1.一种低反射低辐射阳光控制镀膜玻璃，包括玻璃基板（1），其特征在于，所述玻璃基板表面从内到外通过磁控溅射依次镀有第一介质层（2）、第一阻挡层（3）、第一过渡层（4）、金属层（5）、第二过渡层（6）、第二阻挡层（7）、第二介质层（8）及减反层（9），所述第一介质层为TiO2层，所述第一阻挡层、第二阻挡层均为NiCrOx层，所述第一过渡层、第二过渡层均为Ti层，所述金属层为Ag层，所述第二介质层为Si3N4层，所述减反层为SiO2层，所述减反层表面设为毛面，减反层表面的晶体颗粒粒径为1.3~1.4nm。
2.根据权利要求1所述的一种低反射低辐射阳光控制镀膜玻璃，其特征在于，所述第一介质层厚度为50~55nm。
3.根据权利要求1所述的一种低反射低辐射阳光控制镀膜玻璃，其特征在于，所述第一阻挡层、第二阻挡层厚度为2~3nm。
4.根据权利要求1所述的一种低反射低辐射阳光控制镀膜玻璃，其特征在于，所述第一过渡层、第二过渡层厚度为3~5nm。
5.根据权利要求1所述的一种低反射低辐射阳光控制镀膜玻璃，其特征在于，所述金属层厚度为10~15nm。
6.根据权利要求1所述的一种低反射低辐射阳光控制镀膜玻璃，其特征在于，所述第二介质层厚度为50~55nm。
7.根据权利要求1所述的一种低反射低辐射阳光控制镀膜玻璃，其特征在于，所述减反层厚度为20~30nm。