酸酯和蔗糖脂肪酸酯中的至少一种。例如，包括在第二清洗中的清洗组合物中的表面活性剂可以包括选自月桂基磺酸酯、异十三烷基磺酸酯、萘磺酸酯、二丁基萘基磺酸酯、壬基苯磺酸酯、十二烷基苯磺酸酯、异十三烷基苯磺酸酯、月桂基硫酸酯、异十三烷基硫酸酯和硬脂基硫酸酯的至少一种非离子表面活性剂，但是实施方案不局限于此。包括在第二清洗中的清洗组合物中的表面活性剂可以与包括在第一清洗中的用于去除氧化物的清洗组合物中的表面活性剂相同或不同。第一醇和第二醇可以包括选自具有至少一个羟基(-oh)和1个至10个碳原子的脂肪族烃基团的至少一种。例如，第一醇和第二醇可以各自独立地包括选自甲醇、乙醇、戊醇、2-甲基-2-丁醇、3-甲基-2-丁醇、正丙醇、异丙醇、丁醇、异丁醇、2-丁醇、2-甲基-2-丙醇、己醇、环己醇、苄醇、丙醇、乙二醇、丙二醇、二甘醇、甘油和二丙二醇的至少一种醇。第一醇和第二醇可以彼此相同或彼此不同。例如，第一醇和第二醇可以各自为异丙醇。在一些实施方案中，清洗方法可以包括第三清洗，并且所述第三清洗可以在约10℃至约50℃的温度范围中进行约1分钟至约60分钟。当第三清洗在这些温度和时间范围内进行时，去除氧化物的清洗能力可以大幅增加。例如，清洗方法可以包括第三清洗，并且可以通过使用蒸馏水以50khz或小于50khz的频率经由掩模基底材料的超声清洗来进行第三清洗。当清洗方法包括第三清洗时，第三清洗中的蒸馏水与第一清洗中的用于去除氧化物的清洗组合物的重量比可以为约1:1至2:1。当第三清洗中的蒸馏水与第一清洗中的用于去除氧化物的清洗组合物的重量比在该范围内时，去除氧化物的清洗能力可以大幅增加。清洗方法可以包括第四清洗，并且所述第四清洗可以在约10℃至约50℃的温度范围中进行约1分钟至约60分钟。当第四清洗在这些温度和时间范围内进行时，去除氧化物的清洗能力可以大幅增加。当清洗方法包括第四清洗时，第四清洗中的第二醇与第一清洗中的用于去除氧化物的清洗组合物的重量比可以为约1:1至2:1。当第四清洗中的蒸馏水与第一清洗中的用于去除氧化物的清洗组合物的重量比在该范围内时，去除氧化物的清洗能力可以大幅增加。在下文，将参考实施例详细地描述清洗组合物和清洗方法。然而，实施例是为了更详细地描述发明构思，并且因此，发明构思的范围不局限于此。[实施例]<用于去除氧化物的清洗组合物的制备>制备实施例1-1通过将酸(10wt％的柠檬酸)、氧化剂(50wt％的含氧水)和水在室温下搅拌4小时制备用于去除氧化物的清洗组合物。制备实施例1-2至1-4将制备实施例1-2至1-4的用于去除氧化物的清洗组合物各自以与制备实施例1-1相同的方式进行制备，但是将酸和氧化剂改变为表1中所列的那些。制备实施例1-5通过使酸(5wt％的柠檬酸)、盐(5wt％的硫酸盐)、氧化剂(10wt％的含氧水)、表面活性剂(1wt％的月桂基磺酸酯)和水混合来制备用于去除氧化物的清洗组合物。制备实施例1-6至1-8将制备实施例1-6至1-8的用于去除氧化物的清洗组合物各自以与制备实施例1-5相同的方式进行制备，但是将酸、盐、氧化剂和表面活性剂改变为表1中所列的那些。制备实施例1-9通过使酸(10wt％的硫酸)、盐(5wt％的柠檬酸盐)、氧化剂(50wt％的含氧水)和水混合来制备用于去除氧化物的清洗组合物。制备实施例1-10将用于去除氧化物的清洗组合物以与制备实施例1-9相同的方式进行制备，但是使用硝酸替代硫酸。制备实施例1-11通过使酸(10wt％的柠檬酸)、盐(5wt％的柠檬酸盐)、氧化剂(10wt％的含氧水)、表面活性剂(1wt％的月桂基磺酸酯)和水混合来制备用于去除氧化物的清洗组合物。制备实施例1-12至1-14将制备实施例1-12至1-14的用于去除氧化物的清洗组合物各自以与制备实施例1-11相同的方式进行制备，但是将酸、盐、氧化剂和表面活性剂改变为表1中所列的那些。[表1]<测试样品的制备>制备实施例2在室温和大气压力下将因瓦片(宽度*长度*厚度:10cm*10cm*30μm)置于激光图案化掩模(lpm)系统中的载物台(stage)上，通过使用lpm光学系统激光照射因瓦片的部分，由此在因瓦片的该部分上形成方形孔(其中宽度和长度各自为40μm)。因此，获得部分经激光照射的因瓦片(在下文，被称为“测试样品”)。使用数码相机(型号名称：vluust70，制造商：samsung)拍摄测试样品的经激光照射的部分，并且将其结果示于图1中。评估实施例1：表面组成比率和表面粘结相(binderphase)的分析通过使用x-射线光电子能谱(xps)(购于thermofisher(uk),产品名称：thetaprobe)分析未经处理的因瓦片的部分和制备实施例2的测试样品的经激光照射的部分的表面组成比率和表面粘结相，并将其结果示于表2中。[表2]参考表2，测试样品的经激光照射的部分的氧的原子百分比和feox和niox的粘结相高于未经处理的因瓦片中的那些。因此，经证实，氧化物形成于测试样品的经激光照射的部分上。<测试样品的清洗>实施例1将1,000g制备实施例1-1中的用于去除氧化物的清洗组合物倾倒入清洗浴中，并且在约25℃温度下将制备实施例2中的测试样品浸入清洗浴中的用于去除氧化物的清洗组合物中，持续预定的清洗时间(第一清洗)。在此，如本文所用的术语“预定的清洗时间”是指形成于测试样品的经激光照射的部分上的氧化物在被完全去除后颜色从深棕色变为因瓦色(银色)所花费的时间。然后，将测试样品从清洗浴中取出，并且在约35℃的温度下浸入300g混合溶液(其中异丙醇、月桂基磺酸酯和蒸馏水以50:5:45的重量比混合)中约60分钟(第二清洗)。然后，将测试样品取出，并且浸渍入300g清洗浴中的300g蒸馏水中持续约10分钟(第三清洗)。然后，将测试样品取出，并且于约25℃温度下浸入300g清洗浴中的300g异丙醇中约10分钟(第四清洗)，由此完成测试样品的清洗。使用数码相机(型号名称：vluust70，制造商：samsung)拍摄经清洗的测试样品的经激光照射的部分，并且其结果示于图2中。实施例2至14以与实施例1相同的方式完成测试样品的清洗，但是使用制备实施例1-2至1-14的每一个中的用于去除氧化物的清洗组合物替代制备实施例1-1的用于去除氧化物的清洗组合物。使用数码相机(型号名称：vluust70，制造商：samsung)拍摄经清洗的测试样品的经激光照射的部分，并且其结果示于图3至图14的各个图中。使用数码相机拍摄实施例3和实施例4的每一个的经清洗的测试样品的经激光照射的部分，并且其结果示于图3和图4的各个图中。使用数码相机拍摄实施例7的经清洗的测试样品的经激光照射的部分，并且其结果示于图5中。使用数码相机拍摄实施例5的经清洗的测试样品的经激光照射的部分，并且其结果示于图6中。关于实施例6和实施例8的经清洗的测试样品，得到类似的结果。使用数码相机拍摄实施例9和实施例10的每一个的经清洗的测试样品的经激光照射的部分，并且其结果示于图7和图8的各个图中。使用数码相机拍摄实施例11和实施例12的每一个的经清洗的测试样品的经激光照射的部分，并且其结果示于图9和图10的各个图中。使用数码相机拍摄实施例13的经清洗的测试样品的经激光照射的部分，并且其结果示于图11中。关于实施例14的经清洗的测试样品，得到类似的结果。评估实施例2：氧化物清洗能力的评估实施例1至14中测量在第一清洗期间的清洗时间，并且根据以下标准，评估制备实施例1-1至1-14的每一个中的用于去除氧化物的清洗组合物的氧化物清洗能力。其结果示于表3中。◎:极其优异(约2小时≤清洗时间≤约3小时)○:优异(约3小时<清洗时间≤约8小时)△:正常(约8小时<清洗时间≤约24小时)×:不足(约24小时<清洗时间)评估实施例3：测试样品的腐蚀的评估使用sem(制造商：serontechnology，型号名称：ais2100，能量束：20kv，放大倍数：×1.2k)观察实施例1至14的每一个中经清洗的测试样品的未被激光照射的部分，并且根据以下标准，评估测试样品以确定其腐蚀是否已经发生。其结果示于表3中。在测试样品的腐蚀的评估中，考虑了其中测试样品的未被激光照射的部分上没有发生腐蚀的情况(o)，其中在所述部分上轻微发生腐蚀的情况(△)，以及其中在所述部分上大量发生腐蚀的情况(×)。图12示出其中没有发生腐蚀的情况的图像，图13示出其中发生轻微腐蚀的情况的图像，并且图14示出其中发生大量腐蚀的情况的图像。○:在测试样品的未被激光照射的部分上无腐蚀△:在测试样品的未被激光照射的部分上轻微腐蚀×:在测试样品的未被激光照射的部分上大量腐蚀[表3]参考表3，经证实，制备实施例1-1至1-14的每一个中的用于去除氧化物的清洗组合物表现出优异的清洗能力足以缩短清洗时间，同时不损坏掩模基底材料(例如，测试样品)。评估实施例4：可维持的清洗效果的评估。将实施例1至14的每一个中的经清洗的测试样品置于室温下。然后，在测试样品的部分上再次局部形成氧化物，并且因此测量测试样品的该部分的颜色局部变为淡棕色(或深棕色)所花费的时间(在下文，被称为“清洗效果维持时间”)。根据以下标准，评估制备实施例1-1至1-14的每一个中的用于去除氧化物的清洗组合物的清洗效果的可维持性，并且其结果示于表4中。◎:极其优异(约5天≤清洗效果维持时间)○:优异(约3天≤清洗效果维持时间<约5天)△:正常(清洗效果维持时间<约3天)×:不足(清洗效果维持时间<约1天)[表4]用于去除氧化物的清洗组合物清洗效果的可维持性实施例1制备实施例1-1○实施例2制备实施例1-2△实施例3制备实施例1-3◎实施例4制备实施例1-4△实施例5制备实施例1-5○实施例6制备实施例1-6△实施例7制备实施例1-7◎实施例8制备实施例1-8△实施例9制备实施例1-9△实施例10制备实施例1-10△实施例11制备实施例1-11○实施例12制备实施例1-12○实施例13制备实施例1-13△实施例14制备实施例1-14△参考表4，经证实，制备实施例1-1至1-14的每一个中的用于去除氧化物的清洗组合物维持长时间的清洗效果。如上所述，根据一个或多个以上示例实施方案，用于去除氧化物的清洗组合物和通过使用所述用于去除氧化物的清洗组合物的清洗方法可以基于优异的清洗能力而降低清洗时间，并且维持长时间的清洗效果，同时不损坏掩模基底材料。应理解，本文所述的实施方案应认为仅有描述性意义而非出于限制目的。各个实施方案内的特征或方面的描述通常应认为可用于其它实施方案的其它类似特征或方面。尽管已经参考附图描述了一个或多个实施方案，但本领域普通技术人员应理解，在不背离权利要求所限定的精神和范围的情况下，可以在其中做出形式和细节的各种变化。当前第1页12