一种絮凝池沉淀物清理装置的制作方法

文档序号:14753521发布日期:2018-06-22 21:32阅读:582来源:国知局
一种絮凝池沉淀物清理装置的制作方法

本发明专利涉及水处理领域,具体涉及一种絮凝池沉淀物清理装置。



背景技术:

在水处理过程中,水中的一些悬浮物质及肢体物质的粒径非常细小。为去除这些物质通常借助于絮凝的手段,也就是说在水中加入适当的絮凝剂,经过充分混和,使胶体稳定性被坏 (脱稳)并与絮凝剂水介后的聚合物相吸附,使颗粒具有絮凝性能。而絮凝池的目的就是创造合适的水力条件使这种具有絮凝性能的颗粒在相互接触中聚集,以形成较大的絮凝体(絮粒)。因此,絮凝池设计是否确当,关系到絮凝的效果,而絮凝的效果又直接影响后续处理的沉淀效果。在絮凝的过程中往往会产生大量的沉淀,现有的絮凝池在清理沉淀时往往需要将水排空再对沉淀进行清理,不能实现连续生产,生产效率低。



技术实现要素:

针对现有技术中的不足,本发明提供了一种絮凝池沉淀物清理装置。

为了解决上述技术问题,本发明采用如下技术方案:

一种絮凝池沉淀物清理装置,包括絮凝池,所述絮凝池底部设有长方形的开口,所述开口下方设有沉积室,所述沉积室顶部通过过渡部与所述开口四周的絮凝池底壁相连接,所述过渡部的两侧设有板槽,所述板槽内设有伸缩板,所述伸缩板的外侧连接有伸缩杆,所述伸缩杆连接驱动装置一,所述沉积室的一侧设有排污管,所述沉积室内还设有推板,所述推板与沉积室设有排污管的一侧内壁相平行,所述推板的外侧连接推杆,所述推杆连接驱动装置二。

作为优选,所述伸缩板的宽度等于所述过渡部内腔的宽度,且两个伸缩板的长度之和大于所述过渡部内腔的长度。

作为优选,所述伸缩板外包裹有密封层。

作为优选,所述密封层为耐磨橡胶层。

作为优选,所述絮凝池的底部为中间向下凹陷的斜面,所述开口位于所述絮凝池的中部。

作为优选,所述过渡部的底端与沉积室顶部密封连接,所述过渡部的顶部与絮凝池的底壁密封连接。

作为优选,所述驱动装置一为电机或液压缸。

作为优选,所述驱动装置二为电机或液压缸。

本发明的有益效果是:

本发明在絮凝池的底部设置了沉积室,在沉积室与絮凝池相连接出设置了伸缩板,通过伸缩板的移动可以控制絮凝池底部的开口打开或者关闭,絮凝池正常工作时,开口打开,沉淀物会自动堆积到沉积室中,当沉淀物累积到一定程度后,控制伸缩板伸出将絮凝池底部开口关闭,然后通过沉积室中的推板将沉积室中的沉淀物推入排污管排出,清理完沉积室后,再打开开口,这样在清理沉淀物的时候,絮凝池依然能够正常运转,实现了连续生产,提高了生产效率。

附图说明

图1是本发明的结构示意图;

图2是图1中A-A向剖视图。

附图标记列表:

1-絮凝池;2-开口;3-沉积室;4-过渡部;5-板槽;6-伸缩板;7-伸缩杆;8-驱动装置一;9-排污管;10-推板;11-推杆;12-驱动装置二;13-密封层。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步描述:

如图1、图2所示,一种絮凝池沉淀物清理装置,包括絮凝池1,所述絮凝池1底部设有长方形的开口2,所述开口2下方设有沉积室3,所述沉积室3顶部通过过渡部4与所述开口2四周的絮凝池1底壁相连接,所述过渡部4的两侧设有板槽5,所述板槽5内设有伸缩板6,所述伸缩板6的外侧连接有伸缩杆7,所述伸缩杆7连接驱动装置一8,所述沉积室3的一侧设有排污管9,所述沉积室3内还设有推板10,所述推板10与沉积室3设有排污管9的一侧内壁相平行,所述推板10的外侧连接推杆11,所述推杆11连接驱动装置二12。

作为优选,所述伸缩板6的宽度等于所述过渡部4内腔的宽度,且两个伸缩板6的长度之和大于所述过渡部4内腔的长度。

作为优选,所述伸缩板6外包裹有密封层13。

作为优选,所述密封层13为耐磨橡胶层。

作为优选,所述絮凝池1的底部为中间向下凹陷的斜面,所述开口2位于所述絮凝池1的中部。

作为优选,所述过渡部4的底端与沉积室3顶部密封连接,所述过渡部4的顶部与絮凝池1的底壁密封连接。

作为优选,所述驱动装置一8为电机或液压缸。

作为优选,所述驱动装置二12为电机或液压缸。

本发明在絮凝池1的底部设置了沉积室3,在沉积室3与絮凝池1相连接出设置了伸缩板6,通过伸缩板6的移动可以控制絮凝池1底部的开口2打开或者关闭,絮凝池1正常工作时,开口2打开,沉淀物会自动堆积到沉积室3中,当沉淀物累积到一定程度后,控制伸缩板6伸出将絮凝池1底部开口2关闭,然后通过沉积室3中的推板10将沉积室3中的沉淀物推入排污管9排出,清理完沉积室3后,再打开开口2,这样在清理沉淀物的时候,絮凝池1依然能够正常运转,实现了连续生产,提高了生产效率。

本发明方案所公开的技术手段不仅限于上述实施方式所公开的技术手段,还包括由以上技术特征任意组合所组成的技术方案。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。

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