专利名称：纳米碳制造装置、制造方法和用于收集纳米碳的方法
技术领域：
本发明涉及纳米碳制造装置，以及用于制造和回收纳米碳的方法。
背景技术：
近年来，纳米碳的技术应用已经在比较活跃地进行之中。纳米碳指的是具有纳米级微观结构的碳物质，以碳纳米管、碳纳米角(carbonnanohorn)等为典型。在它们之中，碳纳米角具有管状结构，其中圆柱形圆形成的石墨层的碳纳米管的一边具有锥形形状，并且由于其独特的特征可以预期能够应用到不同的技术领域。通常，碳纳米角形成碳纳米角组件，以用其中锥形部分在围绕管为中心的表面上通过作用在锥形部分之间的范得瓦尔斯力以角状凸起的形式收集。
报导称碳纳米角组件通过激光蒸发方法制造，其中激光束在惰性气体氛围下照射到作为原材料的碳材料上(下面适当地称为石墨靶)。(专利文件1)根据此方法，通过激光蒸发所获得的烟灰材料必须通过使用将烟灰状材料适当地沉积到衬底等上的方法来回收。
日本专利公开出版物No.2001-64004。
发明内容
但是，由于发明人的对此方法的研究的结果，很明显难于收集所产生的烟灰状材料。特别地，碳纳米角(Carbon Nanohorn)组件由于较低的密度很容易漂浮在空气中，以及漂浮在室中，对于碳纳米角组件难于沉积到室的底部。
本发明考虑到上述情况而来实现，并且本发明的目的是提供一种有效回收纳米碳的技术。
根据本发明，提供了一种纳米碳制造装置，包括产生纳米碳的产生室，以及回收所产生的纳米碳的回收室，其中润湿所产生的纳米碳的润湿单元设置在产生室或者回收室中。
根据本发明的制造装置，由于润湿单元设置在产生室或者回收室中，在产生室中所产生的纳米碳一定可以润湿。因此，纳米碳被限制在回收室中漂浮，以及可以沉积到底部上。因此，所沉积的纳米碳可以确定地回收。
在本发明中，在产生室中，纳米碳通过诸如激光烧蚀方法、弧光放电方法、CVD方法等的方法所产生。
根据本发明，提供了一种纳米碳制造装置，包括光源，所述光源将光照射到石墨靶的表面上，回收单元，所述回收单元回收在光的照射中所产生的纳米碳，以及润湿单元，所述润湿单元润湿纳米碳。
根据本发明的纳米碳制造装置，由于提供了润湿纳米碳的润湿单元，所产生的纳米碳被润湿，并可以被沉淀。因此，纳米碳可以被限制漂浮，并可以有效地回收。
在本发明的制造装置的纳米碳中，润湿单元可以是喷雾(spraying)单元。根据这种方式，所产生的纳米碳必然可以通过雾所润湿。因此纳米碳可以很容易回收。在本发明中，例如，喷雾单元可以是乙醇雾化装置。
在本发明的纳米碳制造装置中，回收单元具有回收室，以及回收管，所述回收管将纳米碳引导到回收室中，以及润湿单元可以在回收室中润湿纳米碳。
根据这种方式，所产生的纳米碳可以有效地引导到回收室中。此外，在所述回收室中所回收的纳米碳必然可以被润湿。因此，纳米碳可以沉积在回收室中，并必然可以被回收。
在本发明的纳米碳制造装置中，回收室的底部表面可以相对所述装置被安装的表面倾斜。根据这种方式，润湿的纳米碳可以更为容易地回收。此外，回收室可以被形成结构以可连接和可拆卸。据此，由于回收室可以这种方式拆卸，纳米碳可以很容易回收。
在本发明的纳米碳制造装置中，提供了其中石墨靶被安装在其中的产生室，润湿单元可以在产生室中润湿纳米碳。根据这种方式，所产生的纳米碳必然可以被润湿。因此，纳米碳在产生室中被限制漂浮，并可以很容易回收。此外，由于纳米碳没有在产生室中浮动，照射到石墨靶上的光的功率密度的模糊(blurring)可以被抑制。因此，具有所需属性的纳米碳可以稳定地制造。
在本发明的制造装置中，所产生的纳米碳被回收的回收设备可以设置在产生室的底部上。当这样做时，在产生室中润湿的纳米碳可以沉积在回收设备上。因此，纳米碳可以有效地回收。回收设备可以具有润湿单元。
根据本发明，提供了一种纳米碳制造装置，包括产生纳米碳的产生室；以及回收所产生的纳米碳的回收室；其中润湿所产生的纳米碳的润湿单元设置在所述产生室或者所述回收室中。
根据本发明，提供了一种制造纳米碳的方法，包括将光照射到石墨靶的表面上的步骤；以及润湿在所述照射光上所产生的纳米碳的步骤。
根据本发明的纳米碳制造方法，由于包括润湿所产生的纳米碳的步骤，纳米碳可以被限制浮动。因此，纳米碳可以有效地回收。此外，纳米碳必然可以被回收。
在本发明的纳米碳制造方法中，润湿纳米碳的步骤可以包括将液体喷洒到纳米碳上的步骤。根据这种方式，纳米碳必然可以被润湿。因此，纳米碳必然可以被回收。
在本发明的纳米碳制造方法中，润湿纳米碳的步骤可以包括将有机溶剂喷洒到纳米碳上的步骤。由于纳米碳的表面是憎水的，纳米碳可以通过喷洒有机溶剂而更为确定地润湿。
在本发明的纳米碳制造方法中，润滑纳米碳的步骤可以将乙醇或者水溶液喷洒到所述纳米碳上。由于乙醇挥发性好，由于乙醇或者水溶液被喷洒，就可以容易将喷洒液体从所回收的纳米碳中移除。在本发明的纳米碳制造方法中，例如，乙醇、甲醇、异丙醇或者水溶液可以被喷洒。
根据本发明，提供了一种回收纳米碳的方法，包括，在产生纳米碳之后，润湿和回收所述纳米碳。根据与本发明相关的回收方法，由于所产生的纳米碳被润湿，纳米碳可以被限制浮动，以及纳米碳可以很容易回收。
如上所述，根据本发明，纳米碳可以被有效地回收。
本发明的这些和/或者其它方面和特征将从实施例的下述说明并结合附图而详细了解到，其中图1是根据本实施例的制造碳纳米角的结构的视图；图2是图1的纳米碳制造装置的A-A’方向的横截面视图；图3是根据一个实施例的碳纳米角制造装置的结构的视图；图4是图3的纳米碳制造装置的方向B-B’中的横截面视图；图5是图4的喷雾器的喷嘴的结构的视图；图6是根据一个实施例的碳纳米角制造装置的结构的视图；图7是根据一个实施例的碳纳米角制造装置的结构的视图；图8是根据一个实施例的碳纳米角制造装置的结构的视图；图9是根据一个实施例的碳纳米角制造装置的结构的视图。
具体实施例方式
此后，其中碳纳米角组件通过激光烧蚀方法所制造、以及被回收的情况将作为示例进行说明。注意，在所有的视图中，相同的部件将用相同的参考数字来表示，以及将不再进行适当的说明。
(第一实施例)在本实施例中，用于回收纳米碳的室被设置在纳米碳制造装置中，以及用于润湿纳米碳的喷雾装置被设置在室上用于回收。图1是本实施例的纳米碳制造装置183的结构的视图。注意在此说明书中，用于描述制造装置的图1和其它视图是示意图，并且各结构部件的尺寸不必然对应实际的尺寸比率。
图1的纳米碳制造装置183具有制造室107、纳米碳回收室119、承载器管141、激光源111、ZnSe平凸透镜131、ZnSe窗口133、旋转装置115以及喷雾器181。此外，纳米碳制造装置183具有惰性气体供给单元127、流量计129、真空泵143和压力计145。
从激光源111发出的激光束103在ZnSe平凸透镜131上聚焦，并通过ZnSe窗口133照射到制造室107中的石墨棒101上。石墨棒101被用作固态碳简单衬底，这是激光束103的照射靶。
激光束103被照射到石墨棒101上以具有恒定的照明角度。由于石墨棒101相对中心轴在预定的速度上旋转，同时保持激光束103的照明角度恒定，激光束103可以在石墨棒101的侧表面的周向方向上以恒定的功率密度连续照射。此外，由于石墨棒101在长度方向上滑动，激光束103可以在石墨棒101的长度的方向上以恒定的功率密度连续照射。
旋转装置115保持石墨棒101，并围绕中心轴旋转石墨棒101。石墨棒101可以围绕中心轴通过旋转装置115固定而旋转。此外，石墨棒101可以被构造以能够沿着中心轴线的方向上移动所述位置。
制造室107和纳米碳回收室119通过承载器管141连接。激光束103从激光源111照射到石墨棒101的侧表面上，并且在那时，在羽状物109的产生的方向上，纳米碳回收室119通过承载器管141设置，以及已经被产生的碳纳米角组件117被回收到纳米碳回收室119中。
喷雾器181设置在纳米碳回收室119上，并被构造以能够将液体喷洒到纳米碳回收室119之内和壁表面上。这样，在纳米碳回收室119回收的碳纳米角组件117可以被润湿。因此，在纳米碳回收室119回收的碳纳米角组件117可以有效地沉积在纳米碳回收室119的底部上，并可以被回收。
此处，喷雾器181可以是具有雾化单元的雾化装置。此外，喷雾器181可以被构造这样喷洒液体被排放以是来自溶剂箱的喷水器(shower)。此外，喷雾器181可以是利用洒水器等的结构的喷雾装置。在本实施例中，其中喷雾器181是喷雾单元的情况将在此后作为示例进行说明。
图2是示意显示了具有喷雾单元的喷雾器181的视图。注意图2是图1的A-A’方向的横截面视图。
图2的喷雾器181具有雾化单元199，以及喷洒液体193容纳在雾化单元199之上。纳米碳回收室119和喷雾器181通过设置在纳米碳回收室119的壁表面的一部分上的通孔197而彼此连接。喷洒液体193作为来自通孔197的雾195喷洒到纳米碳回收室119中。
雾化单元199产生高频振动，诸如超声振动。此振动通过喷雾器181对喷洒液体193进行。喷洒液体193通过此振动雾化以产生雾195。雾195通过通孔197以进入纳米碳回收室119。
作为雾化单元199，可以引用诸如Akizuki Denshi有限公司所制造的USH-400、TECH-JAM有限公司等的超声振动雾化单元。这样的雾化单元可以高灵敏地雾化喷洒液体193。此外，具有压电振动器的超声振动雾化单元，诸如FDK公司所制造的雾化盘可以被使用。由于这样的雾化单元是低功率消耗类型，就可以有效地产生雾195。
在纳米碳制造装置183中，喷雾器181设置在纳米碳回收室119的侧表面上。但是，喷雾器181可以设置在纳米碳回收室119的顶部表面或者底部表面上。例如，图3是与图1的纳米碳制造装置183的基本结构相同的结构。但是，图3是显示了在纳米碳回收室119的顶部表面上具有喷雾器181的纳米碳制造装置184。
此外，多个喷雾器181可以分别设置在纳米碳回收室119的不同的表面上。这样，由于纳米碳回收室119的各壁表面可以更为确定地润湿，碳纳米角组件117可以确定地回收。
接着，回到图1，使用纳米碳制造装置183的制造碳纳米角组件117的方法将具体地描述。
在纳米碳制造装置183中，高纯度石墨、例如圆棒烧结碳、压缩模制碳等的高纯度石墨可以被用作石墨棒101。
此外，例如，诸如高输出功率CO2气体激光束的激光束被用作激光束103。激光束103在包括稀有气体诸如Ar、He的反应惰性气体的氛围下，诸如在大于或者等于103Pa至小于或者等于105Pa的压力的氛围之下被照射到石墨棒101。此外，优选地在制造室107的内部通过在小于或者等于10-2Pa的压力上预先排空之后形成惰性气体氛围。
此外，优选地，调节激光束103的输出功率、点直径和照射角度，这样在石墨棒101的侧表面上的激光束103的功率密度几乎保持恒定，例如大于或者等于5kw/cm2至小于或者等于25kw/cm2。
激光束103的输出功率被设置为诸如大于或者等于1kW至小于或者等于50kW。此外，激光束103的脉冲宽度被设置大于或者等于0.5sec，优选地大于或者等于0.75sec。这使得照射到石墨棒101的表面上的激光束103的聚集能量被充分保证。因此，碳纳米角组件117可以被有效地制造。此外，激光束103的脉冲宽度被设置例如，小于或者等于1.5sec，优选地小于或者等于1.25sec。根据这种方式，由于石墨棒101的表面被过分加热，使得表面的能量密度变化，碳纳米角组件的产量可以被抑制降低。更为优选地，激光束103的脉冲持续时间大于或者等于0.75sec以及小于或者等于1秒。根据其，碳纳米角组件117的生产速率和产量可以被改良。
此外，在激光束103的照射上的暂停持续时间可以被设置大于或者等于0.1sec，优选地大于或者等于0.25sec。据此，这更为安全地抑制石墨棒101的表面被过分加热。
激光束103被照射以具有恒定的照射角度。由于石墨棒101相对中心轴以预定的速度旋转同时保持激光束103的照明角度恒定，激光束103可以在石墨棒101的侧表面的周向方向上在恒定的功率密度上连续照射。此外，由于石墨棒101在长度方向上滑动，激光束103可以在石墨棒101的长度方向上在恒定的功率密度上连续照射。
优选地，在那时的照射角度大于或者等于30度并小于或者等于60度。注意，在此说明书中，照射角度指的是相对在激光束103被照射到其上的位置上的石墨靶的表面的垂直线和激光束103之间所形成的角度。当使用圆柱形石墨靶时，照明角度被形成为形成在连接被照射位置和圆心的线段以及垂直于石墨棒101的长度方向的横截面中的垂直表面之间所形成的角度。
由于照射角度被形成大于或者等于30度，将被照射的激光束103的反射，即，返回光的产生可以被防止。此外，将被产生的羽状物109被防止直接通过ZnSe窗口133撞击ZnSe平凹透镜131。因此，ZnSe平凹透镜131受到保护，这对于防止碳纳米角组件117粘附到ZnSe窗口133是有效的。此外，由于在小于或者等于60度的角度上照射的激光束103，限制了无定形碳的2产生，以及产品之中的碳纳米角组件117的比率，即，碳纳米角组件117的产量可以被提高。此外，特别优选地，照射角度是45度±5度。由于激光束103在大约45度角度上照射，产品中的碳纳米角组件117的比率可以进一步提高。
此外，在照射时，至石墨棒101的侧表面上的激光束103的点直径可以诸如大于或者等于0.5mm并且小于或者等于5mm。
此外，优选地，设置激光束103的点在大于或者等于0.01mm/sec的速率(线性速度)至小于或者等于55mm/sec的速率上移动。例如，在激光束103被照射到具有100mm的直径的石墨靶的表面，具有100mm直径的石墨棒101以恒定的速度通过旋转装置115在恒定速度上旋转，如果旋转数目是诸如大于或者等于0.01rpm和小于或者等于10rpm，上述的线性速度(周向速度)可以被实现。
注意，对于石墨棒101的旋转方向没有特别限制。但是，优选地，石墨棒101在其中被照射位置从激光束103离开的方向上，即从激光束103朝向承载器管141的方向上(如图1中箭头所示)将被旋转。据此，碳纳米角组件117可以更为确定地回收。
回收到纳米碳回收室119中的烟灰状物质主要包括碳纳米角组件117，并回收作为诸如其中包括大于或者等于90wt％的碳纳米角组件117的材料。
注意，由于羽状物109在激光束103被照射到其上的位置垂直于石墨棒101的切线的方向上产生，假设承载器管141设置在此方向上，碳蒸汽可以有效地引导到纳米碳回收室119中，以及碳纳米角组件117可以被回收。
在制造碳纳米角组件117时，雾195预先从设置在纳米碳回收室119上的喷雾器181喷洒。据此，在纳米碳回收室119中回收的碳纳米角组件117通过被喷洒的液体润湿。因此，碳纳米角组件117被限制在纳米碳回收室119中喷洒，以及碳纳米角组件117可以有效地沉积在纳米碳回收室119的底部上。此外，碳纳米角组件117可以被限制粘附到纳米碳回收室119的壁表面上。因此，碳纳米角组件117的回收速率可以提高。
优选地，雾195将从喷雾器181喷洒以到达并润湿纳米碳回收室119的所有壁表面。这样，碳纳米角组件117可以更为确定地沉积在纳米碳回收室119的底部上。
优选地，雾195是从喷雾器181喷洒的相对憎水有机溶剂。由于碳纳米角组件117的表面相对憎水，由于此原因碳纳米角组件117可以确定地被润湿。此外，优选地使用挥发性溶剂作为雾195。据此，碳纳米角组件117可以在回收这些之后很容易干燥。
相应地，例如，诸如乙醇、甲醇、异丙醇等的酒精、诸如苯、甲苯等的芳烃、卤代烃、乙醚、酰胺等可以被喷洒。这些溶剂可以单独被喷洒，并可以被使用这样两种或者更多类型被混合。此外，对这些溶剂和水形成混合溶剂。
从喷雾器181喷洒液体可以在预定的间距上间断执行，并可以连续地执行。液体的喷洒量和喷洒速度可以根据纳米碳回收室119等的尺寸适当设置。
在本实施例中，例如，在如图1的纳米碳制造装置183中，在执行碳纳米角组件的制造时，假设石墨棒101是Φ100mm×250mm的棒形烧结碳，并且在激光在250ms静止时间(pause)上激光振荡1s的条件下，由于CO2激光照射到石墨棒101的侧表面上，由于净化的烟灰状材料可以通过从喷雾器181喷洒乙醇而沉积在纳米碳回收室119的底部上，净化的碳纳米角组件的回收速率可以提高。
(第二实施例)在第一实施例所描述的纳米碳制造装置183或者纳米碳制造装置184中，喷雾器181的结构可以如下所述。此处，图3的纳米碳制造装置184的情况将作为示例说明。
图4是图3的B-B’方向上的纳米碳制造装置184的横截面视图，以及是用于说明喷雾器183的结构的说明视图。在图4中，喷雾器181具有箱201、供给管203和喷嘴205。喷洒液体193容纳在箱201中。此外，供给管203连接箱201和喷嘴205。用于调整来自箱201的喷洒液体193的供给的阀209被设置在供给管203上。喷嘴205被形成为具有多个孔207的喷壶形状。图5是显示了喷嘴205的结构的透视图。
在制造碳纳米角组件117时，阀209打开，以及喷洒液体193从喷嘴205喷洒到纳米碳回收室119中。由于在雾195通过孔207时喷洒液体193被喷洒为浴(shower)，整个纳米碳回收室119可以适当地润湿。因此，碳纳米角组件117可以确定地沉淀，并沉积在纳米碳回收室119的底部上。
注意喷嘴205的结构不限于上述方面，并可以根据纳米碳回收室119的尺寸和所产生的纳米碳量适当选择。例如，可以使用压力类型喷嘴。此外，喷洒液体193的供给可以通过使用泵等执行。据此，喷洒液体193可以更为确定地喷洒到纳米碳回收室119的整个内部上。
(第三实施例)在本实施例中，回收室的底部的结构与如第一或者第二实施例所描述的纳米碳制造装置不同。此后，如在第一实施例所描述的纳米碳制造装置184将作为示例进行说明。图6是显示了与本实施例相关的纳米碳制造装置185的视图。
在纳米碳制造装置185中，纳米碳回收室187的底部表面是倾斜的。由此，通过来自喷雾器181喷洒的液体润湿的碳纳米角组件117在纳米碳回收室187的底部上在下方向上移动。因此，碳纳米角组件117可以在纳米碳回收室187的底部上的下区域上收集。因此，碳纳米角组件117可以更为容易地回收。
(第四实施例)本实施例涉及一种纳米碳制造装置，还包括用于回收的盒，所述盒相对在第一或者第二实施例中所描述的纳米碳制造装置183可连接和可拆卸。此后，在第一实施例中所描述的纳米碳制造装置184的情况将作为示例进行说明。图7是显示了与本实施例相关的纳米碳制造装置189的视图。
在纳米碳制造装置189中，提供了与纳米碳回收室119的底部连通、并可连接和可卸载、用于回收的盒191。由于用于回收的盒191的底部被安置在低于纳米碳制造装置189的底部的位置上，沉积在纳米碳回收室119的底部上的碳纳米角组件117被引导到用于回收的盒191。假设用于回收的盒191被拆卸并且其内容被干燥，被干燥的碳纳米角组件117可以更方便回收。
(第五实施例)与本实施例相关的一种纳米碳制造装置显示在图8中。在此装置中，下回收室160被设置在制造室107的下部部分上。此外，用于将液体喷洒到制造室107的喷雾器181被进一步提供。喷雾器181可以被形成结构，诸如以第一或者第二实施例所描述的结构形成。
由于所设置的下回收室160，碳纳米角组件117在上部部分上被回收到纳米碳回收室119中，另一方面，没有回收到所述装置的上部部分中的碳蒸汽由于重力从承载器管141落下，并回收到下回收室160中。根据此结构，角长度较短的碳纳米角以及角长度较长的碳纳米角被分别地收集到纳米碳回收室119、下回收室160中。根据本实施例，多个类型的碳纳米角可以单独回收。
此外，也通过将液体喷洒到制造室107中，没有通过纳米碳回收室119所回收并暴露在制造室107中的碳纳米角组件117被确定地润湿，并且可以引导到制造室107的底部。因此，碳纳米角组件117可以有效地回收到下回收室160中。
注意，在本实施例中，喷雾器181被设置在制造室107中。但是，喷雾器181可以设置在下回收室160上。据此，碳纳米角组件117可以更为确定地沉积在下回收室160的底部上，以及碳纳米角组件117可以被限制喷洒。
(第六实施例)在如上所示的实施例的纳米碳制造装置中，用于积蓄并回收沉积在纳米碳回收室119的底部上的碳纳米角组件117的刮擦单元211可以被设置。此后，其中本实施例被应用到在第四实施例中所描述的纳米碳制造装置189的情况下将作为示例说明。图9是显示了与本实施例相关的纳米碳制造装置213的结构的视图。
纳米碳制造装置213在纳米碳回收室119的底部上具有板状刮擦单元211。对于刮擦单元211的结构没有限制，除了这一点碳纳米角组件117必须通过将纳米碳回收室119的底部表面如同桨叶那样滑动而被引导到用于回收的盒191。
由于所设置的刮擦单元211，沉积在纳米碳回收室119的底部上的碳纳米角组件117可以更为确定地回收。注意刮擦单元211可以设置在制造室107的底部上。此外，在这些室中上下滑动的刮擦单元211可以进一步根据需要设置。据此，润湿的碳纳米角组件117可以更为确定地收集在室的底部上。
本发明基于实施例在上面进行了说明。这些实施例已经被典型化，并且普通技术人员可以理解在不背离本发明的精神的情况下可以对本发明进行修改，其范围落入本发明的范围之内。
例如，在上述的实施例中，用于积聚所沉积的碳纳米角组件117的刮擦单元可以进一步设置在制造室107的底部上。
此外，在上述的实施例中，其中石墨棒被使用的示例被进行了说明。但是，石墨靶的形状不限于管型，并可以以片形式、棒形式等来形成。
此外，形成碳纳米角组件117的结构的碳纳米角的形状、直径尺寸、产度和尖端形状，以及这些碳分子以及碳纳米角之中的空间等可以根据用于照射激光束103等的条件不同地控制。
权利要求
1.一种纳米碳制造装置，包括产生纳米碳的产生室；以及回收所产生的纳米碳的回收室；其中润湿所产生的纳米碳的润湿单元设置在所述产生室或者所述回收室中。
2.一种纳米碳制造装置，包括光源，所述光源将光照射到石墨靶的表面上；回收单元，所述回收单元回收在所述光的照射中所产生的纳米碳；以及润湿单元，所述润湿单元润湿所述纳米碳。
3.根据权利要求2所述的纳米碳制造装置，其中，所述回收单元具有回收室，以及回收管，所述回收管将所述纳米碳引导到所述回收室中，以及所述润湿单元在所述回收室中润湿所述纳米碳。
4.根据权利要求2或者3所述的纳米碳制造装置，其中，还包括其中所述石墨靶被安装的产生室，其中所述润湿单元润湿所述产生室中的所述纳米碳。
5.根据权利要求1-4所述的纳米碳制造装置，其中，所述润湿单元是喷雾单元。
6.一种制造纳米碳的方法，包括将光照射到石墨靶的表面上；以及润湿在所述照射光上所产生的纳米碳。
7.根据权利要求6所述的制造纳米碳的方法，其中，所述润湿纳米碳包括将液体喷洒到所述纳米碳上。
8.根据权利要求6或者7所述的制造纳米碳的方法，其中，其中所述润湿纳米碳将乙醇或者水溶液喷洒到所述纳米碳上。
9.一种回收纳米碳的方法，包括，在产生纳米碳之后，润湿和回收所述纳米碳。
全文摘要
一种用于制造纳米碳(183)的装置，包括喷雾器(181)，安置在纳米碳收集室(119)的侧表面上。雾(195)从喷雾器(181)喷射到纳米碳收集室(119)中并遍及纳米碳收集室(119)。
文档编号C01B31/02GK1826287SQ200480021200
公开日2006年8月30日 申请日期2004年8月5日 优先权日2003年8月8日
发明者莇丈史, 糟屋大介, 吉武务, 久保佳实, 饭岛澄男, 汤田坂雅子 申请人:日本电气株式会社