1.离线欧洲灰低辐射镀膜玻璃，其特征在于，该玻璃膜层结构依次为：玻璃基片、第一层打底层氮化硅层、第二层保护层镍铬层、第三层介质层氧化锌锡层、第四层种子层氧化锌层、第五层功能层铜层、第六层保护层镍铬层、第七层介质层氮化硅层、第八层介质层氧化锌锡层、第九层种子层氧化锌层、第十层功能层银层、第十一层保护层镍铬层、第十二层介质保护层氮化硅层。
2.根据权利要求1所述低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述低辐射镀膜玻璃采用离线磁控溅射或原子沉积技术镀膜制成。
3.根据权利要求1所述低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一层打底层氮化硅层的厚度在25nm到35nm之间，第七层介质层氮化硅层厚度在20nm到30nm之间，第十二层介质保护层氮化硅层厚度在30nm到48nm之间。
4.根据权利要求1所述低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第二层保护层镍铬层的厚度在7.5nm到8.5nm之间，第六层保护层镍铬层厚度在2.5nm到4nm之间，第十一层保护层镍铬层厚度在1.5nm到3.5nm之间。
5.根据权利要求1所述低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第三层介质层氧化锌锡层的厚度在25nm到35nm之间，第八层介质层氧化锌锡层的厚度在15nm到34nm之间。
6.根据权利要求1所述低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第四层种子层氧化锌层的厚度在4nm到10nm之间，第九层种子层氧化锌层的厚度在4nm到10nm之间。
7.根据权利要求1所述低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第五层功能层铜层的厚度范围在4.9nm到6.1nm之间。
8.根据权利要求1所述低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第十层功能层银层的厚度范围在8nm到13nm之间。