1.一种制备微粒的装置，其特征在于，包括：
高能脉冲激光器；
与所述高能脉冲激光器相对的约束层；
所述约束层不与高能脉冲激光器相对的一面依次设置有牺牲层与液态靶材层；
开口容器；所述开口容器中设置有与靶材不相溶的液体，且所述约束层、牺牲层与液态靶材层位于液体中。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述高能脉冲激光器与约束层之间还设置有聚焦镜。
3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述牺牲层为对高能脉冲激光吸收超过10％的物质层。
4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述牺牲层的厚度为20～140nm。
5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述液态靶材层的厚度为10μm～2mm。
6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，还包括位于液体中的接收层；所述接收层位于液态靶材层的下方，且不与液态靶材层接触。
7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，还包括垫块层；所述垫块层设置于所述接收层与开口容器底层之间。
8.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述开口容器置于三维移动平台上。
9.一种制备微粒的方法，其特征在于，包括：
采用权利要求1～8任意一项所示的装置，使高能脉冲激光作用与牺牲层，得到微粒。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述高能脉冲激光的能量为5～50mJ；频率为单脉冲或1～10Hz。