专利名称：排气系统的制作方法
技术领域：
排气系统
技术领域：
本实用新型涉及一种排气系统，尤其涉及一种应用于半导体制造工厂的排气系统。
背景技术：
半导体制造工艺中所使用的化学物质种类繁多，且多数具有毒性、腐蚀性、易燃性或易爆性等特质。在半导体制造工厂内，通常配置有排气系统，用于排出废气，保证安全。不同的化学物质混合之后可能造成严重后果，如爆炸、燃烧等。另外，对排气管路 材质的选择也很重要，其必须不与输送化学物质发生反映，否则可能导致管路腐蚀破损，进 而可能造成有害物质外泄。因此，为了避免不同性质的排出气体共用同一个排气管路，在排 气系统的设计中，原则上应将整个工艺的排气系统根据气体的特质而划分为多个排气子系 统。如图1所示，一种典型的排气系统大致分为酸性气体排气子系统11、碱性气体排 气子系统12、挥发性有机类溶剂(Solvent或V0C)排气子系统13和一般排气子系统14。每 一个排气子系统均包括排气压力零点位基准点、排气压力控制点、风管集管和排风机等设 备。具体而言，酸排气子系统11包括压力基准点111、压力控制点112、风管集管113和酸 排风机114 ；碱排气子系统12包括压力基准点121、压力控制点122、风管集管123和碱排 风机124 ；挥发性有机类溶剂排气子系统13包括压力基准点131、压力控制点132、风管集 管133和有机排风机134 ；—般排气子系统14包括压力基准点141、压力控制点142、风管 集管143和一般排风机144。所述每一个排气子系统的工作原理大致相同，包括各压力控 制点均设置压力感测器，用于实时感测待测气体的压力，并根据所述排气压力零点位基准 点的零点位压力，控制对应的排气子系统中的排风机执行相应的运作(例如开始工作、力口 快或减慢运转速度、停止工作等)。由上可知，所述排气压力零点位基准点是很重要的参考点，零点位有轻微的波动 都会使排气压力控制点的控制不稳定，从而影响排风机的运作。现有排气子系统的排气压 力零点位基准点是单独设置在室外，并配置有保护罩，以避免雨淋及风吹，但实际不能彻底 解决外界环境条件对排气压力零点位基准点的稳定性影响，不可避免地会受到室外环境条 件的干扰影响，而引起零点位压力波动，造成排气压力控制点的不稳定，从而引起排气系统 压力波动，影响半导体制造的生产效率。
实用新型内容有鉴于此，有必要提供一种排气系统，解决现有技术中的排气压力零点位基准点 设置在室外易受外界环境条件影响而引起零点位压力波动，造成排气系统压力不稳定的问 题。—种排气系统，包括若干排气子系统与零点箱，所述排气子系统各包括压力基准 点、压力控制点、排风机和风管集管，所述各压力基准点设置于所述零点箱内，所述零点箱设置于室内。上述排气系统将各排气子系统的压力基准点设置在室内，可避免受到外界环境条 件的干扰，压力基准点的零点位压力得以稳定，确保排气系统的稳定运行。
图1为一种排气系统的架构示意图；图2为本实用新型实施例提供的排气系统的架构示意图。
具体实施方式
以下结合附图和实施例对本实用新型的实施方式进行详细说明。请参阅图2，其为本实用新型的排气系统在一个实施例中的架构示意图。所述排 气系统包括酸(Acid)排气子系统21、碱(Alkaline)排气子系统22、挥发性有机类溶剂 (Solvent或V0C)排气子系统23和一般排气子系统24。可选地，在其他实施方式中，可以 根据所需排出的化学物质的特质安排对应的排气子系统，例如热(Heat)排气子系统、易爆 性或易燃性气体(Flammable或Combustible)排气子系统、氨(NH3)排气子系统、氮氧化物 (NOX)排气子系统、臭氧(03)排气子系统等。所述排气系统包括若干排气子系统，每一个排气子系统都包括压力基准点、压力 控制点、排风机和风管集管。所述压力基准点用于提供零点位压力，所述压力控制点用于控 制所述排风机，所述风管集管作为排气通道连通工厂室内和废气处理装置，所述排风机则 设置在所述风管集管的至少一端。分言之，酸排气子系统21包括压力基准点211、压力控制 点212、风管集管213和酸排风机214 ；碱排气子系统22包括压力基准点221、压力控制点 222、风管集管223和碱排风机224 ；挥发性有机类溶剂排气子系统23包括压力基准点231、 压力控制点232、风管集管233和有机排风机234 ； —般排气子系统24包括压力基准点241、 压力控制点242、风管集管243和一般排风机244。各排气子系统的所述压力控制点用于根 据对应的压力基准点提供的零点位压力来控制对应的排风机执行相应的运作，例如可以通 过所述排风机的运转将工厂内的气体经由所述风管集管排放出去。本实施方式中，所述排气系统还包括设置在室内的零点箱26。所述零点箱26用 于将所述酸排气子系统21中的压力基准点211、碱排气子系统22中的压力基准点221、挥 发性有机类溶剂排气子系统23中的压力基准点231和一般排气子系统24中的压力基准点 241集中设置。进一步地，在酸排气子系统21、碱排气子系统22、挥发性有机类溶剂排气子 系统23和一般排气子系统24所采用的零点位压力相同或相近时，所述对应各个排气子系 统的压力基准点211、221、231、241还可以相互联合在一起，构成一个共用压力基准点，以 为各排气子系统提供一个共用的零点位压力。亦即，所述排气系统中的酸排气子系统21、碱 排气子系统22、挥发性有机类溶剂排气子系统23和一般排气子系统24能共用一个零点位 压力，确保用以作为所述多个排气子系统参考的零点位压力保持一致性。同时，由于多个排 气子系统共用一个零点位压力基准点，无须在各个排气子系统的压力基准点出现波动时进 行分散的控制，管理和控制更容易，并且更利于各排气子系统的压力控制点的检测。所述排气系统还包括设置于室内的中控室25，可以将所述的酸排气子系统21中 的压力控制点212、碱排气子系统22中的压力控制点222、挥发性有机类溶剂排气子系统23中的压力控制点232和一般排气子系统24中的压力控制点242集中设置在中控室25内。这样，透过中控室25就可以向所述的多个排气子系统的压力控制点发出控制指令，以令相 应的排风机执行运作，便于进行集中管控。为避免受到外界环境条件的干扰，在本实施方式中，每一个排气子系统中的压力 基准点均被设置在室内。具体地，酸排气子系统21中的压力基准点211、碱排气子系统22 中的压力基准点221、挥发性有机类溶剂排气子系统23中的压力基准点231和一般排气子 系统24中的压力基准点241通过传输线设置在室内。上述排气系统在工作时，透过中控室25向所述对应排气子系统的压力控制点发 出控制指令，所述压力控制点以集中设置在置于室内的零点箱26中的压力基准点提供的 零点位压力为基准，控制对应的排气子系统中的排风机执行相应的运作(例如开始工作、 加快或减慢运转速度、停止工作等)，可以将工厂内的气体经由所述风管集管排放出去，实 施有效的排气作业，确保工厂内气体处于稳定的状态。上述排气系统通过集中设置于室内的压力控制点与压力基准点，可获得稳定的零 点位压力并进行稳定的控制，避免了受到外界环境条件的干扰，确保排气系统的稳定运行。
权利要求一种排气系统，包括若干排气子系统与零点箱，所述排气子系统各包括压力基准点、压力控制点、排风机和风管集管，其特征在于，所述各压力基准点设置于所述零点箱内，所述零点箱设置于室内。
2.如权利要求1所述的排气系统，其特征在于，所述多个排气子系统的压力基准点联 合在一起，构成一个共用压力基准点。
3.如权利要求1所述的排气系统，其特征在于，所述各排气子系统由酸排气子系统、碱 排气子系统、挥发性有机类溶剂排气子系统、一般排气子系统、热排气子系统、易爆性或易 燃性气体排气子系统、氨排气子系统、氮氧化物排气子系统、臭氧排气子系统组成的组中选 取。
4.如权利要求1、2或3所述的排气系统，其特征在于，还包括设置于室内的中控室，至 少一个排气子系统的压力控制点设置于所述中控室内。
专利摘要一种排气系统，包括若干排气子系统与零点箱，排气子系统各包括压力基准点、压力控制点、排风机和风管集管，各压力基准点设置于零点箱内，零点箱设置于室内。本排气系统将压力基准点设置在室内，可避免受到外界环境条件的干扰，压力基准点的零点位压力得以稳定，确保排气系统的稳定运行。
文档编号F24F7/06GK201569102SQ20092025586
公开日2010年9月1日 申请日期2009年11月24日 优先权日2009年11月24日
发明者孙屏 申请人:无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司