一种低辐射功能玻璃全自动数控成型设备的制作方法

文档序号:15295417发布日期:2018-08-29 01:39阅读:183来源:国知局

本实用新型涉及玻璃制造装置领域,更具体的,涉及一种低辐射功能玻璃全自动数控成型设备。



背景技术:

Low-E玻璃又称低辐射玻璃,Low-E镀膜玻璃是使用不同的材料在玻璃基片表面沉积一个新的材料表面,以改变玻璃的光学、电学、机械和化学等方面的性能,达到装饰、节能、环保等目的玻璃深加工产品。Low-E膜与普通玻璃及热反射镀膜玻璃相比,具有以下明显优势:对远红外辐射具有高反射率而又保持良好透光性能,能减少室内的热量流失,保持室内温度,从而起到节能的作用。但是目前低辐射玻璃生产步骤繁多,很多步骤都需要人工实现,自动化程度低,导致玻璃的生产效率不高,影响了企业的收入。



技术实现要素:

为了克服现有技术技术中的缺陷,本实用新型所要解决的技术问题在于提出一种低辐射功能玻璃全自动数控成型设备,其能够自动地将玻璃基板依次放到各个功能加工层槽中进行各种功能层的电镀,大大地提高工作效率。

为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:

本实用新型提供了一种低辐射功能玻璃全自动数控成型设备,其特征在于:包括第一清洗槽、打底介质层槽、阻挡层槽、中间介质层槽、功能层槽、保护层槽、横梁、持板器、两个滑轨、两个竖杆,两个滑轨平行设置,所述第一清洗槽、所述打底介质层槽、所述阻挡层槽、所述中间介质层槽、所述功能层槽、以及所述保护层槽依次排列固定于两个所述滑轨之间,所述横梁的两端分别与两个竖杆的顶部固定连接,所述竖杆的底部与所述滑轨滑动配合,所述横梁上设置有伸缩臂,所述伸缩臂的上端与所述横梁滑动配合,所述伸缩臂的下端连接有持板器。

在本实用新型较佳地技术方案中,所述低辐射功能玻璃全自动数控成型设备还包括干燥槽,

所述干燥槽设置于所述第一清洗槽以及打底介质层槽之间,所述干燥槽的内侧壁上设置有多个电热风机。

在本实用新型较佳地技术方案中,所述第一清洗槽内从左往右设有三排雾化喷头。

在本实用新型较佳地技术方案中,所述打底介质层槽以及所述中间介质层槽内侧壁上均设置有防腐蚀涂层,所述打底介质层槽以及所述中间介质层槽内填充有氧化锌镀液。

在本实用新型较佳地技术方案中,所述阻挡层槽以及所述保护层槽内均设置有防腐蚀涂层,

所述阻挡层槽以及所述保护层槽内均填充有镍镉镀液。

在本实用新型较佳地技术方案中,所述功能层内填充有银镀液。

在本实用新型较佳地技术方案中,还包括第二清洗槽,所述第二清洗槽设设置有多个超声波发射器。

在本实用新型较佳地技术方案中,还包括抛光槽,所述抛光槽内设有铺粉机以及抛光磨盘,

所述铺粉机以及所述抛光磨盘均通过机架固定于所述抛光槽的内侧壁上。

本实用新型的有益效果为:

本实用新型提供的低辐射功能玻璃全自动数控成型设备,通过设置的一系列的功能性渡层槽,配合横梁,可以自动地将玻璃基板依次放入到各个层槽中进行加工,为玻璃基板镀上各种功能性层,最后输出为具有低辐射功能的玻璃成品。整个过程自动化程度高,生产速度快,大大地提高了生产效率。

附图说明

图1是本实用新型具体实施方式提供的低辐射功能玻璃全自动数控成型设备渡槽的结构示意图;

图2是本实用新型具体实施方式提供的低辐射功能玻璃全自动数控成型设备的正视结构示意图。

图中:

1、第一清洗槽,2、打底介质层槽,3、阻挡层槽,4、中间介质层槽,5、功能层槽,6、保护层槽,9、防腐蚀涂层,11、雾化喷头,71、横梁,72、持板器,73、伸缩臂,74、滑轨,75、竖杆,81、干燥槽,82、电热风机,83、第二清洗槽,84、超声波发射器,85、抛光槽,86、铺粉机,87、抛光磨盘。

具体实施方式

下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。

如图1、图2所示,本实用新型提供了一种低辐射功能玻璃全自动数控成型设备,包括第一清洗槽1、打底介质层槽2、阻挡层槽3、中间介质层槽4、功能层槽5、保护层槽6、横梁71、两个滑轨74、两个竖杆75,、以及持板器72,两个滑轨74平行设置,第一清洗槽1、打底介质层槽2、阻挡层槽3、中间介质层槽4、功能层槽5、以及保护层槽6依次排列固定于两个滑轨74之间,横梁71的两端分别与两个竖杆75的顶部固定连接,竖杆75的底部与滑轨74滑动配合,横梁71上设置有伸缩臂73,伸缩臂73的上端与横梁71滑动配合,伸缩臂73的下端连接有持板器72。持板器72可以夹持住玻璃基板,通过横梁71以及伸缩臂73的配合,使得玻璃基板可以依次通过各个层的镀层槽,通过按顺序进入排列的各个层槽,可以依次为玻璃基板镀上打底介质层、阻挡层、中间介质层、功能层以及保护层,通过结合各个层,使得最后输出的玻璃成品具有低辐射功能,同时在玻璃进入镀层前,还设置了第一清洗槽1,对玻璃基板进行充分的清洗,防止灰尘杂质对后续的镀层效果造成影响。

为了给清洗以后的线路板进行干燥,进一步的,给低辐射功能玻璃全自动数控成型设备还包括干燥槽81,干燥槽81设置于第一清洗槽1以及打底介质层槽2之间,干燥槽81的内侧壁上设置有多个电热风机82。通过干燥槽81内的电热风机82,可以使得清洗完毕的玻璃基板能够快速地干燥。

为了能够充分地清洗玻璃基板,第一清洗槽1内从左往右设有三排雾化喷头11。三排雾化喷头11,分别负责三种不同的清洗液的喷淋,第一排雾化喷头11负责喷淋热碱液,第二排雾化喷头11负责喷淋普通自来水,第三排雾化喷头11负责喷淋蒸馏水,通过三排喷头的不同喷淋,可以将玻璃基板彻底清洁干净。

为了给玻璃基板镀上打底介质层以及中间介质层,进一步的,打底介质层槽2以及中间介质层槽4内侧壁上均设置有防腐蚀涂层9,打底介质层槽2以及中间介质层槽4内填充有氧化锌镀液。通过打底介质层槽2,为玻璃基板镀上一层由氧化锌组成的打底介质层以及中间介质层。

为了给玻璃基板镀上阻挡层以及保护层,进一步的,阻挡层槽3以及保护层槽6内均设置有防腐蚀涂层9,阻挡层槽3以及保护层槽6内均填充有镍镉镀液。当玻璃基板进入到阻挡层槽3以及保护层槽6时,槽内设置的镍镉镀液会为玻璃基板镀上一层镍镉,分别用来隔开两个层的氧化锌,以及保护玻璃基板上的各个层面。

为了给玻璃基板镀上功能层,进一步的,功能层槽5内填充有银镀液。玻璃基板在进入到功能层槽5时,槽内的银镀液会给玻璃基板镀上一层薄薄的功能层。

为了清洁加工完成的玻璃基板,进一步的,还包括第二清洗槽83,第二清洗槽83设设置有多个超声波发射器84。通过超声波,可以清理干净加工完成的玻璃板。

为了令加工完成的玻璃更加光亮,进一步的,低辐射功能玻璃全自动数控成型设备还包括抛光槽85,抛光槽85内设有铺粉机86以及抛光磨盘87,铺粉机86以及抛光磨盘87均通过机架固定于抛光槽85的内侧壁上。铺粉机86会为加工完成的玻璃铺上一层抛光粉,然后抛光磨盘87会对玻璃进行抛光,使玻璃在加工完成出厂时更加光洁透亮。

本实用新型是通过优选实施例进行描述的,本领域技术人员知悉,在不脱离本实用新型的精神和范围的情况下,可以对这些特征和实施例进行各种改变或等效替换。本实用新型不受此处所公开的具体实施例的限制,其他落入本申请的权利要求内的实施例都属于本实用新型保护的范围。

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