本发明属于无机材料技术领域，具体涉及一种用于手机面板的新型镀膜材料的制备方法。
背景技术：
镀膜是用物理或化学的方法在透明材料表面镀上一层透明的膜，来达到改变材料表面的反射和透射特性的目的，根据理论计算和实践检验，证明有镀膜的玻璃会增加透光度，可见光学镀膜的重要性。近20年来，由于材料科学与薄膜技术的结合，薄膜技术对材料新功能的不断需求，使光学薄膜材料的品种、应用范围以及使用数量以惊人的速度增加。随着镀膜技术的发展，强有力地推动着镀膜材料的发展和完善，薄膜材料与薄膜技术形成了密不可分的相辅相成的关系，目前，光学镀膜材料常用品种已达60余种，而且其品种、应用功能还在不断被开发。
光学镀膜材料大致可分为三类：1.氧化物类：如三氧化二铝、氧化硅、二氧化硅、二氧化钛、二氧化锆等；2.氟化物类：如氟化镁等；3.其它类如硫化锌等。光学镀膜材料的特点从化学结构上看，镀膜和被镀物的结合上存在着以下键力：离子键、共价键、原子键、分子键，其中离子键、原子键结合具有熔点高、沸点高、硬度大、强度高的特点。氧化物膜料大都是双电荷（或多电荷）的离子型晶体结构，以离子键结合，因此，决定了氧化物膜料具有熔点高、比重大、高折射率和高机械强度的优点，它们的折射率在1.46-2.7之间。
现有技术中应用在手机面板上的镀膜材料制备方法复杂，且材料质量差，使得镀膜材料的使用寿命极为短暂，并且会降低手机面板玻璃的透明度，特别是在手机面板进行减薄工艺后，严重地影响了手机面板的质量和使用效果。因此需要一种更好的镀膜材料，来改善现有技术的不足。
技术实现要素：
本发明的目的是提供一种用于手机面板的新型镀膜材料的制备方法，本发明制备的镀膜材料具有熔点高、比重大、高折射率和高机械强度的优点。
本发明提供了如下的技术方案：
一种用于手机面板的新型镀膜材料的制备方法，包括以下制备步骤：
a、将石英进行水洗后，在60-80℃下烘烤20-30min，置于粉碎机中粉碎成石英颗粒，粒径在3-5mm；
b、将石英颗粒置于真空脱羟炉，加热至1250-1350℃，保温脱羟6-8h；
c、将脱羟后的石英颗粒送入水检机中，水检2-3h，去除石英颗粒中的不透明颗粒，然后送入浮选机，浮选1-2h，去除石英颗粒中的漂浮物和杂质；
d、将石英颗粒再送入超声波清洗机中，加入去离子水，将超声清洗机中温度升高至60-80℃，使用超声波清洗40-60min；
e、将石英颗粒在120-150℃下烘干1-2h，利用球磨机球磨至粒径在4-6μm，即可得到成品。
优选的，所述步骤a的石英进行水洗前先采用磁选机磁选除杂，磁选3-5次。
优选的，所述步骤a的石英的水洗采用高压水枪喷射冲洗20-30min。
优选的，所述步骤b的石英加热脱羟后，进行人工分拣，去除变色和尖长的石英颗粒。
优选的，所述步骤c得到的石英颗粒置于反应釜中进行碳化反应。
优选的，所述碳化反应的条件为：向反应釜中通入一氧化碳，通气速率为3-6m³/h，温度为50-60℃，反应时间为2-3h。
优选的，所述步骤d的超声波频率在50-80khz。
优选的，所述步骤e的烘干在无尘状态下进行，无尘度为30-50万级。
本发明的有益效果是：
本发明制备的镀膜材料具有熔点高、比重大、高折射率和高机械强度的优点。
本发明的原材料石英的主要成分为二氧化硅，由于二氧化硅没有多余的价电子，并且其结构是多孔、粗糙的，造成了对光谱的散射和表面均匀反射，因此在正常情况下观察到的外观是白色的。二氧化硅的密度为2.2-2.66，熔点为1710℃，沸点2230℃，相对介电常数为3.9，化学性质比较稳定，不溶于水也不跟水反应，不跟一般酸反应，化学性质很稳定，且价格低廉，有利于废物利用，社会效益好，制备过程中无二次污染物的产生。
本发明的制备方法简单、制备流程短，因此适合工业化大规模生产制造。
具体实施方式
实施例1
一种用于手机面板的新型镀膜材料的制备方法，包括以下制备步骤：
a、将石英进行水洗后，在60℃下烘烤20min，置于粉碎机中粉碎成石英颗粒，粒径在5mm；
b、将石英颗粒置于真空脱羟炉，加热至1250℃，保温脱羟8h；
c、将脱羟后的石英颗粒送入水检机中，水检2h，去除石英颗粒中的不透明颗粒，然后送入浮选机，浮选2h，去除石英颗粒中的漂浮物和杂质；
d、将石英颗粒再送入超声波清洗机中，加入去离子水，将超声清洗机中温度升高至60℃，使用超声波清洗60min；
e、将石英颗粒在120℃下烘干1h，利用球磨机球磨至粒径在6μm，即可得到成品。
步骤a的石英进行水洗前先采用磁选机磁选除杂，磁选5次。
步骤a的石英的水洗采用高压水枪喷射冲洗20min。
步骤b的石英加热脱羟后，进行人工分拣，去除变色和尖长的石英颗粒。
步骤c得到的石英颗粒置于反应釜中进行碳化反应。
碳化反应的条件为：向反应釜中通入一氧化碳，通气速率为6m³/h，温度为50℃，反应时间为2h。
步骤d的超声波频率在80khz。
步骤e的烘干在无尘状态下进行，无尘度为30万级。
实施例2
一种用于手机面板的新型镀膜材料的制备方法，包括以下制备步骤：
a、将石英进行水洗后，在60℃下烘烤20min，置于粉碎机中粉碎成石英颗粒，粒径在3mm；
b、将石英颗粒置于真空脱羟炉，加热至1250℃，保温脱羟6h；
c、将脱羟后的石英颗粒送入水检机中，水检2h，去除石英颗粒中的不透明颗粒，然后送入浮选机，浮选2h，去除石英颗粒中的漂浮物和杂质；
d、将石英颗粒再送入超声波清洗机中，加入去离子水，将超声清洗机中温度升高至60℃，使用超声波清洗40min；
e、将石英颗粒在120℃下烘干2h，利用球磨机球磨至粒径在4μm，即可得到成品。
步骤a的石英进行水洗前先采用磁选机磁选除杂，磁选3次。
步骤a的石英的水洗采用高压水枪喷射冲洗20min。
步骤b的石英加热脱羟后，进行人工分拣，去除变色和尖长的石英颗粒。
步骤c得到的石英颗粒置于反应釜中进行碳化反应。
碳化反应的条件为：向反应釜中通入一氧化碳，通气速率为3m³/h，温度为50℃，反应时间为2h。
步骤d的超声波频率在50khz。
步骤e的烘干在无尘状态下进行，无尘度为30万级。
实施例3
一种用于手机面板的新型镀膜材料的制备方法，包括以下制备步骤：
a、将石英进行水洗后，在80℃下烘烤30min，置于粉碎机中粉碎成石英颗粒，粒径在5mm；
b、将石英颗粒置于真空脱羟炉，加热至1350℃，保温脱羟8h；
c、将脱羟后的石英颗粒送入水检机中，水检3h，去除石英颗粒中的不透明颗粒，然后送入浮选机，浮选1-2h，去除石英颗粒中的漂浮物和杂质；
d、将石英颗粒再送入超声波清洗机中，加入去离子水，将超声清洗机中温度升高至80℃，使用超声波清洗60min；
e、将石英颗粒在120-150℃下烘干2h，利用球磨机球磨至粒径在6μm，即可得到成品。
步骤a的石英进行水洗前先采用磁选机磁选除杂，磁选5次。
步骤a的石英的水洗采用高压水枪喷射冲洗30min。
步骤b的石英加热脱羟后，进行人工分拣，去除变色和尖长的石英颗粒。
步骤c得到的石英颗粒置于反应釜中进行碳化反应。
碳化反应的条件为：向反应釜中通入一氧化碳，通气速率为6m³/h，温度为60℃，反应时间为3h。
步骤d的超声波频率在50khz。
步骤e的烘干在无尘状态下进行，无尘度为50万级。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。