技术总结
本实用新型公开了一种能够提高附着力的真空薄膜镀铝装置，该装置包括真空室，真空室内设置有开卷机、第一导向辊、第二导向辊、冷却滚筒、收卷机和蒸镀盘，蒸镀盘设置在真空室的底部，蒸镀盘内设置有待沉积的铝，冷却滚筒设置在蒸镀盘的上方；蒸镀盘的上方还设置有石墨加热器；开卷机设置在蒸镀盘的一侧；第一导向辊设置在开卷机的上方；开卷机和第一导向辊之间设置有等离子体发射装置；第二导向辊设置在第一导向辊与冷却滚筒之间；收卷机设置在真空室的顶部的一侧。该装置利用等离子体轰击片状基材的表面，去除片状基材表面上吸附的氧气、湿气和任何其他低分子量的物质。轰击能够有效地提高铝蒸汽与片状基材表面之间的粘着力，避免铝膜脱落。
技术研发人员：田守文
受保护的技术使用者：天津市大阳光大新材料股份有限公司
文档号码：201720365513
技术研发日：2017.04.10
技术公布日：2017.11.14