1.一种能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置，其特征在于，所述的能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置包括真空室，真空室内设置有开卷机、第一导向辊、第二导向辊、冷却滚筒、收卷机和蒸镀盘，蒸镀盘设置在真空室的底部，蒸镀盘内设置有待沉积的铝，冷却滚筒设置在蒸镀盘的上方；蒸镀盘的上方还设置有石墨加热器；开卷机设置在蒸镀盘的一侧；第一导向辊设置在开卷机的上方；开卷机和第一导向辊之间设置有等离子体发射装置；第二导向辊设置在第一导向辊与冷却滚筒之间；收卷机设置在真空室的顶部的一侧。
2.如权利要求1所述的能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置，其特征在于，所述的冷却滚筒的温度维持在-10℃至-15℃之间。
3.如权利要求1所述的能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置，其特征在于，所述的冷却滚筒的旋转速度维持在300至900厘米/秒之间。
4.如权利要求1所述的能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置，其特征在于，所述真空室内的压力维持在2.66×10-5KPa至2.66×10-6KPa之间。
5.如权利要求1所述的能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置，其特征在于，所述开卷机、第一导向辊、第二导向辊、冷却滚筒和收卷机组成传动系统，该传动系统上设置有片状基材。