蒸发源及蒸镀设备的制作方法

本发明涉及显示器制造技术领域，尤其是指一种蒸发源及蒸镀设备。

背景技术：

真空蒸镀是指在高真空环境下对材料进行加热，使被加热材料蒸发升华并在基板上形成镀膜，主要用于有机半导体器件如有机发光二极管中的有机功能层的制作。

采用常规的环绕式的真空蒸镀设备，在蒸镀过程中，通常只使用一个蒸发源进行蒸镀，当正在使用的蒸发源内的蒸镀材料耗尽时，对另一蒸发源进行加热，使另一蒸发源用于蒸镀，以确保蒸镀过程的连续性。常规蒸镀过程中蒸发源之间的切换，通常是利用蒸镀时间进行判断。然而，利用蒸镀时间进行蒸发源切换时，为避免造成蒸镀膜层不连续，切换时需要保证蒸发源内的蒸镀材料具有一定余量，而通过蒸镀时间不能精确获得蒸发源内的剩余蒸镀材料，造成材料浪费，而且会对蒸镀速率造成一定影响。

技术实现要素：

本发明技术方案的目的是提供一种蒸发源及蒸镀设备，用于解决蒸镀过程中利用蒸镀时间进行蒸发源切换，不能精确获得蒸发源内的剩余蒸镀材料，造成材料浪费和对蒸镀速率造成影响的问题。

本发明实施例提供一种蒸发源，其中，包括：

支撑体，设置有第一容置腔；

坩埚，包括用于容置蒸镀材料的第二容置腔；所述坩埚设置于所述第一容置腔内，且位于所述支撑体的支撑面上，通过所述支撑面，所述支撑体能够支撑所述坩埚；

压力传感器，设置于所述支撑面上，且所述坩埚抵压在所述压力传感器上。

可选地，所述的蒸发源，其中，所述压力传感器为压电陶瓷传感器。

可选地，所述的蒸发源，其中，所述支撑面为所述支撑体开设有所述第一容置腔的顶面，所述坩埚包括围绕所述第二容置腔的延伸边缘，所述延伸边缘位于所述顶面上；通过所述顶面支撑所述延伸边缘，所述支撑体能够支撑所述坩埚；

其中，所述压力传感器设置于所述顶面与所述延伸边缘之间。

可选地，所述的蒸发源，其中，所述压力传感器形成为围绕所述坩埚的环形结构。

可选地，所述的蒸发源，其中，所述压力传感器的数量为至少两个，且至少两个的所述压力传感器在所述支撑面上围绕所述坩埚均匀分布。

可选地，所述的蒸发源，其中，所述支撑面为所述支撑体开设有所述第一容置腔的顶面时，所述顶面形成为阶梯形状，所述压力传感器与所述顶面接触的端面形成为与阶梯形状的所述顶面配合的结构。

可选地，所述的蒸发源，其中，所述支撑体上设置有用于对所述坩埚进行加热的加热源。

本发明实施例还提供一种蒸镀设备，其中，包括如上任一项所述的蒸发源。

可选地，所述的蒸镀设备，其中，所述蒸镀设备还包括：

控制器，用于获取所述压力传感器所检测的压力信号，根据所述压力信号判断所述蒸发源内的蒸镀材料的重量。

可选地，所述的蒸镀设备，其中，所述蒸镀设备包括至少两个所述蒸发源；

其中，所述控制器获取当前处于蒸镀过程中所述蒸发源上的所述压力传感器检测的压力信号，所述控制器在根据所述压力信号判断所述蒸发源内的蒸镀材料的重量之后，还用于：

当根据蒸镀材料的重量和蒸镀过程中的当前蒸镀速度，确定所述蒸发源内的蒸镀材料进行蒸镀的时长小于或等于预设时长时，则发出需要切换蒸发源的预加热信号；

在发出预加热信号后，继续对当前蒸镀过程中的所述蒸发源蒸镀所述预设时长时，停止进行蒸镀，且发出蒸发源切换信号；

其中，所述预设时长大于或等于需要切换蒸发源的预加热时长。

本发明具体实施例上述技术方案中的至少一个具有以下有益效果：

本发明实施例所述蒸发源，通过在用于支撑坩埚的支撑体上设置压力传感器，以能够通过压力传感器实时监测坩埚内剩余的蒸镀材料，获得剩余蒸镀材料的精确重量值，根据所获得的剩余蒸镀材料的精确重量值，能够确定需要切换蒸发源的预加热时间点和蒸发源切换时间点，以避免造成材料浪费和对蒸镀速率造成影响。

附图说明

图1为本发明实施例所述蒸发源的立体结构示意图；

图2为本发明实施例所述蒸发源中压力传感器的另一实施结构的平面示意图；

图3为本发明实施例所述蒸镀设备的部分结构示意图。

具体实施方式

为使本发明要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。

为解决蒸镀过程中利用蒸镀时间进行蒸发源切换，不能精确获得蒸发源内的剩余蒸镀材料，造成材料浪费和对蒸镀速率造成影响的问题，本发明实施例提供一种蒸发源，通过在蒸发源上用于支撑坩埚的支撑体上设置压力传感器，以能够通过压力传感器实时监测坩埚内剩余的蒸镀材料，获得剩余蒸镀材料的精确重量值。

本发明实施例所述蒸发源的其中一实施方式，如图1所示，包括：

支撑体100，设置有第一容置腔110；

坩埚200，包括用于容置蒸镀材料的第二容置腔210；坩埚200设置于第一容置腔110内，且位于支撑体100的支撑面120上，通过支撑面120，支撑体100能够支撑坩埚200；

压力传感器300，设置于支撑面120上，且坩埚200抵压在压力传感器300上。

本发明实施例所述蒸发源，当坩埚200与支撑体100配合连接时，坩埚200设置于支撑体100的第一容置腔110内，且支撑体100通过支撑面120支撑坩埚200，也即坩埚200的整个重量由支撑面120承接；其中，通过在支撑体100用于支撑坩埚200的支撑面120上设置压力传感器300，使坩埚200能够抵压在压力传感器300上，保证压力传感器300能够检测到坩埚200对支撑面120的压力，且压力传感器300所检测的压力信号能够反映坩埚200的重量。

需要说明的是，压力传感器300所检测的压力信号可以为电信号，该电信号的不同能够反映出坩埚200对压力传感器300的不同压力，也即获取到坩埚200的不同重量值。

另外，根据压力传感器300所检测的压力信号确定出的坩埚200的重量，包括坩埚200本身的重量和坩埚200内蒸镀材料的重量，而由于预先可以获取坩埚200本身的重量，因此根据压力传感器300所检测的压力信号，能够确定坩埚200内蒸镀材料的重量。

此外，由于压力传感器300具有较高的检测灵敏度，因此本发明实施例所述蒸发源，利用压力传感器300能够精确检测获得坩埚200内蒸镀材料的重量。

本发明实施例中，可选地，所述压力传感器300为压电陶瓷传感器，以能够适应蒸发源加热时的高温环境。需要说明的是，压力传感器300不限于仅能够为压电陶瓷传感器，也可以为其他类型能够适应蒸发源加热时高温环境的压力传感器。

参阅图1所示，本发明实施例所述蒸发源的其中一实施方式中，支撑体100的支撑面120为支撑体100开设有第一容置腔110的顶面，坩埚200包括围绕第二容置腔210的延伸边缘220，延伸边缘220位于顶面上；通过该顶面支撑延伸边缘220，支撑体100能够支撑坩埚200；

其中，压力传感器300设置于顶面与延伸边缘220之间。

采用上述实施结构，坩埚200在设置于第一容置腔110内时，围绕第二容置腔210的延伸边缘220设置于支撑体100的顶面(也即支撑面120)上，通过支撑体100的顶面支撑放置坩埚200。需要说明的是，为保证根据支撑面120上的压力传感器300所检测的压力信号能够准确检测到坩埚200的重量，坩埚200的整个重量均由支撑体100的顶面承载，支撑体100的其他部分不需要承载并支撑坩埚200。

可选地，延伸边缘220位于坩埚200设置第二容置腔210的顶面上。具体地，如图1所示，坩埚200的顶面上围绕第二容置腔210设置有延伸边缘220；支撑体100的设置第一容置腔110的顶面上，围绕第一容置腔110的部分形成为用于支撑坩埚200的支撑面120；当坩埚200插设于第一容置腔110内时，坩埚200的延伸边缘220置于支撑体100的支撑面120上，通过支撑面120支撑并承载坩埚200，且压力传感器300设置于延伸边缘220与支撑面120之间，以能够通过压力传感器300检测到坩埚200的重量。

需要说明的是，支撑体不限于仅能够通过顶面支撑坩埚，例如也可以用内底面支撑坩埚，该种设置结构时，可以将压力传感器设置于支撑体的内底面上。具体地，无论支撑体与坩埚之间采用何种配合结构，只要能够在支撑体与坩埚之间设置压力传感器，使得利用压力传感器所检测的压力信号能够检测到坩埚的重量即可。

本发明实施例的其中一实施方式，如图1所示，压力传感器300形成为围绕坩埚200的环形结构。呈环形结构的压力传感器300设置于支撑体100的顶面上，并套设在第一容置腔110的外围，坩埚200的整个延伸边缘220抵压在压力传感器300上，以使坩埚200的整个延伸边缘220在压力传感器300上的抵压力均匀，压力传感器300能够精确地检测到坩埚的重量。

本发明实施例中，可选地，如图1所示，支撑体100的支撑面120为支撑体100的顶面时，顶面形成为阶梯形状。具体地，参阅图1所示，支撑体100的顶面上包括围绕第一容置腔110的第一阶梯面121和第二阶梯面122，其中第一阶梯面121与第二阶梯面122位于不同高度。呈环形结构的压力传感器300与支撑体100的顶面相接触的端面形成为与阶梯形状的顶面配合的结构。具体地，压力传感器300与支撑体100的顶面相接触的端面上，可以包括分别与第一阶梯面121和第二阶梯面122贴合连接且位于不同高度的两个端面部分。另外，压力传感器300与支撑体100的顶面相接触端面的相反端面形成为平面，与坩埚200的延伸边缘220接触连接，以保证坩埚200设置的稳定性。

本发明实施例的另一实施方式，如图2所示，压力传感器300的数量为至少两个，且至少两个的压力传感器300在支撑体100的支撑面120上围绕坩埚200均匀分布。具体地，结合图1，压力传感器300可以在支撑体100的顶面上，围绕设置坩埚200的第一容置腔110均匀分布，坩埚200的延伸边缘220抵压在支撑体100的顶面上，且与每一压力传感器300相抵压，根据每一压力传感器300所检测的压力信号，能够获得坩埚200的重量。

需要说明的是，压力传感器300在支撑体100的支撑面120上的设置方式，并不限于仅能够形成为上述的两种实施方式，只要能够保证坩埚200设置于第一容置腔110内时，支撑体100的支撑面120支撑坩埚200，同时坩埚200能够抵压压力传感器300，保证压力传感器300能够精确检测到坩埚200的重量即可。

可选地，压力传感器300也可以内嵌于支撑体100内，感应面可以在支撑面120上露出，使坩埚200在安装于支撑体100上时，能够抵压在压力传感器300的感应面上。

本发明实施例中，可选地，结合图1所示，支撑体100上设置有用于对坩埚200进行加热的加热源。具体地，支撑体100上的加热源可以围绕坩埚200均匀分布，以保证能够对坩埚200进行均匀加热。

基于上述设置结构，支撑体100形成为坩埚200的热源体，热源体与坩埚200相组合形成为一个蒸发源。

本发明实施例所述蒸发源，通过在蒸发源上用于对坩埚200加热的热源体上设置压力传感器，以能够通过压力传感器实时监测坩埚内剩余的蒸镀材料，获得剩余蒸镀材料的精确重量值。

本发明实施例另一实施方式还提供一种蒸镀设备，其中所述蒸镀设备包括如上任一实施结构的蒸发源。

结合图1和图2，并参阅以上的详细描述，本领域技术人员应该能够了解采用本发明实施例所述蒸发源的蒸镀设备的具体结构，在此不再详细说明。

另外，本发明实施例所述蒸镀设备，还可以进一步包括：

控制器，用于获取所述压力传感器所检测的压力信号，根据所述压力信号判断所述蒸发源内的蒸镀材料的重量。

具体地，控制器与压力传感器连接，通过获取压力传感器所检测的压力信号，计算整个坩埚的重量(包括坩埚的自身重量和蒸镀材料的重量)，并根据所所计算的整个坩埚的重量和预先获取的坩埚自身重量，能够计算出坩埚内的蒸镀材料的重量。

需要说明的是，在蒸镀设备进行蒸镀过程中，控制器可以实时监测处于蒸镀过程中的坩埚内蒸镀材料的重量。

本发明实施例中，如图3所示，蒸镀设备可以包括至少两个蒸发源1，如可以为图3所示的7个；可选地，多个蒸发源1围绕一中心点设置，且多个蒸发源1的中心位于同一圆周上。

本发明实施例中，蒸镀设备的控制获取当前处于蒸镀过程中蒸发源上的压力传感器检测的压力信号，所述控制器在根据所述压力信号判断所述蒸发源内的蒸镀材料的重量之后，还用于：

当根据蒸镀材料的重量和蒸镀过程中的当前蒸镀速度，确定所述蒸发源内的蒸镀材料进行蒸镀的时长小于或等于预设时长时，则发出需要切换蒸发源的预加热信号；

在发出预加热信号后，继续对当前蒸镀过程中的所述蒸发源蒸镀预设时长时，停止进行蒸镀，且发出蒸发源切换信号；

其中，所述预设时长大于或等于需要切换蒸发源的预加热时长。

具体地，预设时长可以等于在蒸镀前需要对切换的坩埚进行预加热所需要的预加热时长，或者也可以为依据该预加热时长设定的时长，如稍大于该预加热时长的一时长值。

采用本发明实施例所述蒸镀设备，在当前蒸发源的蒸镀过程中，利用压力传感器能够实时监测坩埚内剩余的蒸镀材料，可以确定需要切换蒸发源的预加热时间点，根据控制器发出的预加热信号，对需要切换蒸发源启动预加热；进一步地，在发出预加热信号，对需要切换蒸发源进行预加热达到预设时长后，停止对当前蒸发源的蒸镀，并发出蒸发源切换信号，根据蒸发源切换信号，可以进行蒸发源切换。

采用上述实施结构的蒸镀设备，利用蒸发源上设置的压力传感器实时监测坩埚内剩余的蒸镀材料，能够达到节省人力监测和节约蒸镀材料、避免浪费材料的目的。由于蒸镀时间不受蒸镀速度影响，因此采用该蒸镀设备，还能够避免蒸发源切换对蒸镀速率造成的影响。

以上所述的是本发明的优选实施方式，应当指出对于本技术领域的普通人员来说，在不脱离本发明所述原理前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。