一种抛光液输送摆臂及抛光设备的制作方法

本发明涉及抛光技术领域，尤其涉及一种抛光液输送摆臂及抛光设备。

背景技术：

化学机械抛光是常用于制造高密度集成电路的一种工艺，在进行抛光时需要输送抛光液到相应位置，其中，输送抛光液的工作都是通过抛光液输送摆臂完成。

目前的抛光液输送摆臂，抛光液出口位置相对于摆臂是固定的。根据抛光工艺的不同要求，抛光液在抛光垫上的落点需要随之调整，现有的方法需要调整抛光液输送摆臂的位置，才能实现浆液在抛光垫上落点的调节。

技术实现要素：

本发明的目的在于克服现有技术的缺陷，提供一种抛光液输送摆臂及抛光设备，用以解决现有技术中的问题。

为解决上述问题，本发明提供了：一种抛光液输送摆臂，包括臂体，所述臂体上设置有用于输送抛光液的抛光液输送管；

所述臂体上滑动设置有浆料落点调节块，所述浆料落点调节块用于固定所述抛光液输送管的出料端。

作为上述技术方案的进一步改进，所述浆料落点调节块上设置有用于使所述抛光液输送管穿入其中的穿接通孔，其中，所述抛光液输送管的出料端从所述穿接通孔中穿出。

作为上述技术方案的进一步改进，所述臂体上设置有用于安装所述抛光液输送管的第一安装槽；

所述浆料落点调节块位于所述第一安装槽内，所述第一安装槽的底部设置有滑道，所述浆料落点调节块与所述滑道可滑动地连接。

作为上述技术方案的进一步改进，所述臂体上设置有第一止动件，所述第一止动件用于限制所述浆料落点调节块使其与所述滑道保持相对固定。

作为上述技术方案的进一步改进，所述臂体上还设置有用于输送清洗液的清洗液输送管；

所述清洗液输送管上设置有与其内腔相连通的喷头，所述喷头有若干个，各所述喷头的出水端均设置有喷嘴；

所述喷嘴上设置有与所述喷头相连通的喷液通道，所述喷液通道用于使所述喷头喷射出的清洗液沿其内壁流动；其中，沿所述喷嘴的喷射方向，所述喷液通道的内壁的横截面的面积或长度逐渐增大。

作为上述技术方案的进一步改进，所述喷头与所述清洗液输送管可转动地连接。

作为上述技术方案的进一步改进，还包括竖直设置的转轴，所述臂体固定于所述转轴的顶部。

作为上述技术方案的进一步改进，所述臂体上设置有用于安装所述清洗液输送管的第二安装槽，其中，所述清洗液输送管与所述第二安装槽可滑动地连接。

作为上述技术方案的进一步改进，所述臂体上设置有第二止动件，所述第二止动件用于限制所述清洗液输送管使其与所述第二安装槽保持相对固定。

本发明还提供了：一种抛光设备，包括如上任一项所述的抛光液输送摆臂。

本发明的有益效果是：本发明提出一种抛光液输送摆臂，包括臂体，臂体上设置有用于输送抛光液的抛光液输送管，臂体上滑动设置有浆料落点调节块，浆料落点调节块用于固定抛光液输送管的出料端。通过移动浆料落点调节块就可以实现抛光液输送管的出料端的位置的调节，由此使得在不移动臂体的前提下就可以调整抛光液在抛光垫上的落点。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍。应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为本发明实施例中一种抛光液输送摆臂的第一轴侧图；

图2为本发明实施例中一种抛光液输送摆臂的第一轴侧图；

图3为本发明实施例中一种抛光液输送摆臂与抛光垫的位置关系示意图；

图4为本发明实施例中一种浆料落点调节块的示意图；

图5为本发明实施例中一种浆料落点调节块上第二子孔的出口端呈直线分布的示意图；

图6为本发明实施例中一种浆料落点调节块上第二子孔的出口端呈环形分布的示意图。

主要元件符号说明：

1-臂体；2-清洗液输送管；3-抛光液输送管；4-喷头；5-喷嘴；6-转轴；7-浆料落点调节块；8-穿接通孔；9-抛光垫；10-第一子孔；11-第二子孔。

具体实施方式

在下文中，将更全面地描述本发明的各种实施例。本发明可具有各种实施例，并且可在其中做出调整和改变。然而，应理解：不存在将本发明的各种实施例限于在此公开的特定实施例的意图，而是应将本发明理解为涵盖落入本发明的各种实施例的精神和范围内的所有调整、等同物和/或可选方案。

在下文中，可在本发明的各种实施例中使用的术语“包括”或“可包括”指示所公开的功能、操作或元件的存在，并且不限制一个或更多个功能、操作或元件的增加。此外，如在本发明的各种实施例中所使用，术语“包括”、“具有”及其同源词仅意在表示特定特征、数字、步骤、操作、元件、组件或前述项的组合，并且不应被理解为首先排除一个或更多个其它特征、数字、步骤、操作、元件、组件或前述项的组合的存在或增加一个或更多个特征、数字、步骤、操作、元件、组件或前述项的组合的可能性。

在本发明的各种实施例中，表述“a或/和b”包括同时列出的文字的任何组合或所有组合，例如，可包括a、可包括b或可包括a和b二者。

在本发明的各种实施例中使用的表述(诸如“第一”、“第二”等)可修饰在各种实施例中的各种组成元件，不过可不限制相应组成元件。例如，以上表述并不限制所述元件的顺序和/或重要性。以上表述仅用于将一个元件与其它元件区别开的目的。例如，第一用户装置和第二用户装置指示不同用户装置，尽管二者都是用户装置。例如，在不脱离本发明的各种实施例的范围的情况下，第一元件可被称为第二元件，同样地，第二元件也可被称为第一元件。

应注意到：在本发明中，除非另有明确的规定和定义，“安装”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，可以是直接连接，也是可以通过中间媒介间接相连；可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

在本发明中，本领域的普通技术人员需要理解的是，文中指示方位或者位置关系的术语为基于附图所示的方位或者位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或者元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本发明的各种实施例中使用的术语仅用于描述特定实施例的目的并且并非意在限制本发明的各种实施例。除非另有限定，否则在这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明的各种实施例所属领域普通技术人员通常理解的含义相同的含义。所述术语(诸如在一般使用的词典中限定的术语)将被解释为具有与在相关技术领域中的语境含义相同的含义并且将不被解释为具有理想化的含义或过于正式的含义，除非在本发明的各种实施例中被清楚地限定。

实施例1

参阅图1和图2，在本实施例中，提出一种抛光液输送摆臂，包括臂体1，臂体1上设置有用于输送清洗液的清洗液输送管2和用于输送抛光液的抛光液输送管3。

臂体1上还滑动设置有浆料落点调节块7，浆料落点调节块7用于固定抛光液输送管3的出料端。由于抛光液输送管3的出料端与浆料落点调节块7相固定，所以通过移动浆料落点调节块7就可以实现抛光液输送管3出料端位置的调节。

如图4所示，在本实施例中，浆料落点调节块7上可设置有用于使抛光液输送管3穿入其中的穿接通孔8，通过浆料落点调节块7可以对抛光液输送管3的出料端进行安装和固定，其中，抛光液输送管3的出料端从穿接通孔8中穿出。如图2所示，抛光液输送管3的出料端从浆料落点调节块7中穿出后，再从臂体1底部的开口伸出并朝向抛光垫。

当抛光液输送到抛光液输送管3中后，抛光液便会从抛光液输送管3的出料端掉流出并在重力的作用下滴落在抛光垫上。

在本实施例中，穿接通孔8可包括有相互连通的第一子孔10和第二子孔11，其中，第二子孔11竖直设置且正对于抛光垫。抛光液输送管3从第一子孔10穿入，再从第二子孔11的出口端穿出，从而保证抛光液输送管3的出料端正对于抛光垫。

穿接通孔8与输送管一一对应，其中，穿接通孔8的数量及位置均可以根据需要进行设置。

具体的，如图5所示，浆料落点调节块7上第二子孔11的出口端可分布在一条直线上；如图6所示，浆料落点调节块7上第二子孔11的出口端可分布同一圆周上。由于不同规格抛光垫的形状及尺寸不同，所以可以通过设置第二子孔11的位置，以使得从各抛光液输送管3内的抛光液可以按直线分布或环形分布等形式的滴落的在抛光垫上，以方便抛光液可在离心力的作用下分散在抛光垫上。在其他具体实施例中，浆料落点调节块7上第二子孔11的出口端的分布形式还可根据需要进行设置。

臂体1上可设置有用于安装抛光液输送管3的第一安装槽，同时，浆料落点调节块7也位于第一安装槽内，其中，第一安装槽的底部可设置滑道，浆料落点调节块7与滑道可滑动地连接。具体的，浆料落点调节块7的底部可设置有凸起，凸起插入滑道中并与之滑动连接。

沿滑道滑动浆料落点调节块7，使得抛光液输送管3的出料端所对准的位置发生改变，以方便抛光液的滴落至抛光垫上相应的位置。

为实现浆料落点调节块7的自动移动，可在臂体1上安装一驱动电机，驱动电机的输出轴上可固定设置有齿轮，同时，在浆料落点调节块7的外壁上可固定设置有与齿轮相啮合的直齿条。启动驱动电机后，通过齿轮可驱使直齿条及浆料落点调节块7在第一安装槽内滑动。

在本实施例中，抛光液输送管3可采用软管且具有可伸缩性，具体的，可以使用波纹管或螺旋管等。由于抛光液输送管3具有可伸缩性，所以使其可根据与抛光垫之间的距离调节自身的长短。

其中，臂体1上设置有第一止动件，第一止动件用于限制浆料落点调节块7使其与滑道保持相对固定。

在抛光过程中，需对抛光垫进行清洗，以去除研磨过程中掉落的磨料。为此，需利用臂体1上设置的清洗液输送管2输送清洗液，通过清洗液完成对抛光垫的清洗。其中，在化学机械抛光中，清洗液一般可采用水液。

清洗液输送管2上设置有与其内腔相连通的喷头4，喷头4有若干个，各喷头4的出水端均设置有喷嘴5。为方便观察，图1中未示出喷嘴5。

喷嘴5上设置有与喷头4相连通的喷液通道，喷液通道用于使喷头4喷射出的清洗液沿其内壁流动。其中，沿喷嘴5的喷射方向，喷液通道的内壁的横截面的面积或长度逐渐增大。

喷液通道的内壁的横截面垂直于喷嘴5的喷射方向。

化学机械抛光(chemicalmechanicalpolishing,cmp)是一种常用于制造高密度集成电路的工艺。

化学机械抛光的工艺流程如下：抛光盘驱动抛光垫使其旋转；抛光头的底部吸附圆晶，在外力作用下抛光头被下压，从而使得园晶在抛光垫上研磨；修整器的底部安装有砂轮盘，砂轮盘通过旋转对抛光垫进行修整；抛光液被输送到抛光垫上方对应的位置，并滴落在抛光垫上，在离心力的作用下，抛光液在抛光垫的表面散开；同时，输送水液(清洗液)以对抛光垫进行清洗，从而去除研磨过程中掉下的磨料。

在本实施例中，通过使用抛光液输送摆臂，就可以实现抛光液及清洗液的输送，从而简化了抛光设备的结构。

经过加压处理的清洗液输入至清洗液输送管2的内腔中，清洗液会通过设置在清洗液输送管2上的喷头4喷出，喷头4有若干个，相应的，每个喷头4都会有清洗液喷射出。

为了提高喷头4喷出的清洗液所覆盖的范围，各喷头4的出水端均可设置有喷嘴5，其中，喷头4可以插接或者螺纹连接的方式与喷头4相连。

当喷头4中喷出的清洗液进入到喷嘴5内部的喷液通道中后，会有部分清洗液沿喷液通道的内壁流动并喷出。由于沿喷嘴5的喷射方向，喷嘴5上的喷液通道的内壁的横截面的面积或长度逐渐增大，所以通过喷嘴5被喷出的清洗液所覆盖的面积会变大。

如图2所示，在本实施例中，喷嘴5上喷液通道可设置呈圆台形或锥形，此时，喷液通道的内壁的横截面呈圆形。

在其他具体实施例中，喷嘴5呈扇形，其中，喷嘴5上喷液通道的内壁的横截面可设置呈弧形。

喷头4的数量可以根据需要进行设置，具体可以为1个、2个、5个、8个、13个等等。其中，喷头4的数量越多，清洗液所能覆盖及清洗的范围就会越大，喷头4之间可等间距设置。

在本实施例中，喷头4与清洗液输送管2可转动地连接。如此，用户就可以根据需要转动喷头4，以调节相应的喷头4(喷嘴5)的喷射方向，从而可以更加方便地对抛光垫进行清洗。

具体的，喷头4可使用球形喷头4，相应的，清洗液输送管2上可设置有与球形喷头4对应的球形槽，将球形喷头4插入球形槽内就可以实现喷头4的万向转动。其中，喷头4与清洗液输送管2的连接处可设置有密封垫等密封件，以防止漏水。

为调节臂体1的位置，以方便在抛光垫不同位置喷洒抛光液和清洗液，在本实施例中，抛光液输送摆臂还可以包括竖直设置的转轴6，臂体1固定于转轴6的顶部。转轴6可通过电机进行驱动，其转动轴心线与铅垂线平行。

在对抛光液输送摆臂进行安装时，臂体1应位于抛光垫上方，其中，清洗液输送管2上的喷头4及喷嘴5都位于抛光垫的正上方，抛光垫的中心与转轴6之间的垂直距离最大。

如图3所示，为了使喷洒出的清洗液可以覆盖到抛光垫9的中心，距离转轴6最远的喷头4，也即是与抛光垫9的中心垂直距离最小的喷头4，其喷射方向朝向远离转轴6的一侧，且偏向或正对于抛光垫9的中心。其余的碰头的喷射方向可正对于抛光垫9，也可偏向抛光垫9的中心。

在本实施例中，为对清洗液输送管2进行安装，臂体1上还可设置有用于安装清洗液输送管2的第二安装槽，其中，清洗液输送管2与第二安装槽可滑动地连接。通过在第二安装槽内滑动清洗液输送管2，可以调节喷头4及喷嘴5所喷射的区域，以方便适用于不同规格的抛光垫。清洗液输送管2内要输送高压的清洗液，为避免在水压的作用下发生变形，清洗液输送管2可采用塑料、铜材、钢材等制成，以使得清洗液输送管2具有一定的硬度，不会因水压作用而变形，同时，具有一定硬度的清洗液输送管2可以更加方便安装喷头4。

在工作时，清洗液输送管2可能会受到水压或者外力的影响而出现位置的偏移。为避免这种情况的发生，臂体1上设置有第二止动件，第二止动件用于限制清洗液输送管2使其与第二安装槽保持相对固定。

在本实施例中，第一止动件和第二止动件可以采用插销或者锁紧螺栓等。其中，臂体1上可设置有用于安装第一止动件和第二止动件的插孔或螺纹孔等。

在抛光过程中，水液可能发生喷溅的情况，为防止臂体1的顶部积水，在本实施例中，臂体1的顶面可设为平整面，且与转轴6不相垂直。如此，当水液落到臂体1的顶面上时，水液就会重力的作用下滑落。

在本实施例中，还提出一种抛光设备，包括上文中的抛光液输送摆臂。

本领域技术人员可以理解附图只是一个优选实施场景的示意图，附图中的模块或流程并不一定是实施本发明所必须的。

本领域技术人员可以理解实施场景中的装置中的模块可以按照实施场景描述进行分布于实施场景的装置中，也可以进行相应变化位于不同于本实施场景的一个或多个装置中。上述实施场景的模块可以合并为一个模块，也可以进一步拆分成多个子模块。

上述实施例序号仅仅为了描述，不代表实施场景的优劣。

以上公开的仅为本发明的几个具体实施场景，但是，本发明并非局限于此，任何本领域的技术人员能思之的变化都应落入本发明的保护范围。