专利名称：一种氨基酸西佛碱过渡金属配合物及应用的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种氨基酸西佛碱过渡金属配合物及其在抗菌和电致发光上的应用。
背景技术：
西佛碱及其金属配合物，在抗菌、催化、磁性、光学、电化学、非线性光学、化学传感器等领域，有广泛的用途，因此成为当前研究的热点。
发明内容
本发明的目的是提供一种氨基酸西佛碱过渡金属配合物及应用。氨基酸西佛碱过渡金属配合物配体的结构式为:
权利要求
1.一种氨基酸西佛碱过渡金属配合物，其特征在于氨基酸西佛碱过渡金属配合物分子结构式为:
2.根据权利要求1所述的氨基酸西佛碱过渡金属配合物的应用，其特征在于所述氨基酸西佛碱过渡金属配合物应用于抗菌和电致发光领域。
全文摘要
本发明公开了一种氨基酸西佛碱过渡金属配合物及应用。氨基酸西佛碱过渡金属配合物的结构式为；式中，M为Cu、Zn、Ni和Co中的一种；所述配合物应用在抗菌和电致发光领域；本发明氨基酸西佛碱过渡金属配合物对欧文氏草生杆菌，大肠杆菌及金黄色葡萄球菌都有不同程度的抗菌效果，且应用于电致发光器件中，具有电子传输性优越、环境稳定性好、发光效率高、操作寿命长和制造成本低等优点。
文档编号C09K11/06GK103113393SQ20131007289
公开日2013年5月22日 申请日期2013年3月7日 优先权日2013年3月7日
发明者丁国华, 江道勇, 高蕊 申请人:桂林理工大学