一种加硅脱氧孕育剂的制备工艺的制作方法

文档序号:26051772发布日期:2021-07-27 15:27阅读:291来源:国知局
一种加硅脱氧孕育剂的制备工艺的制作方法

本发明属于铸造领域,具体是一种加硅脱氧孕育剂的制备工艺。



背景技术:

灰铸铁的力学性能取决于铸铁的显微组织,如果是未经孕育过程处理的灰铸铁,铸铁的显微组织不稳定、力学性能差、并且容易出现白口倾向,本领域的技术人员为保证铸件品质较佳、以及铸件的一致性,孕育处理成为首选,也是铸铁工艺中必不可少的一个过程。

总所周知,在铸造领域中使用孕育剂是一种可促进石墨析出,减少白口倾向,还可以改善石墨形态,增加共晶团数量,它在孕育处理后的短时间内就能够有良好的效果。在铸造领域中适用于各种情况的一般然件或后期瞬时孕育。

但是孕育剂在合金的使用中并不能出现较佳的脱氧性能,此外在于合金,特别是在与铝基体间并不能形成有良好的晶格匹配关系,不能达到细化合金晶粒的效果。



技术实现要素:

本发明针对现有技术中存在的制备孕育剂的工艺复杂的问题,公开了一种加硅脱氧孕育剂的制备工艺,本发明的工艺中采用硅铁、纯铝、纳米碳化硅等多种组分制备的加硅脱氧孕育剂在球墨铸铁的工艺中,能够增加其机械性能。

本发明是这样实现的:

一种加硅脱氧孕育剂的制备工艺,其特征在于,按照质量份计,所述的孕育剂包括硅铁30~50份、纳米碳化硅10~20份、硅钙7~12份、纯铝6~10份、硅酸锆6~10份、稀土硅铝合金12~20份;其具体的制备方法为:

步骤一、称取质量份为30~50份的硅铁以及6~10份的纯铝混合,其在混合后储存于混合容器中;所述的6~10份的纯铝首先经过高温溶解,溶解后将溶解液倒入硅铁中,所述的硅铁置于悬空的弹性板中,当硅铁溶解到纯铝液体时便落入混合容器的下方;

步骤二、所述的混合容器的下方放置纳米碳化硅,步骤一种的硅铁被纯铝液体包裹,将该包裹物与纳米碳化硅再混合,混合容器的底部设置搅拌装置(2);

步骤三、搅拌均匀后,将搅拌均匀的混合物质中添加7~12份的硅钙、6~10份的硅酸锆,同时进行挤压工艺,挤压至各物质之间无空隙;

步骤四、将挤压后的物质放入中频感应电炉进行熔炼,设置熔炼温度为1500℃~1550℃,熔炼过程中不断再搅拌,待原料全部融化后,继续搅拌,直至搅拌均匀,保温3~4小时;

步骤五、将保温后的混合物中降至室温,在其中添加12~20份的稀土硅铝合金,所述的稀土硅铝合金与混合物搅拌均匀后再设置熔炼温度为1300℃~1350℃,直至全部融化,融化后浇筑成锭,之后经过破碎处理即得加硅脱氧孕育剂颗粒。

进一步,所述的稀土硅铝合金、纯铝、硅酸锆之间的质量份比为2:1:1。

进一步,所述的纳米碳化硅的规格微米级的碳化硅

进一步,所述的加硅脱氧孕育剂的粒度规格为3~8mm。

进一步,所述的纯铝经过700~750℃的高温溶解。

进一步,所述的搅拌装置底部开口,并连接挤压装置,所述的搅拌装置、接挤压装置之间通过传送带连接。

本发明与现有技术的有益效果在于:

本发明中的加硅脱氧孕育剂在铸铁工艺中能够作为脱氧剂使用,所述的硅铁以及纯铝的加入形成铁硅铝的合金,能够缓解铸铁工艺中的形成碳化物、能够促进石墨的析出和球化;硅酸锆的结构为四方晶系,硅酸锆、纯铝、硅铁的加入,可以作为合金基体形核的基底,促进异质形核,使得合金能够达到良好的晶粒细化效果。

此外,本发明的搅拌装置底部开口,并连接挤压装置,在搅拌装置、接挤压装置之间通过传送带连接,设置的传送带能够直接将搅拌均匀的物质传送至加压装置中,实现了一体化作业,解决了传统的作业中原材料转送复杂的问题,是本邻域中技术的一大进步。

附图说明

图1为本发明实施例中步骤一中采用的混合装置的结构图;

其中,1-弹性板,2-搅拌装置,3-挤压装置,4-传送带。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案及效果更加清楚,明确,以下列举实例对本发明进一步详细说明。应当指出此处所描述的具体实施仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。

实施例1

本实施例总所述的孕育剂,按照质量份计包括硅铁35份、纳米碳化硅18份、硅钙8份、纯铝7份、硅酸锆7份、稀土硅铝合金14份(所述的稀土硅铝合金、纯铝、硅酸锆之间的质量份比为2:1:1)。其具体的制备方法为:

步骤一、称取质量份为35份的硅铁以及7份的纯铝混合,其在混合后储存于混合容器中;所述的7份的纯铝首先经过700~750℃的高温溶解溶解,溶解后将溶解液倒入硅铁中,所述的硅铁置于悬空的弹性板1中,如图1所示,当硅铁溶解到纯铝液体时便落入混合容器的下方;

步骤二、所述的混合容器的下方放置纳米碳化硅,步骤一种的硅铁被纯铝液体包裹,将该包裹物与纳米碳化硅再混合,混合容器的底部设置搅拌装置2;

步骤三、搅拌均匀后,将搅拌均匀的混合物质中添加8份的硅钙、7份的硅酸锆,同时进行挤压工艺,挤压至各物质之间无空隙;

步骤四、将挤压后的物质放入中频感应电炉进行熔炼,设置熔炼温度为1500℃~1550℃,熔炼过程中不断再搅拌,待原料全部融化后,继续搅拌,直至搅拌均匀,保温3~4小时;

步骤五、将保温后的混合物中降至室温,在其中添加14份的稀土硅铝合金,所述的稀土硅铝合金与混合物搅拌均匀后再设置熔炼温度为1300℃~1350℃,直至全部融化,融化后浇筑成锭,之后经过破碎处理即得加硅脱氧孕育剂颗粒,破碎处理后的粒度规格为3~8mm。

对比实施例1

本实施例总所述的孕育剂,按照质量份计包括硅铁35份、纳米碳化硅18份、硅钙8份、纯铝7份、硅酸锆7份。其具体的制备方法为:

步骤一、称取质量份为35份的硅铁以及7份的纯铝混合,其在混合后储存于混合容器中;所述的7份的纯铝首先经过700~750℃的高温溶解溶解,溶解后将溶解液倒入硅铁中,所述的硅铁置于悬空的弹性板1中,当硅铁溶解到纯铝液体时便落入混合容器的下方;

步骤二、所述的混合容器的下方放置纳米碳化硅,步骤一种的硅铁被纯铝液体包裹,将该包裹物与纳米碳化硅再混合,混合容器的底部设置搅拌装置2;

步骤三、搅拌均匀后,将搅拌均匀的混合物质中添加8份的硅钙、7份的硅酸锆,同时进行挤压工艺,挤压至各物质之间无空隙;

步骤四、将挤压后的物质放入中频感应电炉进行熔炼,设置熔炼温度为1500℃~1550℃,熔炼过程中不断再搅拌,待原料全部融化后,继续搅拌,直至搅拌均匀,保温3~4小时;

步骤五、将保温后的混合物中降至室温,再设置熔炼温度为1300℃~1350℃,直至全部融化,融化后浇筑成锭,之后经过破碎处理即得加硅脱氧孕育剂颗粒,破碎处理后的粒度规格为3~8mm。

本对比实施例与实施例1的区别在于,本实施例中不天机稀土硅铝合金14份,将本实施例1以及对比实施例1中的孕育剂加入到铝合金,实施例1中孕育剂与铝基体间有良好的晶格匹配关系,实施例1达到细化铝合金晶粒的效果,但是对比实例1不能达到该效果。

实施例2

本实施例总所述的孕育剂,按照质量份计包括硅铁30份、纳米碳化硅10份、硅钙7份、纯铝6份、硅酸锆6份、稀土硅铝合金12份(所述的稀土硅铝合金、纯铝、硅酸锆之间的质量份比为2:1:1)。其具体的制备方法为:

步骤一、称取质量份为30份的硅铁以及6份的纯铝混合,其在混合后储存于混合容器中;所述的6份的纯铝首先经过700~750℃的高温溶解溶解,溶解后将溶解液倒入硅铁中,所述的硅铁置于悬空的弹性板1中,当硅铁溶解到纯铝液体时便落入混合容器的下方;

步骤二、所述的混合容器的下方放置纳米碳化硅,步骤一种的硅铁被纯铝液体包裹,将该包裹物与纳米碳化硅再混合,混合容器的底部设置搅拌装置2;

步骤三、搅拌均匀后,将搅拌均匀的混合物质中添加7份的硅钙、6份的硅酸锆,同时进行挤压工艺,挤压至各物质之间无空隙;

步骤四、将挤压后的物质放入中频感应电炉进行熔炼,设置熔炼温度为1500℃~1550℃,熔炼过程中不断再搅拌,待原料全部融化后,继续搅拌,直至搅拌均匀,保温3~4小时;

步骤五、将保温后的混合物中降至室温,在其中添加12份的稀土硅铝合金,所述的稀土硅铝合金与混合物搅拌均匀后再设置熔炼温度为1300℃~1350℃,直至全部融化,融化后浇筑成锭,之后经过破碎处理即得加硅脱氧孕育剂颗粒,破碎处理后的粒度规格为3~8mm。

实施例3

本实施例总所述的孕育剂,按照质量份计包括硅铁50份、纳米碳化硅20份、硅钙12份、纯铝10份、硅酸锆10份、稀土硅铝合金20份(所述的稀土硅铝合金、纯铝、硅酸锆之间的质量份比为2:1:1)。其具体的制备方法为:

步骤一、称取质量份为50份的硅铁以及10份的纯铝混合,其在混合后储存于混合容器中;所述的10份的纯铝首先经过700~750℃的高温溶解溶解,溶解后将溶解液倒入硅铁中,所述的硅铁置于悬空的弹性板1中,当硅铁溶解到纯铝液体时便落入混合容器的下方;

步骤二、所述的混合容器的下方放置纳米碳化硅,步骤一种的硅铁被纯铝液体包裹,将该包裹物与纳米碳化硅再混合,混合容器的底部设置搅拌装置2;

步骤三、搅拌均匀后,将搅拌均匀的混合物质中添加12份的硅钙、10份的硅酸锆,同时进行挤压工艺,挤压至各物质之间无空隙;

步骤四、将挤压后的物质放入中频感应电炉进行熔炼,设置熔炼温度为1500℃~1550℃,熔炼过程中不断再搅拌,待原料全部融化后,继续搅拌,直至搅拌均匀,保温3~4小时;

步骤五、将保温后的混合物中降至室温,在其中添加20份的稀土硅铝合金,所述的稀土硅铝合金与混合物搅拌均匀后再设置熔炼温度为1300℃~1350℃,直至全部融化,融化后浇筑成锭,之后经过破碎处理即得加硅脱氧孕育剂颗粒,破碎处理后的粒度规格为3~8mm。

以上所述仅是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进,这些改进也应视为本发明的保护范围。

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