一种硅热法镁冶炼竖罐结构的制作方法

文档序号:13164431阅读:1284来源:国知局
一种硅热法镁冶炼竖罐结构的制作方法

本发明涉及镁冶炼工业设备技术领域,特别是涉及一种硅热法镁冶炼竖罐结构。



背景技术:

硅热法竖罐炼镁技术与横罐技术相比,具有产量大、加料排渣容易、用工少等诸多优势,逐渐成为硅热法炼镁的新趋势。但是,竖罐的使用寿命仍没有明显的改善,这也是目前制约竖罐技术推广应用的瓶颈之一。硅热法炼镁还原罐长时间在约1200℃高温、10Pa真空条件下工作,其破坏主要表现在罐的两端严重变形,原因是还原罐材质的高温蠕变。通过增加壁厚、提高耐热的合金含量等方法,可以在一定程度上延长竖罐的使用寿命,但会大幅增加竖罐的制造成本。

竖罐的尺寸较大,而且可支撑的部位有限,因此,其支撑结构对使用寿命有重要的影响。目前,竖罐在还原炉中的支撑方式有两种:一种是竖罐上部悬挂在还原炉的上支座上,下部为自由状态,其自身重力主要集中在悬挂部位,称为上悬挂方式;另一种是竖罐下部支撑在还原炉的下支座上,上部为自由状态,其自身重力主要集中在支撑部位,称为下支撑方式。在高温条件下,自身重力使还原罐在支撑部位发生蠕变,从而使上悬挂竖罐在悬挂部位易于明显变细,而下支撑竖罐在支撑部位易于明显变粗,导致装料、排渣困难,无法抽取真空而报废。竖罐的频繁更换除了增加还原罐材料消耗,还会造成生产的不连续,增加镁产品的冶炼成本。



技术实现要素:

本实用新型的发明目的在于克服背景技术中所描述的缺陷,从而实现一种能大幅延长竖罐的使用寿命、减少镁冶炼生产中竖罐更换频率、降低生产成本的硅热法镁冶炼竖罐结构。

为实现上述发明目的,本实用新型的技术方案是:一种硅热法镁冶炼竖罐结构,包括用于镁冶炼的还原竖罐,所述还原竖罐上端口筒体外侧壁上设有上支耳,所述还原竖罐下端口筒体外侧壁上设有下支耳,炉顶上方固定设置有上支撑装置,炉底下方固定设置有下支撑装置,在室温条件下,上支耳支撑在上支撑装置上,下支耳位于下支撑装置正上方,且下支耳与下支撑装置之间设置有预留空隙;在高温工作条件下(如1000℃以上),还原竖罐受热向下伸长,上支耳支撑在上支撑装置上的同时,下支耳支撑在下支撑装置上,实现对还原竖罐的上部和下部联合支撑,此时,还原竖罐的重力被上支耳和下支耳共同分担,竖罐支撑部位受力状态明显改善。

作为本实用新型的优选技术方案,所述下支耳与下支撑装置之间预留空隙的竖直高度为30mm~300mm。

作为本实用新型的优选技术方案,所述上支耳为连续的单个环状板或多个间隔圆周均布的弧形板。

作为本实用新型的优选技术方案,所述上支耳与还原竖罐通过焊接或者一体铸造固定连接;所述下支耳与还原竖罐通过焊接或者一体铸造固定连接。

本实用新型的硅热法镁冶炼竖罐结构的有益效果:

1.本实用新型的硅热法镁冶炼竖罐结构,上支耳支撑在上支撑装置上,下支耳位于下支撑装置正上方,且下支耳与下支撑装置之间设置有预留空隙,使竖罐在高温服役过程中,还原竖罐的重力被上支座和下支座共同分担,明显降低罐体的应力水平和蠕变速率,竖罐支撑部位受力状态明显改善,从而大幅延长竖罐的使用寿命。

2.本实用新型的硅热法镁冶炼竖罐结构,有效防止还原竖罐支撑部位发生明显形变,减少镁冶炼生产中竖罐更换频率,生产连续性较好,利于组织生产和提高效率,并且可以显著降低企业的生产成本。

附图说明

图1是本实用新型的硅热法镁冶炼竖罐结构的结构示意图;

图2是本实用新型的硅热法镁冶炼竖罐结构工作受热状态的结构示意图。

图中:1-还原竖罐,2-上支耳,3-下支耳,4-炉顶,5-上支撑装置,6-炉底,7-下支撑装置。

具体实施方式

下面结合附图并通过具体的实施方式对本实用新型的硅热法镁冶炼竖罐结构做更加详细的描述。

实施例1:

本实用新型的硅热法镁冶炼竖罐结构,包括用于镁冶炼的还原竖罐1,所述还原竖罐1上端口筒体外侧壁上设有上支耳2,所述还原竖罐1下端口筒体外侧壁上设有下支耳3,炉顶4上方固定设置有上支撑装置5,炉底6下方固定设置有下支撑装置7,在室温条件下,上支耳2支撑在上支撑装置5上,下支耳3位于下支撑装置7正上方,且下支耳3与下支撑装置7之间设置有预留空隙,所述下支耳与下支撑装置之间预留空隙的竖直高度为100mm;在高温工作条件下,还原竖罐1受热向下伸长,上支耳2支撑在上支撑装置5上的同时,下支耳3支撑在下支撑装置7上,实现对还原竖罐1的上部和下部联合支撑。

所述上支耳2为连续的单个环状板。

所述上支耳2与还原竖罐1通过焊接固定连接;所述下支耳3与还原竖罐1通过焊接固定连接。

实施例2:

与实施例1相同之处不再赘述,不同之处在于:

所述上支耳2与还原竖罐1通过一体铸造固定连接,所述下支耳3与还原竖罐1通过一体铸造固定连接。

以上所述仅为本实用新型示意性的具体实施方式,并非用以限定本实用新型的范围,任何本领域的技术人员在不脱离本实用新型构思和原则的前提下所做出的等同变化与修改,均应属于本实用新型保护的范围。

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