一种五金蚀刻用保护油墨的制作方法
【专利说明】
[0001]
技术领域： 本发明涉及油墨技术领域，具体涉及一种五金蚀刻用保护油墨。
[0002]
【背景技术】： 随着电子产品精细化五金精细图型蚀刻产品越来越多。任何中高端的电子产品和很多 身边的日用产品都有五金蚀刻的产品。像一智能手机至少4-6个五金蚀刻工件。这些产品 以往大多都是以电泳漆成膜再用激光雷射掉须蚀刻部位上的油墨，再用三氯化铁和盐酸的 水溶液蚀刻掉裸露出的金属。最后用硝酸对漆膜碳化退洗，这样电泳成本和退洗成很高，且 退洗用的高挥发性的硝酸对操作工人、车间环境及金属设备、大气破坏很大。而且电泳漆成 膜不均匀，给加工带来很多麻烦，如不抗鈍刻导至良率低等问题。
[0003]
【发明内容】
： 本发明的目的是提供一种五金蚀刻用保护油墨，它在非平面的不规则的金属产品上可 采用喷涂的方式能形成一层抗蚀能力很好的均匀的漆膜，在边框上不会有镜框效应导致的 漆膜不均抗蚀性能不好的问题，且它能用稀碱液很好地退洗掉。它比其它电泳漆成膜均匀、 抗鈍能力强、使用的设备投入少、退洗方便环保。
[0004] 为了解决【背景技术】所存在的问题，本发明是采用以下技术方案：它采用有机溶剂 和丙烯酸单体进行溶液聚合方式合成出酸值约50-70、分子量在4-6万、TG值90-105的丙 烯酸树脂。
[0005] 它的组成质量百分比为：热塑性的羧基丙烯酸树脂25-60% ;有机溶剂20-50% ;滑 石料20-40% ;彭润土 0. 2-2% ;颜料0. 5-2% ;消泡剂、流平剂1-3% ;气相二氧化硅1-5%。
[0006] 本发明的有益效果：它在非平面的不规则的金属产品上可采用喷涂的方式能形成 一层抗蚀能力很好的均匀的漆膜，在边框上不会有镜框效应导致的漆膜不均抗蚀性能不好 的问题，且它能用稀碱液很好地退洗掉，它比其它电泳漆成膜均匀、抗鈍能力强、使用的设 备投入少、退洗方便环保。
[0007]
【具体实施方式】： 本【具体实施方式】采用以下技术方案：它采用有机溶剂和丙烯酸单体进行溶液聚合方式 合成出酸值约50-70、分子量在4-6万、TG值90-105的丙烯酸树脂。
[0008] 它的组成质量百分比为：热塑性的羧基丙烯酸树脂25-60% ;有机溶剂20-50% ;滑 石料20-40% ;彭润土 0. 2-2% ;颜料0. 5-2% ;消泡剂、流平剂1-3% ;气相二氧化硅1-5%。
[0009] 本【具体实施方式】的有益效果：它在非平面的不规则的金属产品上可采用喷涂的方 式能形成一层抗蚀能力很好的均匀的漆膜，在边框上不会有镜框效应导致的漆膜不均抗蚀 性能不好的问题，且它能用稀碱液很好地退洗掉，它可以与其它电泳漆成膜均匀，它比较环 保。
[0010] 实施例： 实施例一： 采用热塑性的羧基丙烯酸树脂40% ;有机溶剂26% ;滑石料25% ;彭润土 1% ;颜料1% ;消 泡剂、流平剂2% ;气相二氧化硅5%。
[0011] 实施例二： 采用热塑性的羧基丙烯酸树脂50% ;有机溶剂20% ;滑石料20% ;彭润土 2% ;颜料2% ;消 泡剂、流平剂1% ;气相二氧化硅5%。
[0012] 以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征以及本发明的优点。本行业的技 术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明 本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些 变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及 其等效物界定。
【主权项】
1. 一种五金蚀刻用保护油墨，其特征在于它采用有机溶剂和丙烯酸单体进行溶液聚合 方式合成出酸值约50-70、分子量在4-6万、TG值90-105的丙烯酸树脂。
2. -种五金蚀刻用保护油墨，其特征在于它的组成质量百分比为：热塑性的羧基丙烯 酸树脂25-60% ;有机溶剂20-50% ;滑石料20-40% ;彭润土 0. 2-2% ;颜料0. 5-2% ;消泡剂、流 平剂1-3% ;气相二氧化硅1-5%。
【专利摘要】一种五金蚀刻用保护油墨，它涉及油墨技术领域，它采用有机溶剂和丙烯酸单体进行溶液聚合方式合成出酸值约50-70、分子量在4-6万、TG值90-105的丙烯酸树脂。它的组成百分比为：热塑性的羧基丙烯酸树脂25-60%；有机溶剂20-50%；滑石料20-40%；彭润土0.2-2%；颜料0.5-2%；气相二氧化硅1-5%；它在非平面的不规则的金属产品上可采用喷涂的方式能形成层抗蚀能力很好的均匀的漆膜，且它能用稀碱液很好地退洗掉，它可以与其它电泳漆成膜均匀，它比较环保。
【IPC分类】C09D11-107, C09D11-03
【公开号】CN104559474
【申请号】CN201510047235
【发明人】杨忠平, 张海深
【申请人】河源诚展科技有限公司
【公开日】2015年4月29日
【申请日】2015年1月30日