抛光装置的制作方法

本实用新型涉及抛光技术领域，尤其涉及一种抛光玻璃工件表面的抛光装置。

背景技术：

现有技术在玻璃生产加工过程中，经常需要对玻璃边缘及表面进行研磨抛光处理，以增强玻璃的光滑度。目前玻璃生产加工技术领域常用的抛光方法主要是采用平面扫光机，平面扫光机通过毛毯研磨抛光玻璃的表面及浅边缘，受制于平面扫光机的扫光原理，平面扫光机的毛刷不能对具有一定弧面结构的玻璃进行有效的抛光和修复操作，无法对现有市场上广泛存在的2.5D和3D玻璃的弧面进行有效研磨抛光。具体的，如图1所示的2.5D玻璃，毛刷在研磨抛光时不能对2.5D玻璃表面的边缘处及浅边缘进行有效研磨抛光，又如图2所示，对于3D玻璃，毛刷在研磨抛光时不能对3D玻璃的浅边缘处及弧面处进行有效研磨抛光。因此，现有的平面扫光机无法对诸如2.5D及3D玻璃等具有一定弧面的玻璃进行有效的研磨抛光，大大制约了行业的发展。另外，目前的平面扫光机的研磨抛光效率较低，不能满足日益增长的生产需求。

因此，亟需一种结构简单、抛光效率高且能够有效对2.5D和3D玻璃的表面及弧面进行研磨抛光的抛光装置。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种结构简单、抛光效率高且能够有效对2.5D和3D玻璃的表面及弧面进行研磨抛光的抛光装置。

为实现上述目的，本实用新型提供了一种抛光装置，其包括机架、供玻璃工件水平放置的转动盘、吸附机构及抛光机构，所述转动盘呈转动的连接所述机架，所述吸附机构连接所述转动盘，所述吸附机构跟随所述转动盘同步转动，所述玻璃工件呈水平的吸附于所述吸附机构上，藉由所述吸附机构，所述玻璃工件跟随所述转动盘同步转动；所述抛光机构设置于所述转动盘的上方，所述吸附机构跟随所述转动盘同步转动时，所述抛光机构呈水平的滚动抛光吸附于不同的所述吸附机构的玻璃工件。

与现有技术相比，本实用新型的抛光装置包括吸附机构及抛光机构，吸附机构跟随转动盘同步转动，玻璃工件呈水平的吸附于吸附机构上，以使得玻璃工件能够跟随转动盘同步转动，结构简单；抛光机构设置于转动盘的上方，由于玻璃工件呈水平的吸附于吸附机构上，玻璃工件跟随转动盘同步转动时，抛光机构能够呈水平的滚动研磨抛光玻璃工件，从而实现对玻璃工件表面及弧面的抛光和修复处理；在转动盘上依次设置多组吸附机构，转动盘转动时多组吸附机构同步转动，水平吸附于不同的吸附机构的玻璃工件跟随转动盘同步转动时，抛光机构呈水平的滚动抛光当前玻璃工件的表面及弧面，大大提升抛光效率，合理设置抛光机构的数量，使得玻璃工件在同步转动过程中能够被不同的抛光机构研磨抛光，进一步提升抛光效率。

较佳地，所述吸附机构包括真空吸盘，所述真空吸盘拆卸连接所述转动盘，所述真空吸盘跟随所述转动盘同步转动，所述真空吸盘呈负压的吸附所述玻璃工件。

较佳地，所述真空吸盘呈中空结构，所述中空结构形成负压腔，所述真空吸盘上开设有若干吸附孔，所述玻璃工件置于所述真空吸盘上并遮挡所述吸附孔，所述吸附孔呈负压的将所述玻璃工件吸附于所述真空吸盘上。

较佳地，所述吸附机构还包括真空转盘，所述真空转盘跟随所述转动盘同步转动，所述真空转盘连通所述真空吸盘，所述真空转盘呈负压的抽取所述负压腔内的气体。

较佳地，所述抛光装置还包括主梁，所述主梁设置于所述转动盘的转动中心，所述真空转盘枢接于所述主梁上，所述真空转盘以所述主梁为轴心转动。

较佳地，所述吸附机构还包括连接杆，所述连接杆分别连接所述转动盘及所述真空转盘，藉由所述连接杆，所述真空转盘跟随所述转动盘同步转动。

较佳地，所述吸附机构还包括软管，所述软管分别连通所述真空吸盘及所述真空转盘。

较佳地，所述抛光机构包括毛刷及呈水平设置的滚动轴，所述毛刷套设于所述滚动轴并靠近所述真空吸盘，所述毛刷以所述滚动轴为轴心滚动，所述毛刷滚动时，所述毛刷抛光对应的所述真空吸盘的玻璃工件。

较佳地，所述滚动轴沿所述转动盘的径向方向设置。

较佳地，所述抛光机构还包括固定架，所述固定架连接所述机架，所述滚动轴枢接所述固定架。

附图说明

图1是现有技术的平面扫光机对2.5D玻璃的抛光示意图。

图2是现有技术的平面扫光机对3D玻璃的抛光示意图。

图3是本实用新型的抛光装置的结构示意图。

图4是本实用新型的抛光装置的局部放大图。

图5是本实用新型的抛光装置的俯视图。

图6是本实用新型的抛光装置的侧视图。

图7是本是实用新型的毛刷抛光玻璃工件时的状态示意图。

具体实施方式

现在参考附图描述本实用新型的实施例，附图中类似的组件标号代表类似的组件。

请参阅图3所示，本实用新型提供的抛光装置100能够高效的研磨抛光玻璃工件1的表面及弧面，该玻璃工件1可以为诸如手机及平板电脑等电子产品的2.5D或3D型号的玻璃盖板，也可以为2.5D或3D型号的有机玻璃盖板，本实用新型的抛光装置100能够广泛适用于不同类别的产品的研磨抛光，其实用性强。将玻璃工件1预先摆放于抛光装置100的对应位置上，即可对玻璃工件1的表面及弧面进行自动化抛光操作。下面将对本实用新型的抛光装置100进行详细描述。

请参阅图3-图6所示，本实用新型的抛光装置100包括机架10、供玻璃工件1水平放置的转动盘20、吸附机构30及抛光机构40。其中，机架10承载并支撑转动盘20，转动盘20呈转动的连接机架10，具体的，转动盘20呈环形结构以便于对玻璃工件1进行多次抛光，该环形结构循环的传输玻璃工件1，玻璃工件1在转动盘20上做圆周运动，不同的玻璃工件1跟随转动盘20转动时被循环的研磨抛光。吸附机构30连接转动盘20，吸附机构30跟随转动盘20同步转动，玻璃工件1呈水平的吸附于吸附机构30上，藉由吸附机构30，玻璃工件1跟随转动盘20同步转动。抛光机构40设置于转动盘20的上方，吸附机构30跟随转动盘20同步转动时，抛光机构40呈水平的滚动抛光吸附于不同的吸附机构30的玻璃工件1的表面。

值得注意的是，为了更直观的展示本实施例的抛光装置100的结构，本实施例的附图仅显示了一组吸附机构30及一组抛光机构40，实际生产过程中，本实施例的转动盘20上依次排布有多组吸附机构30，抛光装置100设置有多组抛光机构40，转动盘20带动吸附机构30同步转动时，吸附于不同吸附机构30上的玻璃工件1在转动盘20上做圆周运动的过程中，被位于转动盘20上方的不同抛光机构40依次研磨抛光，玻璃工件1每完成一次圆周运动，均能够保证被所有的抛光机构40研磨抛光，而玻璃工件1在做循环的圆周运动时，就能够被所有的抛光机构40进行循环抛光，有效提升了研磨抛光的效率。

请参阅图4-图6所示，本实用新型的吸附机构30包括真空吸盘31及真空转盘32。其中，真空吸盘31拆卸连接转动盘20，真空吸盘31跟随转动盘20同步转动，真空吸盘31呈负压的吸附玻璃工件1。具体的，真空吸盘31呈中空结构，该中空结构形成负压腔，真空吸盘31上开设有若干吸附孔311，玻璃工件1置于真空吸盘31上并遮挡吸附孔311，吸附孔311呈负压的将玻璃工件1吸附于真空吸盘31上，操作时，将多块玻璃工件1水平放置于真空吸盘31上，玻璃工件1的弧面朝向抛光机构40，并使得每块玻璃工件1至少遮挡一个吸附孔311，保证每块玻璃工件1均能在真空吸盘31的吸附下稳定的随转动盘20同步转动。而采用负压吸附的方式固定玻璃工件1，避免了因采用常规的夹紧锁定方式对玻璃工件1进行夹持锁定时，对玻璃工件1造成的无法挽回损伤，且负压吸附的方式更简单，无需对每块玻璃工件1进行单独的固定，仅需要将玻璃工件1水平放置于真空吸盘31上即可，大大降低了人力成本，并提升生产效率。真空转盘32跟随转动盘20同步转动，真空转盘32连通真空吸盘31，真空转盘32呈负压的抽取负压腔内的气体，以为真空转动提供负压，进一步的，本实用新型的抛光装置100还包括主梁50，该主梁50设于转动盘20的转动中心，该主梁50具体位于本实施例的呈环形结构的转动盘20的圆心位置，真空转盘32枢接于该主梁50上，真空转盘32以该主梁50为轴心转动。

真空转盘32具体通过连接杆33连接转动盘20，连接杆33的两端分别连接转动盘20及真空转盘32，以使得转动盘20/真空转盘32转动时，即可联动真空转盘32/转动盘20，藉由连接杆33，转动盘20与真空转盘32实现了同步转动，从而实现转动盘20及真空转盘32之间的联动。真空吸盘31与真空转盘32之间设置有软管(图中未示)，软管分别连通真空吸盘31及真空转盘32，真空吸盘31与真空转盘32藉由软管相互连通，由于软管为柔性，可以便于对真空吸盘31及真空转盘32进行维护，当软管老化时，直接跟个环软管既可，成本低。本实施例采用诸如马达、电机等驱动方式驱动转动盘20转动，转动盘20带动真空吸盘31转动，从而联动真空转盘32，避免真空吸盘31/真空转盘32在转动过程中，因真空转盘32/真空吸盘31不动或不同步转动而导致软管打结，而损坏或影响真空吸盘31对玻璃工件1的吸附固定效果。当然，本实施例也可以通过驱动真空转盘32转动以带动真空吸盘31转动，从而带动转动盘20转动而实现循环研磨抛光，在此不对本实施例的吸附机构30的驱动方式及驱动类型进行限定。

请参阅图3、图4、图6及图7所示，本实施例的抛光机构40包括毛刷41及呈水平设置的滚动轴42，毛刷41套设于滚动轴42并靠近真空吸盘31，毛刷41以滚动轴42为轴心滚动，毛刷41在旋转滚动时，毛刷41研磨抛光对应的真空吸盘31的玻璃工件1，由于毛刷41在旋转滚动过程中，能够产生朝上或朝下的拨动的力，适当降低毛刷41与真空吸盘31之间的距离，使得毛刷41临近玻璃工件1，毛刷41在朝上或朝下拨动时，毛刷41既可研磨抛光玻璃工件1的表面及弧面。。优选的，滚动轴42沿转动盘20的径向方向设置，以使得套设于滚动轴42上的毛刷41能够沿转动盘20的转动方向对玻璃工件1进行研磨抛光，由于玻璃工件1在做圆周运动时，玻璃工件1的每一点的角速度会存在差异，不同的研磨抛光角度容易使得循环抛光下的玻璃工件1的每一点的研磨抛光时间不同，将滚动轴42沿转动盘20的径向方向设置，使得循环抛光下的玻璃工件1的每一点的研磨抛光时间均能够相同，有效保证了抛光效果，且在实际生产过程中，沿转动盘20转动的方向对玻璃工件1进行研磨抛光能够最大限度的降低玻璃工件1在研磨抛光过程因研磨抛光不均匀而导致的刮伤及抛光不均匀。当玻璃工件1为3D型号的玻璃盖板时，玻璃工件1的弧面如图7所示的朝向毛刷41，由于转动盘20是相对毛刷41转动的，所以毛刷41能够相对玻璃工件1沿箭头所示方向旋转滚动，毛刷41在滚动过程中完全研磨抛光玻璃工件1的浅边缘处以及弧面处，从而实现了对3D型号的玻璃盖板的全方位研磨抛光。本实施例的抛光装置100对2.5D型号的玻璃盖板研磨抛光过程与3D型号的玻璃盖板过程类似，在此不再赘述。

进一步的，抛光机构40还包括固定架43，固定架43连接机架10，滚动轴42枢接固定架43。优选的，固定架43还连接主梁50，以进一步提升固定架43的稳定性。固定架43为滚动轴42提供独立的滚动支撑，由于转动盘20在转动过程中不可避免的产生机械抖动，而机械抖动会使得滚动轴42不恒处于水平位，通过增设固定架43的方式避免了将滚动轴42直接设置于机架10上，有效避免了机械抖动对抛光机构40的影响，有效提升本实施例的抛光装置100的研磨抛光效果。

请结合图3-图7所示，本实用新型的抛光装置100包括吸附机构30及抛光机构40，吸附机构30跟随转动盘20同步转动，玻璃工件1呈水平的吸附于吸附机构30上，以实现玻璃工件1跟随转动盘20同步转动，结构简单；抛光机构40设置于转动盘20的上方，由于玻璃工件1呈水平的吸附于吸附机构30上，玻璃工件1跟随转动盘20同步转动时，抛光机构40能够呈水平的研磨抛光玻璃工件1的表面及弧面，从而实现对玻璃工件1表面的抛光和修复处理；在转动盘20上依次设置多组吸附机构30，转动盘20转动时多组吸附机构30同步转动，水平吸附于不同的吸附机构30的玻璃工件1跟随转动盘20同步转动时，抛光机构40呈水平的研磨抛光当前玻璃工件1的表面及弧面，大大提升抛光效率，合理设置抛光机构40的数量，使得玻璃工件1在同步转动过程中能够被不同的抛光机构40研磨抛光，进一步提升抛光效率。

以上所揭露的仅为本实用新型的优选实施例而已，当然不能以此来限定本实用新型之权利范围，因此依本实用新型申请专利范围所作的等同变化，仍属本实用新型所涵盖的范围。