专利名称：一种引流扰动器及回流贮液装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种集成电路制造工艺装置，尤其涉及一种引流扰动器及回流贮液装置。
背景技术：
在半导体工艺中，化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing, CMP)技术是机械削磨和化学腐蚀组合的技术，化学机械抛光技术借助超微粒的研磨作用以及浆料的化学腐蚀作用，在被研磨的介质表面上形成光洁平坦的平面。CMP是使用含有氮化硅、氧化硅等研磨粒的研磨液(Slurry)以及其他化学液体来对半导体晶圆表面平坦化的方法，研磨的对象包括硅氧化膜、配线、插塞(Plug)等，在研磨垫和晶圆之间添加研磨液(Slurry)，以提高研磨效率。研磨液及其他化学液体静止放置在空气中放置极易结晶，结晶的研磨液在研磨过程中会对晶圆造成划痕(Scratch)，影响产量。现有技术，研磨液放置于贮液容器或回流贮液装置中时，需要利用搅拌桨以及自身循环系统帮助研磨液增加一定的搅动，减少结晶的形成。图1为现有技术中回流贮液装置的结构示意图，如图1所示，所述回流贮液装置20 与液体使用设备30管路连通，在所述回流贮液装置20与所述液体使用设备30之间的管路上设置有调节作用的阀件32，所述回流贮液装置20包括贮液容器21 ；供应管24，首端连接于所述贮液容器21底部，尾端与液体使用设备30管路相通；泵25，设置于所述供应管24 上；回流管22，首端连接于所述供应管M上，尾端位于贮液容器21上方；阀件23，设置于所述回流管22上；还包括搅拌桨10，所述搅拌桨10需要外部电源供电其转动工作。然而， 对于简易的、仅仅用于临时性贮液、测试用的回流贮液装置，往往不会配备搅拌桨等搅拌装置，因为只需要为其中泵提供给一路气源，便可维持系统工作，否则增加搅拌桨10等搅拌装置通常需要再接一路电源，则增加了临时性测试的困难和成本。对于即使是临时性的测试，所供应的液体，例如化学液体或研磨液也会因为缺乏搅拌而容易产生沉淀和结晶，从而大大增加产品的杂质污染、划伤等缺陷的产生。因此需要一种无需外接其他能源的情况下，增加回流贮液装置内液体扰动，充分搅拌液体减少沉淀和结晶的装置。
实用新型内容本实用新型要解决的技术问题是，提供一种简便的引流扰动器及回流贮液装置， 能够在不需要外接其他能源的情况下，增加回流贮液装置内液体的扰动，充分搅拌液体，减少沉淀和结晶的产生。为解决上述问题，本实用新型提供一种引流扰动器，包括主流管；分流管，包括至少两个出口，入口连接于所述主流管的出口 ；至少两个引流扰动管，分别连接于所述分流管的出口。[0009]进一步的，所述引流扰动管的扰动方向在同一平面上形成同一时针转动方向。可选的，所述引流扰动管与所述主流管的延伸方向呈30° 90°夹角。进一步的，所述分流管的入口设置于中部。进一步的，所述分流管与所述主流管相垂直。进一步地，所述分流管为直管双出口分流管、或等角三出口分流管。进一步地，所述引流扰动器为耐腐蚀材料。进一步的，本实用新型还提供一种回流贮液装置，与液体使用设备管路相通，包括供应管，首端连接于所述贮液容器底部，尾端与液体使用设备管路相通；泵，设置于所述供应管上；回流管，首端连接于所述供应管上，尾端位于贮液容器上方；阀件，设置于所述回流管上；还包括，所述引流扰动器，位于所述贮液容器中，连接于所述回流管尾端；固定装置，固定所述引流扰动器。综上所述，本实用新型所述引流扰动器利用回流贮液装置中泵带动液体的回流， 对液体加以引导，对所述液体产生的压力加以调节，从而增加了液体的扰动，达到搅拌的效果，减少沉淀和结晶的产生。
图1为现有技术中回流贮液装置的结构示意图。图2为本实用新型一实施例中所述回流贮液装置的结构示意图。图3 图6为本实用型中所述引流扰动器的实施例的结构示意图。
具体实施方式
为使本实用新型的内容更加清楚易懂，以下结合说明书附图，对本实用新型的内容作进一步说明。当然本实用新型并不局限于该具体实施例，本领域内的技术人员所熟知的一般替换也涵盖在本实用新型的保护范围内。其次，本实用新型利用示意图进行了详细的表述，在详述本实用新型实例时，为了便于说明，示意图不依照一般比例局部放大，不应以此作为对本实用新型的限定。图2为本实用新型一实施例中所述回流贮液装置的结构示意图。如图2所示，本实用新型一实施例中所述回流贮液装置200，与液体使用设备300管路相通，所述回流贮液装置200与所述液体使用设备300之间设有调节阀302，所述回流贮液装置200包括贮液容器201，用于盛放液体，以备提取、测量；供应管204，首端连接于所述贮液容器201底部，尾端与液体使用设备300管路相通；泵205，设置于所述供应管204上，所述泵205推动所述液体从供应管204经回流管202流回至贮液容器201，形成液体循环；回流管202，首端连接于所述供应管204上，尾端位于贮液容器201上方；阀件203，设置于所述回流管202上，用以调节流入贮液容器201的液体的流速、流量。其中优选地，所述回流贮液装置还包括，引流扰动器100，位于所述贮液容器201 中，连接于所述回流管202尾端，如图2所示，所述引流扰动器将回流液体引入，分流流出，
4流出液体在所述贮液容器201中形成某一时针方向的转动水压，从而带动贮液容器201中的液体沿时针方向转动，从而达到液体的充分搅动，防止产生沉淀和结晶；固定装置400，固定所述引流扰动器100，所述引流扰动器100分流引导所述回流液体流动形成水压时，所述水压给所述引流扰动器100相反的力，会使引流扰动器100产生晃动，影响液体的扰动方向。设置所述固定装置400，以固定所述引流扰动器100，从而产生稳定的扰动方向。图3 图6为本实用型中所述引流扰动器的实施例的结构示意图。结合图3 图 6所示，本实用新型中所述引流扰动器100，可连接于上述回流贮液装置200的回流管202， 也可连接于其他装置的管路上用于引流扰动，所述引流扰动器100包括主流管101，入口与所述回流管202连接；分流管103，包括至少两个出口，入口连接于所述主流管101的出口 ；至少两个引流扰动管105，分别连接于所述分流管103的出口。进一步的，所述分流管103的入口设置于中部，入口设置于中部有利于液体在分流管中形成的重力相均衡，从而所述分流管103受力均勻，延长使用寿命。进一步的，所述分流管103与所述主流管101相垂直，在使用过程中，液体经过所述主流管101垂直留下，进入分流管103后改为水平方向，则流出的液体能够对所述贮液装置中的液体形成水平方向的扰动。进一步地，所述分流管103为直管双出口分流管、或等角三出口分流管。进一步地，所述引流扰动器100为耐腐蚀材料，可以为聚乙烯塑料等，材料来源广泛，易于制作成型，成本低廉。进一步的，所述引流扰动管105的扰动方向在同一平面上形成同一时针转动方向。所述引流扰动管105与所述主流管101的延伸方向呈30° 90°夹角。即所述引流扰动管105的尾端平行于所述主流管101的延伸方向垂直，所述液体从引流管105流出的压力在贮液容器201中水平面上形成同一时针的扰动，例如顺时针或逆时针；或所述引流扰动管105与所述主流管101的延伸方向形成大于30°小于90°的夹角，液体从引流管 105流出的方向为倾斜的，流出的液体在水平面上的压力形成同一时针的转动方向，在竖直面上的压力对贮液容器201上方和下方形成扰动。其中所述引流扰动器100的引流扰动管105的数量、方向和角度可以有多种选择， 具体地，以下述几个实施例为例具体实施例一如图3所示，所述分流管103为直管双出口，入口设置于所述分流管103的中部。 所述分流管103出口均连接有引流扰动管105，所述引流扰动管105出口朝向相反。所述引流扰动管105与所述主流管101的延伸方向垂直。液体经所述分流管103分流后，从引流扰动管105流出，液体流动的水压在水平面上形成如图中某一时针(时针方向不被限定) 的扰动。具体实施例二如图4所示，所述分流管103为直管双出口，入口设置于所述分流管103的中部。 所述分流管103出口均连接有引流扰动管105。所述引流扰动管105与所述主流管101的延伸方向呈60°夹角，液体经所述引流扰动管105流出时方向均倾斜朝上，液体经所述分流管103分流后，引流扰动管105流出，液体流动的水压在水平方向上形成如图中在某一时针(时针方向不被限定)的扰动。并且流出方向在在竖直方向上对贮液容器201上方的液面也实现了扰动作用。具体实施例三如图5所示，所述分流管103为直管双出口，入口设置于所述分流管103的中部。 所述分流管103出口均连接有引流扰动管105。所述引流扰动管105与所述主流管101的延伸方向呈45°夹角，所述引流扰动管105出口方向分别朝上、朝下。本实施例中液体经所述引流扰动管105流出时方向分别倾斜朝上和倾斜朝下，则液体经所述分流管103分流后， 引流扰动管105流出，液体流动的水压在水平方向上形成如图中在某一时针(时针方向不被限定)的扰动。并且流出方向在在竖直方向上对贮液容器201上方和下方的液面同时实现了扰动作用。具体实施例四如图6所示，所述分流管103为三出口，入口设置于所述分流管103的中部。所述分流管103出口均连接有引流扰动管，所述引流扰动管105出口朝向为水平面上同一时针方向，所述引流扰动管105与所述主流管101的延伸方向垂直。本实施例中液体经所述分流管103分流后，从三个引流扰动管105流出，液体流出所述引流扰动管的压力更大、更均勻，能够更好地扰动液面，带动液面转动。此外，所述引流扰动器100的引流扰动管105的数量、方向和角度还可以有更多种选择，根据液体的容量和特性来选择，产生不同的引流效果，均在本实用新型的思想范围内。当液体使用设备300需要液体供应时，开启调节阀302，所述回流贮液装置200向液体使用设备300供应液体，当液体使用设备300不需要液体供应时，关闭调节阀302，液体在泵205的作用下在回流贮液装置200内部循环，所述引流扰动器100利用液体流动的压力下搅动贮液容器201中的液体，从而防止液体结晶。本实用新型所述引流扰动器利用回流贮液装置中泵带动液体的回流，对液体加以引导，对所述液体产生的压力加以调节，从而增加了液体的扰动，达到搅拌的效果，减少沉淀和结晶的产生。虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然其并非用以限定本实用新型，任何所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本实用新型的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，因此本实用新型的保护范围当视权利要求书所界定者为准。
权利要求1.一种引流扰动器，其特征在于，包括主流管；分流管，包括至少两个出口，入口连接于所述主流管的出口 ； 至少两个引流扰动管，分别连接于所述分流管的出口。
2.如权利要求1所述的引流扰动器，其特征在于，所述引流扰动管的扰动方向在同一平面上形成同一时针转动方向。
3.如权利要求2所述的引流扰动器，其特征在于，所述引流扰动管与所述主流管的延伸方向呈30° 90°夹角。
4.如权利要求1所述的引流扰动器，其特征在于，所述分流管的入口设置于中部。
5.如权利要求1所述的引流扰动器，其特征在于，所述分流管与所述主流管相垂直。
6.如权利要求1所述的引流扰动器，其特征在于，所述分流管为直管双出口分流管、或等角三出口分流管。
7.如权利要求1所述的引流扰动器，其特征在于，所述引流扰动器为耐腐蚀材料。
8.一种回流贮液装置，与液体使用设备管路相通，包括 贮液容器；供应管，首端连接于所述贮液容器底部，尾端与液体使用设备管路相通； 泵，设置于所述供应管上；回流管，首端连接于所述供应管上，尾端位于贮液容器上方； 阀件，设置于所述回流管上； 其特征在于，还包括，如权利要求1所述的引流扰动器，位于所述贮液容器中，连接于所述回流管尾端； 固定装置，固定所述引流扰动器。
专利摘要本实用新型提供一种引流扰动器及回流贮液装置，连接于回流管，包括主流管，入口与所述回流管连接；分流管，入口连接于所述主流管的出口，与所述主流管相垂直；引流扰动管，连接于所述分流管的出口。所述回流贮液装置，包括所述引流扰动器，位于所述贮液容器中，连接于所述回流管尾端和固定装置，固定所述引流扰动器。本实用新型所述引流扰动器利用回流贮液装置中泵带动液体的回流，对液体加以引导，对所述液体产生的压力加以调节，从而增加了液体的扰动，达到搅拌的效果，减少沉淀和结晶的产生。
文档编号B65D90/00GK201959759SQ20102068995
公开日2011年9月7日 申请日期2010年12月30日 优先权日2010年12月30日
发明者彭名君, 沙酉鹤 申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司