本实用新型涉及一种阳光控制镀膜玻璃，尤其是涉及一种低反射低辐射阳光控制镀膜玻璃。
背景技术：
阳光控制膜玻璃又称热反射玻璃，是在玻璃表面镀上金属、非金属及其氧化物薄膜使其具有一定的反射能力，其主要功能是反射室外的太阳辐射能，使其尽可能少地进入室内，从而降低室内的温度，节省空调费用的开支。但普通的阳光控制膜玻璃可见光透过率较低，可见光反射比较高，具有较高的镜面反射，常常会产生眩光效果及光污染“光污染”，使其应用范围受到极大限制。因此需降低阳光控制膜玻璃的镜面反射。
例如，授权公告号CN201284290Y，授权公告日2009年8月5日的中国专利公开了一种可钢化阳光控制镀膜玻璃，包括玻璃基片，它的技术要点在于，在玻璃基片上向外依次复合有氮化硅膜层、氧化钛膜层、氮氧复合铬膜层、氮化硅膜层。该阳光控制镀膜玻璃存在以下缺陷：反射率高，可见光透过率低。
技术实现要素：
本实用新型是为了解决现有技术的阳光控制膜玻璃所存在的上述问题，提供了一种结构简单，辐射低，可见光透过率高，能有效降低镜面反射，减少光污染的低反射低辐射阳光控制镀膜玻璃。
为了实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：
本实用新型的一种低反射低辐射阳光控制镀膜玻璃，包括玻璃基板，所述玻璃基板表面从内到外通过磁控溅射依次镀有第一介质层、第一阻挡层、第一过渡层、金属层、第二过渡层、第二阻挡层、第二介质层及减反层，所述第一介质层为TiO2层，所述第一阻挡层、第二阻挡层均为NiCrOx层，所述第一过渡层、第二过渡层均为Ti层，所述金属层为Ag层，所述第二介质层为Si3N4层，所述减反层为SiO2层，所述减反层表面设为毛面，减反层表面的晶体颗粒粒径为1.3~1.4nm。本实用新型结构新颖，采用多层复合膜系结构，Ag层起到功能层作用，但Ag膜质地软，易划伤，且与玻璃基板结合力差，另外在空气中易受氧气的腐蚀而影响其反射红外光谱的功能，因此在Ag膜两侧设置第一介质层和第二介质层以起保护作用，第一介质层选择TiO2层，其具有高折射率且性能稳定，对可见光吸收比较小，而且还可以大量吸收、散射或反射对人及物体有害的紫外线，有利于降低辐射；第二介质层则采用Si3N4，质地坚硬、硬度高、抗划伤能力强且对可见光几乎是零吸收，有利于提高透光率；为防止高温时氧等物质对Ag膜造成腐蚀，确保银层发挥其作用，提高其在可见光范围内的透过率及红外范围内的抗辐射率，在金属层（Ag层）与介质层之间加入阻挡层，第一阻挡层、第二阻挡层均为NiCrOx层，阻挡层NiCrOx为两种金属氧化物组成的二元混合薄膜，抗化学及机械性能好，同时具有很好的低辐射效果；而为了降低金属层的面电阻及促进银粒子连续起来，在阻挡层与金属层之间加入了过渡层Ti层，并同时提高Ag层的界面结合力；减反层为SiO2层，其表面粗糙，本实用新型中通过控制其表面的晶体颗粒粒径以增强膜层中微晶粒的散射，从而降低薄膜的镜面反射，减少光污染。
作为优选，所述第一介质层厚度为50~55nm。
作为优选，所述第一阻挡层、第二阻挡层厚度为2~3nm。
作为优选，所述第一过渡层、第二过渡层厚度为3~5nm。过渡层Ti 可以促使Ag 膜在沉积时尽快的连续起来，避免银颗粒岛状生长，保证银功能的正常发挥，同时为了防止Ag膜在高温时被氧化或被侵蚀，Ti 膜的厚度不能过薄，但Ti 膜也不能很厚，否则影响透光效果。因此本实用新型中限定第一过渡层、第二过渡层厚度为3~5nm，这样既可以保护银膜又不至于影响低辐射膜在可见光范围的透过率。
作为优选，所述金属层厚度为10~15nm。当金属层（Ag层）厚度很小时，可使光线散射，降低低辐射膜在可见光区域的透过率；而当银膜比较厚时，可能导致银对可见光的吸收增加，从而导致可见光区域透过率的下降，因此本实用新型中限定金属层（Ag层）厚度为10~15nm。
作为优选，所述第二介质层厚度为50~55nm。
作为优选，所述减反层厚度为20~30nm。
因此，本实用新型具有如下有益效果：采用复合多层膜结构，并对膜层结构进行了优化改进，结构简单、新颖，各膜层之间结合强度好，具有优异的低反射和低辐射效果，可见光反射在13~17%左右，远远低于普通阳光控制镀膜玻璃，可达到不产生光污染的效果，提高其应用范围。
附图说明
图1是本实用新型的一种结构示意图。
图中：玻璃基板1，第一介质层2，第一阻挡层3，第一过渡层4，金属层5，第二过渡层6，第二阻挡层7，第二介质层8，减反层9。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型做进一步的描述。
实施例1
如图1所示的一种低反射低辐射阳光控制镀膜玻璃，包括玻璃基板1，玻璃基板表面从内到外通过磁控溅射依次镀有第一介质层2、第一阻挡层3、第一过渡层4、金属层5、第二过渡层6、第二阻挡层7、第二介质层8及减反层9，其中第一介质层为厚度50nm的TiO2层，第一阻挡层、第二阻挡层均为厚度2nm 的NiCrOx层，第一过渡层、第二过渡层均为厚度3nm的Ti层，金属层为厚度10nm的Ag层，第二介质层为厚度50nm的Si3N4层，减反层为厚度20nm的SiO2层，减反层表面设为毛面，减反层表面的晶体颗粒粒径为1.3nm。
实施例2
本实施例与实施例1相比，不同之处在于：第一介质层厚度为55nm，第一阻挡层、第二阻挡层厚度均为3nm ，金属层厚度为15nm，第二介质层厚度为55nm，减反层厚度为30nm，减反层表面的晶体颗粒粒径为1.4nm，其余完全相同，故不赘述。
实施例3
本实施例与实施例1相比，不同之处在于：第一介质层厚度为52nm，第一阻挡层、第二阻挡层厚度均为2.5nm ，金属层厚度为12nm，第二介质层厚度为53nm，减反层厚度为25nm，减反层表面的晶体颗粒粒径为1.35nm，其余完全相同，故不赘述。
本实用新型中各膜层通过磁控溅射即可得到，磁控溅射为本领域常规技术手段，故不在此赘述。本实用新型采用复合多层膜结构，并对膜层结构进行了优化改进，结构简单、新颖，各膜层之间结合强度好，具有优异的低反射和低辐射效果，可见光反射在13~17%左右，远远低于普通阳光控制镀膜玻璃，可达到不产生光污染的效果，提高其应用范围。
以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例，并非对本实用新型作任何限制，凡是根据本实用新型技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、变更以及等效结构变换，均仍属于本实用新型技术方案的保护范围。