粉体物料溶解装置的制作方法

文档序号:4903270阅读:134来源:国知局
专利名称:粉体物料溶解装置的制作方法
技术领域
本实用新型是关于一种物料搅拌装置设计,尤指一种在粉体物料容置桶的桶底下方位置设置一顶杆的粉体物料溶解装置。
背景技术
请参阅图1及图2,其中图1是显示现有物料搅拌装置的结构示意图之一,而图2是显示现有物料搅拌装置的作动示意图。如图所示,一般传统的物料搅拌装置在进行粉体物料S的搅拌时,是将一溶解外槽盖板15以一掀启方向Il掀启后,利用机械或人工的方式将装有粉体物料S的粉体物料容置桶2中的粉体物料S倒入溶解外槽I中,再利用搅拌器6搅拌溶解外槽I中的粉体物料S。此一以机械或人工的方式直接将粉体物料S倒入溶解外槽I进行搅拌的方式,在粉体物料S倒入溶解外槽I以及进行搅拌的同时,皆会造成粉体物料S飞扬至环境中,对环境造成污染的二次公害,影响环境且造成物料成本的浪费。飞扬至环境中的粉体物料S更会污染操作设备,增加清洁设备的成本,且会降低操作设备的使用寿命,若操作人员不慎吸入飞扬至环境中的粉体物料S,可能会因此而造成身体健康的影响。请参阅图3,是显示现有物料搅拌装置的结构示意图之二。如图所示,为了避免粉体物料S在倒入溶解外槽I以及进行搅拌时会使粉体物料S飞扬至环境中对环境造成污染,遂发展出在溶解外槽I结合有一抽气单元LI,而抽气单元LI则更结合有一粉体处理单元L2。在将粉体物料S倒入溶解外槽I及进行搅拌时,通过抽气单元LI将飞扬的粉体物料S吸入后输送到粉体处理单元L2进行回收处理。此一方式虽然解决了粉体物料S飞扬至环境中对环境造成污染的问题,但却使物料搅拌装置的结构更为复杂,设备维护不易及设备成本增加。此外,在进行粉体物料容置桶的清洗时,需以人工或机械方式将粉体物料容置桶拿起至他处清洗,此一方式会造成广区域环境的污染、二次公害的问题,也需额外耗费人力或设备资源,增加制造成本。归纳前述的说明,传统物料搅拌装置存在了下列缺点1.在将粉体物料倒入搅拌槽及进行搅拌时,粉体物料飞扬至环境中,造成环境的脏污且浪费成本。2.飞扬至环境中的粉体物料会污染操作设备,增加清洁的成本,且会降低操作设备的使用寿命。3.若操作人员不慎吸入因搅拌而飞扬至环境中的粉体物料,可能会造成对操作人员身体健康的影响。4.搅拌槽结合抽气单元及粉体处理单元,虽可解决粉体物料飞扬至环境中造成环境污染的问题,却会使物料搅拌装置的结构更为复杂,设备维护不易及设备成本增加。[0013]5.进行粉体物料容置桶清洗时,需以人工或机械方式拿至他处清洗,除会有环境污染问题之外,亦耗费人力或设备资源,增加制造成本。

实用新型内容缘此,鉴于传统物料搅拌装置的缺失,本实用新型的主要目的即是提供一种粉体物料溶解装置,改善传统物料搅拌装置在将粉体物料倒入溶解外槽中,以及在对粉体物料进行搅拌时,粉体物料飞扬至环境中,造成环境污染的二次公害、物料成本的浪费且结构复杂等缺点。本实用新型一种粉体物料溶解装置包括有一溶解外槽,具有一槽底,并定义有一内部空间;一粉体物料容置桶,供储放粉体物料,在该粉体物料容置桶具有一桶底,并在该桶底开设有至少一开口区域,该粉体物料容置桶承置在该溶解外槽的内部空间的承置部中,且该粉体物料容置桶的桶底与该溶解外槽的槽底之间具有一高度;一底盖板,能活动地对应盖覆在该粉体物料容置桶的桶底的开口区域;一顶杆,设置在该粉体物料容置桶的桶底下方位置,该顶杆的顶端抵顶于该底盖板的一顶抵点,将该底盖板顶起一高度,而在该底盖板与该粉体物料容置桶的桶底之间形成一落料空间。其中该顶杆是一中空管,并连通有一供水源,在该中空管的管壁开设有多个水流喷孔。其中该顶杆还连通有一气体源,并由该中空管的多个水流喷孔喷出气体。粉体物料溶解装置,还包括有一活动杆,该活动杆能活动地结合在该顶杆。其中该活动杆的顶端还结合有一磁性元件,而该底盖板由能被磁性吸附的金属材料所制成。其中该顶抵点于该底盖板的几何中心。其中该顶抵点于偏移该底盖板的几何中心的一偏移位置。其中该粉体物料容置桶的上方及该溶解外槽的顶部槽缘之一还设置有至少一顶部淋洗单元。其中该底盖板被该顶杆顶起的一端定义为被顶起端,而在相对于该被顶起端的相对端定义为一抵靠端,该底盖板的被顶起端被顶杆顶起一高度时,在该底盖板的抵靠端与该粉体物料容置桶的桶底之间还形成一平移落料空间。其中该底盖板的底部还形成有至少一凸缘或凹缘之一。本实用新型为解决现有技术的问题所采用的技术手段是将一粉体物料容置桶设置于一溶解外槽的内部空间,并在粉体物料容置桶的桶底下方位置设置一顶杆,取代传统物料搅拌装置以机械或人工将粉体物料倒入溶解外槽进行搅拌的技术。底盖板是可活动地对应盖覆在粉体物料容置桶的桶底的开口区域,通过顶杆的顶端将底盖板顶起一高度后,供水源的水经由顶杆的水流喷孔喷洒出,在水与粉体物料结合后即从底盖板与粉体物料容置桶的桶底之间形成的落料空间落下至溶解外槽,并利用设置于溶解外槽的内部空间的搅拌器,将落下至溶解外槽的粉体物料与水搅拌,使水与粉体物料充分结合。通过底盖板的底端形成的至少一凸缘,使顶杆的顶端在将底盖板顶起一高度时,顶杆的顶端会卡制在底盖板的底端的凸缘处,将底盖板定位于一预定位置,使底盖板不会因水流喷孔喷洒出水或其他因素而任意移动。此外,在顶杆的中空管中更设置有一活动杆,通过供水源的水经由顶杆的水流喷孔喷洒出的同时,亦会将活动杆以一垂直方向推移,使活动杆的顶端将底盖板顶起一高度。活动杆的顶端在将底盖板顶起一高度时,活动杆的顶端会卡制在底盖板的底端的凸缘处,将底盖板定位于一预定位置。[0021]当顶杆的水流喷孔停止喷洒水时,通过顶杆连接的气体源由水流喷孔喷出气体,可将粉体物料容置桶中的水份清除。而在进行进行溶解外槽的清洗时,可通过设置于溶解外槽的顶部槽缘的至少一槽体冲洗单元对溶解外槽进行清洗。此外,粉体物料容置桶的顶部更设置有至少一顶部淋洗单元,通过顶部淋洗单元对粉体物料容置桶进行清洗,不需将粉体物料容置桶拿起至他处清洗,使粉体物料容置桶的清洗更加地便利。本实用新型的另一实施例中,底盖板的被顶起端被顶杆顶起一高度时,在该底盖板的抵靠端与该粉体物料容置桶的桶底之间还形成一平移落料空间。本实用新型粉体物料溶解装置的优点包括有(I)本实用新型通过顶杆的顶端将底盖板顶起一高度后,供水源的水经由顶杆的水流喷孔喷洒出,在水与粉体物料结合后即从落料空间落下至溶解外槽,再以搅拌器进行搅拌,使粉体物料不会因受到搅拌飞扬至环境中而对环境造成影响。(2)操作设备不会受到粉体物料的污染,可增加操作设备的使用寿命。(3)操作人员在进行粉体物料的搅拌过程中不会吸入粉体物料,可保障操作人员的身体健康。(4)本实用新型的粉体物料溶解装置,结构简单,设备维护容易且成本低。(5)本实用新型的粉体物料溶解装置,通过顶部淋洗单元对粉体物料容置桶进行清洗,不需将粉体物料容置桶拿起至他处清洗,使粉体物料容置桶的清洗更加地便利,也不会有环境污染的问题。(6)本实用新型中的底盖板的被顶起端被顶升至一高度而形成一落料空间之外,亦可以通过在底盖板的抵靠端与粉体物料容置桶的桶底之间形成的平移落料空间,使粉体物料更容易落下至溶解外槽。(7)本实用新型可通过顶杆的喷洒水动作与顶杆的活动杆的序列重复动作而使底盖板产生上下晃动的运动,可提升落料及清洗效果。

图1是显示现有物料搅拌装置的结构示意图之一;图2是显示现有物料搅拌装置的作动示意图;图3是显示现有物料搅拌装置的结构示意图之二 ;图4是显示本实用新型第一实施例的结构示意图;图5是显示本实用新型第一实施例的作动示意图之一;图6是显示本实用新型第一实施例的作动示意图之二 ;图7是显示本实用新型第一实施例的作动示意图之三;图8是显示本实用新型第二实施例的局部结构放大示意图;图9是显示本实用新型第三实施例的局部结构放大示意图;图10显示本实用新型第四实施例的作动示意图之一;图11显示本实用新型第四实施例的作动示意图之二 ;图12 图15显示本实用新型通过顶杆的喷洒水动作与顶杆的活动杆使底盖板产生上下晃动的序列动作示意图。主要元件符号说明I溶解外槽11槽底12内部空间13承置部14顶部槽缘15溶解外槽盖板2粉体物料容置桶21桶底22开口区域3底盖板31底部311凸缘312凹缘313被顶起端314抵靠端4、4a顶杆41顶端42水流喷孔43活动杆431顶端44磁性组件5供水源6搅拌器7气体源8槽体冲洗单元9顶部淋洗单元A落料空间B平移落料空间H1、H2、H3 高度LI抽气单元L2粉体处理单元S粉体物料Cl几何中心C2偏移位置Pl顶抵点P2顶抵点Il掀启方向[0083]12垂直方向具体实施方式
本实用新型所采用的具体实施例,将通过以下的实施例及附呈图式作进一步的说明。请参阅图4及图6,其中图4是显示本实用新型第一实施例的结构示意图,图5是显示本实用新型第一实施例的作动示意图之一,而图6是显示本实用新型第一实施例的作动示意图之二。如图所示,本实用新型的粉体物料溶解装置,包括有一溶解外槽1、一粉体物料容置桶2、一底盖板3及一顶杆4。其中溶解外槽I具有一槽底11并定义有一内部空间12。粉体物料容置桶2是供储放粉体物料S,粉体物料容置桶2具有一桶底21,并在桶底21开设有至少一开口区域22。粉体物料容置桶2是设置于溶解外槽I的内部空间12中,且粉体物料容置桶2的桶底21与溶解外槽I的槽底11之间具有一高度H1。底盖板3是可活动地对应盖覆在粉体物料容置桶2的桶底21的开口区域22,在底盖板3盖覆粉体物料容置桶2的桶底21的开口区域22时,可防止粉体物料S从开口区域22中溢出。顶杆4是设置在粉体物料容置桶2的桶底21下方位置,顶杆4具有一顶端41。顶杆4是一中空管,并连通有一供水源5,在中空管的管壁开设有多个水流喷孔42,使供水源5的水在经由中空管后由水流喷孔42喷洒出。此外,在中空管中更设置有一活动杆43,活动杆43是可活动地设置在顶杆4中。溶解外槽I设有一承 置部13,供粉体物料容置桶2承置定位在溶解外槽I的内部空间12,且底盖板3恰对应于顶杆4的顶端41,使顶杆4的顶端41将底盖板3的被顶起端313顶起一高度H2,此时该底盖板3的抵靠端314是抵靠在粉体物料容置桶2的桶底21。如此,使得在粉体物料容置桶2的桶底21与底盖板3之间形成一落料空间A。其中顶杆4的顶端41是顶抵于底盖板3底面位在盖板几何中心Cl的顶抵点P1,当然亦可以顶抵于底盖板3底面位在偏移于盖板几何中心的一偏移位置C2的顶抵点P2。顶杆4的顶端41将底盖板3顶起一高度H2后,供水源5的水经由顶杆4的水流喷孔42喷洒出,在水与粉体物料S结合后即从底盖板3与粉体物料容置桶2的桶底21之间形成的落料空间A落下至溶解外槽I中(如图5所示)。因底盖板3的底部31形成有至少一凸缘311,故顶杆4的顶端41在将底盖板3顶起一高度H2时,顶杆4的顶端41会卡制在底盖板3的底部31的凸缘311处,将底盖板3
定位于一预定位置。当顶杆4的顶端41顶抵于底盖板3的顶抵点Pl或顶抵点P2时,通过供水源5的水经由顶杆4的水流喷孔42喷洒出的同时,亦会将活动杆43以一垂直方向12推移,使活动杆43的顶端431将底盖板3顶起一高度H3 (如图6所示)。活动杆43的顶端431在将底盖板3顶起一高度H3时,活动杆43的顶端431会卡制在底盖板3的底部31的凸缘311处,将底盖板3定位于一预定位置(如图6所示)。此时,由于底盖板3的被顶起端313被顶升至一高度H3,致使底盖板3的抵靠端314稍往顶杆4的方向位移一段距离,而在底盖板3与粉体物料容置桶2的桶底21之间形成一平移落料空间B,使粉体物料S更容易落下至溶解外槽1,不会有落料死角的问题。此外,溶解外槽I的内部空间12中设置有一搅拌器6,落下至溶解外槽I的粉体物料S经由设置于溶解外槽I的内部空间12的搅拌器6搅拌,使水与粉体物料S充分结合。当顶杆4的水流喷孔42停止喷洒水时,通过顶杆4连接的气体源7由水流喷孔喷出气体,可清除粉体物料容置桶2中的水份。溶解外槽I的顶部槽缘14更设置有至少一槽体冲洗单元7,在进行溶解外槽I的清洗时,可通过槽体冲洗单元7对溶解外槽I进行清洗。请参阅图7,是显示本实用新型第一实施例的作动示意图之三。如图所示,粉体物料容置桶2的顶部更设置有至少一顶部淋洗单元9。在进行溶解外槽I时,可通过槽体冲洗单元7对溶解外槽I进行清洗,而需对粉体物料容置桶2进行清洗时,则可通过顶部淋洗单元9对粉体物料容置桶2进行清洗。请参阅图8,是显示本实用新型第二实施例的局部结构放大示意图。如图所示,底盖板3的底部31形成有至少一凹缘312,使活动杆43的顶端431在将底盖板3顶起时,活动杆43的顶端431会卡制在底盖板3的底部31的凹缘312处,将底盖板3定位于一预定位置。请参阅图9,是显示本实用新型第三实施例的局部结构放大示意图。如图所示,活动杆43的顶端431还结合有一磁性组件44,而该底盖板3是由可被磁性吸附的金属材料(例如铁、钴、镍)所制成。活动杆43的顶端431在将底盖板3顶起时,通过顶端431结合的磁性组件44所产生的磁力,可将底盖板3吸附。图10显示本实用新型第四实施例的作动示意图之一,图11显示本实用新型第四实施例的作动示意图之二。此实施例的结构设计与图4所示实施例相同,其差异在于本实施例中采用了具有较长长度的顶杆4a。当粉体物料容置桶2承置在溶解外槽I的内部空间12 —半时,顶杆4a的顶端41将底盖板3的被顶起端313顶起一高度,使得在粉体物料容置桶2的桶底21与底盖板3之间形成一落料空间A。而当粉体物料容置桶2整个承置在溶解外槽I的内部空间12时,顶杆4a的顶端41将底盖板3的被顶起端313更顶起一更高的高度,使得在粉体物料容置桶2的桶底21与底盖板3之间形成一落料空间A。同时,底盖板3的抵靠端314稍往顶杆4a的方向位移一段距离,而在底盖板3与粉体物料容置桶2的桶底21之间形成一平移落料空间B。图12 图15显示本实用新型可通过顶杆的喷洒水动作与顶杆的活动杆的动作提升落料及清洗效果的动作示意图,其中图12显示落料的动作示意图。此时,顶杆4的顶端41将底盖板3的被顶起端313顶起一高度时,会在粉体物料容置桶2的桶底21与底盖板3之间形成一落料空间A。图13显示顶杆喷水的动作示意图,其显示若顶杆4的水流喷孔42喷洒出水(如图13所示),则活动杆43会被往上推升一高度。此一动作会进一步在底盖板3与粉体物料容置桶2的桶底21之间形成一平移落料空间B,且同时使得底盖板3产生掀动推升的动作。图14显示顶杆停止喷水的动作示意图,其显示若停止顶杆4的水流喷孔42喷水动作(如图14所示),则活动杆43会回复到原先的低位位置,进而使底盖板3被掀起的角度回复到如图12所示的位置。[0104]图15显示顶杆再喷水的动作示意图。在停止顶杆4的喷水动作后,若再度使顶杆4的水流喷孔42喷洒出水,则活动杆43会被再度往上推升。经过图12 图15所示的序列重复动作,会使得底盖板产生上下晃动的运动,而使得落料及清洗效果更佳。以上所举实施例仅是用以说明本实用新型,并非用以限制本实用新型的范围,凡其他未脱离本实用新型所揭示的精神下而完成的等效修饰或置换,均应包含于后述申请专利范围内。
权利要求1.一种粉体物料溶解装置,其特征在于包括有一溶解外槽,具有一槽底,并定义有一内部空间;一粉体物料容置桶,供储放粉体物料,在该粉体物料容置桶具有一桶底,并在该桶底开设有至少一开口区域,该粉体物料容置桶承置在该溶解外槽的内部空间的承置部中,且该粉体物料容置桶的桶底与该溶解外槽的槽底之间具有一高度;一底盖板,能活动地对应盖覆在该粉体物料容置桶的桶底的开口区域;一顶杆,设置在该粉体物料容置桶的桶底下方位置,该顶杆的顶端抵顶于该底盖板的一顶抵点,将该底盖板顶起一高度,而在该底盖板与该粉体物料容置桶的桶底之间形成一落料空间。
2.如权利要求1的粉体物料溶解装置,其特征在于,该顶杆是一中空管,并连通有一供水源,在该中空管的管壁开设有多个水流喷孔。
3.如权利要求2的粉体物料溶解装置,其特征在于,该顶杆还连通有一气体源,并由该中空管的多个水流喷孔喷出气体。
4.如权利要求1的粉体物料溶解装置,其特征在于,还包括有一活动杆,该活动杆能活动地结合在该顶杆。
5.如权利要求1的粉体物料溶解装置,其特征在于,该活动杆的顶端还结合有一磁性元件,而该底盖板由能被磁性吸附的金属材料所制成。
6.如权利要求1的粉体物料溶解装置,其特征在于,该顶抵点于该底盖板的几何中心。
7.如权利要求1的粉体物料溶解装置,其特征在于,该顶抵点于偏移该底盖板的几何中心的一偏移位置。
8.如权利要求1的粉体物料溶解装置,其特征在于,该粉体物料容置桶的上方及该溶解外槽的顶部槽缘之一还设置有至少一顶部淋洗单元。
9.如权利要求1的粉体物料溶解装置,其特征在于,该底盖板被该顶杆顶起的一端定义为被顶起端,而在相对于该被顶起端的相对端定义为一抵靠端,该底盖板的被顶起端被顶杆顶起一高度时,在该底盖板的抵靠端与该粉体物料容置桶的桶底之间还形成一平移落料空间。
10.如权利要求1的粉体物料溶解装置,其特征在于,该底盖板的底部还形成有至少一凸缘或凹缘之一。
专利摘要本实用新型是一种粉体物料溶解装置,包括有一溶解外槽、一粉体物料容置桶、一底盖板以及一顶杆。底盖板可活动地对应盖覆在粉体物料容置桶的桶底的开口区域,通过顶杆的顶端将底盖板顶起一高度后,供水源的水经由顶杆的水流喷孔喷洒出,在水与粉体物料结合后即从底盖板与粉体物料容置桶的桶底之间形成的落料空间落下至溶解外槽,并通过设置于溶解外槽的顶部槽缘的槽体冲洗单元及设置于粉体物料容置桶的顶部的顶部淋洗单元进行清洗。
文档编号B01F1/00GK202876669SQ20122053225
公开日2013年4月17日 申请日期2012年10月17日 优先权日2012年10月17日
发明者官庆福 申请人:宇晟电脑资讯股份有限公司
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