基板处理装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明的实施方式涉及基板处理装置。
【背景技术】
[0002]作为基板处理装置，开发了在触摸面板等的制造工序中，利用处理液(例如药液或功能水等)对玻璃等的基板表面进行处理，其后对基板表面进行干燥的基板处理装置。有的方案在用于触摸面板等的玻璃等的基板表面上，为了防止指纹和其它污渍的附着，形成有防止静电的防静电膜(AS涂层)。其膜厚例如为数nm?数百nm。
[0003]在上述的基板处理前，为了从基板上的防静电膜除去微粒(异物)、例如带有氟离子的微粒除去，采用人工手洗(作为一例，如用包含液体的布擦拭基板上的防静电膜的表面的作业等)。并且，带有氟离子的微粒，是在上述的基板处理之前的工序(例如成膜工序)中，在基板表面上形成防静电膜时附着到防静电膜上的。
[0004]但是，在如上所述从基板上的防静电膜除去微粒时，需要进行人工手洗，因此生产速度降低，并且成本也会上升。另外，即使通过人工手洗，也难以将带有氟离子的微粒的完全除去，微粒可能会形成雾状的膜而残留。因此，希望实现生成速度的提高以及成本的削减、并且可靠地除去微粒。
【发明内容】
[0005]本发明要解决的课题是，提供一种能够实现生产速度的提高以及成本的削减、并且可靠地除去微粒的基板处理装置。
[0006]实施方式的基板处理装置，具备:与基板上的防静电膜的表面接触而相对移动、对该防静电膜的表面进行擦拭的擦拭部件，擦拭部件具备:作为基体的弹性体；和在弹性体的表面上设置、与相对移动的防静电膜的表面接触的布。
[0007]根据上述实施方式的基板处理装置，能够实现生产速度的提高以及成本的削减、并且可靠地除去微粒。
【附图说明】
[0008]图1为表示第一实施方式的基板处理装置的概略构成的图。
[0009]图2为表示第一实施方式的擦拭部的概略构成的图。
[0010]图3为表示第二实施方式的擦拭部的概略构成的图。
[0011]图4为表示第三实施方式的擦拭部的概略构成的图。
[0012]图5为表示第一以及第二实施方式的擦拭部的处理条件和结果的图表。
【具体实施方式】
[0013]参照图1以及图2对第一实施方式进行说明。
[0014]如图1所示，第一实施方式的基板处理装置1，具备:搬送基板W的搬送部2、对搬送部2搬送的基板W进行处理的处理部3、对搬送部2搬送的基板W进行清洗的清洗部4、对搬送部2搬送的基板W进行干燥的干燥部5。
[0015]搬送部2，由支撑基板W的载台2a、将该载台2a向规定的搬送方向Al (图1中的右方向)搬送的搬送机构2b构成。基板W在载台2a的载置面上安置，通过搬送机构2b与载台2a —起向水平面内的规定方向搬送。并且，作为搬送机构2b，例如可以使用以伺服电机为驱动源的输送螺杆式的移动机构、以直线电机为驱动源的直线电机式的移动机构等。
[0016]这里，基板W例如是玻璃等的矩形状的基板，在该基板W的表面上形成有防止静电的防静电膜(AS涂层)Wa。在该防静电膜Wa上可能附着了带有氟离子的微粒(异物)。该微粒，例如是在基板W的表面上形成防静电膜Wa的工序(例如成膜工序)中附带氟离子的。
[0017]处理部3，具备:对搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面进行擦拭(wipe)的擦拭部3a、向搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面供给冲洗液的冲洗部3b、对搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面进行刷洗(brushing)的刷部3c、向搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面供给冲洗液的冲洗部3d。
[0018]如图2所示，擦拭部3a，具有:对搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面进行擦拭的擦拭部件11、保持该擦拭部件11的保持部件12、和支撑该保持部件12的支撑臂13。
[0019]擦拭部件11，由作为基体的弹性体11a、和在该弹性体11的表面即基板W的搬送方向Al (图2中的右方向)的上游侧(以下简称为基板W的搬送方向上游侧)的表面上设置的布Ilb构成。
[0020]弹性体11a，例如形成为长方形的板形状，其长边为基板W的宽度(与搬送方向Al正交的宽度)以上。该弹性体Ila设定为:其长边与基板W的搬送方向Al正交，并且倒向基板W的搬送方向上游侧而相对于载台2a上的基板W的表面以规定的角度倾斜。作为弹性体11a，例如可以使用橡胶等各种弹性体。
[0021]布11b，以覆盖弹性体Ila的位于基板W的搬送方向上游侧的整个表面的方式设置。作为该布11b，例如可以使用棉布等能够吸入液体的各种布。
[0022]保持部件12，形成为与弹性体Ila相同的板形状，在该保持部件12的表面、即基板W的搬送方向上游侧的表面上安装有弹性体11a。该保持部件12，以与弹性体Ila同样地倾斜的状态通过支撑臂13进行支撑。作为保持部件12的材料，例如可以采用不锈钢等金属材料。
[0023]支撑臂13，例如形成为长方形的板形状，在该支撑臂13的端部上安装有保持部件12。该支撑臂13，在不妨碍载台2a移动的位置上设置的立柱(column)等支柱上固定。作为支撑臂13的材料，例如可以使用不锈钢等金属材料。
[0024]另外，在擦拭部3a上，设有向上述擦拭部件11的布Ilb的一部分供给处理液的供液部14。作为成为其供液对象的布Ilb的一部分，例如可以举出上端部，但是不限于此。利用供液部14向布Ilb供给处理液，布Ilb维持在被处理液浸润的状态(包含处理液的状态)。
[0025]作为供液部14的处理液，例如使用能够除去带有氟离子的微粒的药液或功能水(作为一例是包含酒精的液体)等。该处理液的温度，优选为维持在例如40?80°C的范围内(范围以内)。
[0026]在这种擦拭部3a中，擦拭部件11随着载台2a的移动，以规定的压力与该载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面接触并相对地移动(相对移动)，利用包含处理液的布Ilb来擦拭载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面。此时，擦拭部件11，在布Ilb与载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面接触的状态下，使弹性体Ila随着载台2a的移动(载台2a上的基板W的防静电膜Wa的相对移动)发生变形。
[0027]这里，擦拭部件11对载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面的载荷，是擦拭部件11不使防静电膜Wa从基板W剥离而能够除去防静电膜Wa的表面上的微粒的载荷，作为一例是在5?30kg的范围内。并且，例如弹性体Ila的硬度是在10?50° (使用JIS标准K6253型A硬度计(durometer)进行测定)的范围内，保持部件12的下端与防静电膜Wa的表面的垂直间隔距离a为3mm，保持部件12的下端与擦拭部件11的下端的垂直间隔距离b为10mm，保持部件12相对于防静电膜Wa的表面所成的角度c在10?80°的范围内。
[0028]返回图1，冲洗部3b，具有:朝向下方放出冲洗液(例如超纯水等)的喷淋嘴21，从该喷淋嘴21向利用搬送机构2b搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面供给冲洗液。
[0029]刷部3c，具有:对搬送的载台2a上的基板W进行刷洗的旋转刷31、向该旋转刷31供给处理液的喷淋嘴32。该刷部3c，一边从喷淋嘴32向旋转刷31供给处理液，一边利用旋转刷31对通过搬送机构2b进行搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面进行刷洗。
[0030]作为喷淋嘴32的处理液，例如使用能够除去带有氟离子的微粒的药液、功能水(作为一例是包含酒精的液体)等。该处理液的温度，优选为维持在例如40?80°C的范围内。
[0031]冲洗部3d，是与上述的冲洗部3b相同的构造，具有朝向下方放出冲洗液(例如超纯水等)的喷淋嘴41，从该喷淋嘴41向通过搬送机构2b进行搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面供给冲洗液。
[0032]清洗部4，由向搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面以高压供给清洗液的高压部4a、向搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面供给清洗液的喷淋部4b构成。
[0033]高压部4a，具有:朝向下方以高压喷射清洗液(例如超纯水等)的高压喷淋嘴51、将气体与液体混合后向下方喷射的二元流体缝隙喷嘴52。该高压部4a，朝向通过搬送机构2b进行搬送的载台2a上的基板W的防静电膜Wa的表面，从高压喷淋嘴51喷射清洗液(一元流体)，并且从二元流体缝隙喷嘴52喷射气液混合体(二元流体)。
[0034]高压喷淋嘴51以及二元流体缝隙喷嘴52，是用于在处理部3的处理后、将在基板W的防静电膜Wa的表面上浮出(析出)的微粒除去的部件。该高压喷淋嘴51以及二元流体缝隙喷嘴52设置为，它们顶端的喷射口朝